JP2005537393A - 耐腐食性の構成部品、該構成部品の製造のための方法及び、該方法の実施のための装置 - Google Patents

耐腐食性の構成部品、該構成部品の製造のための方法及び、該方法の実施のための装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2005537393A
JP2005537393A JP2004535187A JP2004535187A JP2005537393A JP 2005537393 A JP2005537393 A JP 2005537393A JP 2004535187 A JP2004535187 A JP 2004535187A JP 2004535187 A JP2004535187 A JP 2004535187A JP 2005537393 A JP2005537393 A JP 2005537393A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
substrate
plasma
aluminum
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004535187A
Other languages
English (en)
Inventor
ゲーディケ クラウス
フィーツケ フレート
シュトラーハ シュテフェン
キルヒホフ フォルカー
ホフマン クラウス−ディーター
ホルシュタイン フランク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Publication of JP2005537393A publication Critical patent/JP2005537393A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/321Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer with at least one metal alloy layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

本発明は、耐腐食性の構成部品、有利には結合エレメントであって、鋼材料製若しくは軽金属材料製の基体及び腐食防止作用の表面層から成っている形式のものに関し、この場合に表面層は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金或いはアルミニウム化合物からなりかつ1乃至50μm、有利には10乃至25μmの平均的な厚さ及び気孔のない密な微粒の組織を有する少なくとも1つの層から成っており、前記組織はプラズマアシスト式真空蒸着法によって形成されている

Description

本発明は、基体及び腐食止めの表面層から成る耐腐食性の構成部品、該構成部品の製造のための方法及び、該方法の実施のための装置に関する。この種の構成部品はしばしば結合部材(結合エレメント)、例えばリベット、ボルト若しくはねじとして形成されている。該構成部品は有利には車両、航空機及び宇宙飛行産業、並びに機械製作及びプラント設備等で用いられる。
種々の公知の構成部品の腐食止めの表面層は、天然の金属やセラミック若しくは有機物質からなっている。構成部品の基体に表面層を施すために、化学的若しくは電気化学的な析出法、特に電気めっきを用いている。このような例は銅めっき、ニッケルめっき、クロムめっき並びにカドミウムめっきである。亜鉛や亜鉛合金からなる層は、溶融液内浸漬被覆によって施される。腐食止めの表面層を有機物質によって形成する場合には、該形成は一般的にスプレー若しくは網状結合によって行われる。例えばセラミックの支持層と該支持層内に微細に分配された箔状の金属材料から成る金属・セラミックの混合層も用いられる(DELTA-Tone, DACROMET[US 4391885, US 5131948])。
腐食止めの表面被覆を有する前記すべての構成部品は、その製造のために、多かれ少なかれ環境に負荷のかかる表面被覆法を必要とするものである。環境保護に対する要求の高まりに伴って、排水や廃品若しくは溶液の処理のためのコストも増大している。さらに、表面層の多くの材料、例えばカドミウムやニッケル及びクロム自体に起因する毒性の影響、或いは健康障害に対する疑念も著しい。
腐食止めの表面層を備える構成部品は、原理的には、閉じた真空室内での真空蒸着によって前記欠点、即ち環境負荷なしに製造される。真空蒸着法は材料の選択に関しても大きな自由度を有している。例えば表面層はアルミニウムから形成される。しかしながら従来は、この種の表面層は高価な別の付加層及び/又は後処理を施さなければ十分な耐腐食機能を有していない。物理的に析出された数マイクロメータ乃至約20マイクロメータの厚さの表面層による十分な耐腐食作用は、これまでイオン反応若しくはプラズマ反応による被覆法を用いた場合にのみ報告されている。例えばアルミニウム層やアルミニウム・マグネシウム層は、いわゆるアンバランスのマグネトロンを用いたマグネトロンスパッタリングによって形成され[ R.l.Bates, R.D.Arnell: Microstructure of novel corrosion-resistant coatings for steel components by unbalanced magnetron sputtering. Surf. Coat. Technol. 89(1997), 204-212]、若しくはチタン層は、プラズマ活性による電子ビーム・高濃度蒸気によって平らな鋼薄板上に堆積される[ C.Metzner, B.Scheffel, K.Goedicke: Plasma-activated electron beam deposition. Surf. Coart. Technol. 86-87(1996), 769-775]。一番目の方法はスパッタリングによる析出率の小さいことに基づき不経済であり、二番目の方法は三次元形状の支持体にとってまだ利用できない。
米国特許第3750623号明細書、米国特許第3926147号明細書及び米国特許第4116161号明細書によりすでに1975年以来公知のいわゆるMc-Donnell-Douglas-法並びに、IDV-法(Ion-Vapor-Deposition)として知られる手段は、これまでイオン反応式の唯一のPVD-法(PVD= physical vapor deposition)であり、該PVD-法は航空及び宇宙飛行産業で使用されている。IDV-法は、基体上に蒸着法により腐食止めの表面層を形成するための1つのPVD-法であり、基体は回転するメッシュ状若しくは格子状のバスケット(かご)内で運動させられる。この場合にはグロー放電を用いてイオン衝突に基づく濃縮プロセスを生ぜしめて、密な層組織を得るようになっている。Mc-Donnell-Douglas-法を用いて、IDV-法と同様に腐食止めの薄膜を形成できるものの、該薄膜の耐腐食作用は後処理なしには不十分なものである。従って一般的に、ガラス球ジェットによる機械的な手間のかかる後処理、例えば組織に対するピーニング、即ち圧縮加工を行っており、規格MIL-C-83488 Cに適合する耐腐食性を達成するためにクロム酸塩処理若しくは塗装処理を必要としている。Mc-Donnell-Douglas-法による被覆においては、蒸気発生は基体の受容のための格子状のバスケットの外側で行われて不利である。蒸気のほぼ30乃至50%の部分は、基体の本来の被覆のために消費されると共に層欠陥につながる粒子やフレークを形成してしまう。前記両方のPVD-法は全体的にコスト高であり、従って一般的な機械及び車両構造体への利用を妨げている。
本発明の課題は、基体及び腐食止め、即ち耐腐食性の表面層から成る構成部品を改善し、かつ該構成部品の製造方法並びに、該製造方法の、公知技術の欠点なしに実施可能な装置を提供することである。特に製造コストを著しく削減し、かつ表面層の十分な耐腐食性(腐食止め作用)を達成し、この場合に施された層の組織を、後から機械的な手段で圧縮することは避けたい。
前記課題は、構成部品において請求項1の特徴部分に記載の構成によって解決される。構成部品の有利な実施態様を、請求項1乃至4に記載してある。本発明に基づく構成部品の製造のための方法は請求項5に記載してあり、該方法の有利な実施態様を請求項6乃至14に記載してある。本発明に基づく該方法の実施のための装置は請求項15に記載してあり、該装置の有利な実施態様は請求項16乃至18に記載してある。
本発明の要旨は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金或いはアルミニウム化合物からなる十分な厚さの層を、層形成中のイオンエネルギーの比較的少ない密なプラズマの直接的な作用によってのみ得られる層構造で基体上に形成することにある。遊離直後に生じる密な層構造は、層に対して付加的に行う機械的な圧縮を不要にしている。基体を静止状態で分配して蒸気源に対する位置を変え、かつ特殊なプラズマを凝結中に、プラズマ源と基体との間における電気的な遮蔽作用のある格子若しくはネットの介在なしに直接に作用させることによって、複雑な形状の基体にも品質の高い均一な被覆を達成することができる。このような層は、微粒でほぼ気孔のない密な組織によって特徴付けられる。化学及び物理的な物質特性と、プラズマ活性された層形成プロセス中に基体の表面に形成される表面層の層組織とのコンビネーションは、層の高い耐食作用のための重要なファクターである。本発明に基づく表面層の平均的な厚さは1乃至50μmであり、この場合に表面層は10乃至25μmの層厚さで既に傑出した耐食作用を示している。下限値の層厚さは、基体の表面粗さの極めて小さい場合及び限定的な耐食性にとって用いられる。高い要求にとって、特に耐食特性のほかに装飾的な外観を必要とし、かつ/又は、構成部品に耐摩耗性の要求を課してある場合には、本発明に基づく構成部品は、付加的にクロム酸塩若しくは燐酸塩及び/又は有機材料からなる層を有していてよい。このような層は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金或いはアルミニウム化合物からなる表面層上に公知の方法で施されるものである。構成部品にアルミニウム合金からなる表面層を設けてある場合には、アルミニウム合金として特に、アルミニウムとマグネシウムとからなる、マグネシウム割合1乃至10重量パーセント、有利には3乃至5パーセントの合金、或いはアルミニウムと亜鉛とからなる、亜鉛割合1乃至10重量パーセント、有利には2乃至5パーセントの合金が適している。本発明に基づき表面層は、反応ガスの作用下で堆積されて、酸化アルミニウムや窒化アルミニウム若しくは炭化アルミニウムのようなアルミニウム化合物を含んでいてよい。
本発明に基づく構成部品の製造のための方法は、真空蒸着装置内で行われる。真空蒸着装置は、水平軸を中心として回転可能なドラム若しくは回転バケット(回転かご)を含んでいる。回転バケットの内部に蒸発源及びプラズマ源を配置してある。複数の基体が、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層或いは化合物層の形成のために回転バケット内に供給して回転バケットの内壁に固定され、蒸発器で発生された蒸気内を一回若しくは複数回通される。次いで、蒸発源に対する基体の向き及び位置を変化させるために基体の攪拌を行って、変化された向き及び位置で固定された基体は再び蒸気内を一回若しくは複数回通される。基体の攪拌と固定との繰り返し並びに基体の蒸着は、前記平均厚さの表面層を基体に欠陥なく全面的に形成するまで継続される。該製造方法は、大量生産品の処理のために連続運転で実施されるようになっていてよい。重要な点として、蒸発器は回転バケットの内部に配置されていて、従って直接に、即ちネット若しくは格子或いはメッシュ構造の介在なしに層形成を生ぜしめ、蒸着被覆はプラズマ作用によって行われる。層形成過程は円筒陰極・アーク放電装置のプラズマ内で行われる。この種のプラズマにとって、イオンエネルギーは数電子ボルト乃至数十ボルト電子であり、電荷担体密度は1010/cmを越える領域、標準的には1011/cmを越える領域にある。プラズマの効率の観点からも、プラズマ源は回転バケットの内部に配置されていて有利であり、従って、電位に影響を及ぼすようなメッシュ若しくはネットは円筒陰極・プラズマ源と被覆すべき基体との間に存在していない。このような条件下で形成された表面層は、ピンホール若しくは気孔のない密な微粒の組織を有しており、このような組織は構成部品の耐食作用を生ぜしめるものである。
蒸気及びプラズマ領域を経て基体を輸送する際に基体の固定を遠心力で行い、このために回転バケットの所定の最小回転数を保証すると有利である。
構成部品の基体を強磁性の鋼材料から形成してある場合には、基体の磁力固定も可能である。このために回転バケットの上方の領域でかつ回転バケットの外側に、複数の永久磁石から成る磁石装置若しくは電磁石装置を配置してあり、これによって磁束線は回転バケットの壁を通って基体を磁力固定する。基体の位置及び向きの変化を伴う攪拌は、回転バケットと一緒に運動する基体が磁場の領域を通過して重力の影響を受けるようになった場合に行われる。
製造方法の別の実施態様では、基体の位置及び向きの変化を伴う攪拌は、機械的に作用するかき落とし部材を用いて行われ、かき落とし部材は基体を蒸気領域の通過の後に回転バケットの内壁から分離する。モーターによって回転駆動可能なブラシも、基体の位置及び向きを大きく変化させるために適している。
製造方法の別の実施態様では、回転バケットの回転数は周期的に変化され、それも該回転数は、遠心力によって基体を固定できる回転数よりも一時的に増大され、かつ遠心力によって基体を固定できる回転数よりも一時的に減少され、これによって基体は重力の作用で攪拌され、即ち基体の位置及び向きは変えられる。
製造方法の別の実施態様では、強磁性の基体を遠心力で固定して製造する場合に基体の、向き及び位置を変えるための攪拌は、回転するローラ及び該ローラ内に配置されて同じく回転する磁極から成る装置を用いて行われる。これによって回転バケットとかき落とし装置との間の機械的な接触は避けられ、基体の損傷のない機械的な処置を達成できる。
基体の十分な攪拌のための前述の手段は例として示してあるもので、同等の別のプロセス若しくは装置によって代替可能である。
蒸発器としては、直接に電流を流すことによって加熱されるいわゆるボート形蒸発器(boat evaporator)を用いると有利であり、この場合に表面層のための蒸発材料は線材の形状で供給される。ボート(舟)は一般的にホウ化チタンから形成されている。同等の複数のボート形蒸発器を並列に並べた配置構成は、長さ寸法の大きな回転バケットを有する蒸着装置内での製造方法の実施に適している。
本発明に基づく製造方法の別の実施態様では、アルミニウム蒸気若しくはアルミニウム合金の蒸気を形成するために1つ、有利には複数の電子ビーム蒸発器を用いるようになっている。出力の小さい被覆装置においては横型蒸発器を用いる。出力の大きい被覆装置においては電子ビーム蒸発器を用い、電子ビーム蒸発器は回転バケットの軸に対して平行に延びる有利にはセラミック製の蒸発器坩堝並びに、電子ビームのための軸方向の電子銃の形の別個の発生、集束及び偏向用ユニットを有している。
本発明に基づく方法の有利な実施態様では、基体は表面層の形成の前に該基体の表面の活性のために密なプラズマの作用にさらされる。このようなそれ自体公知のプラズマ処理は、異物原子の脱着や酸化汚染物質の除去及び表面のエネルギー活性を生ぜしめ、その結果、良好な付着性並びに基体上での腐食止め表面層の均一な成長を保証する。本発明に基づく方法の有利な実施態様では、基体の表面の前処理及び活性化は、1つ若しくは複数の円筒陰極・アーク放電装置、即ち表面層のプラズマアシスト析出にも利用される同一のプラズマ源の密なプラズマを用いて行われる。このために有利には、プラズマ電位に対して規定された負の電位を回転バスケットに生ぜしめて、プラズマ前処理の際のイオンエネルギーを適切に調節するようになっている。
次に実施例で本発明に基づく構成部品、該構成部品の製造のための方法及び、該方法の実施のために必要な装置を説明する。
例として構成部品(構成エレメント)は、長さ6mm及びシャフト直径4mmの中空リベットの機能を有しており、このような中空リベット若しくはブラインドリベットは機械構造及び車両構造において機械部分、装置部分及び車体部分の解離不能な機械的結合のための結合エレメントとして大量に使用される。基体(母体)の材料は、合金されていない炭素鋼C35(材料番号1.0501)である。本発明に基づき基体は、平均25μm厚さのアルミニウム・合金層によって被覆されている。リベットシャフトの凹設部の内面では層厚さはほぼ15μmである。表面層はアルミニウム・マグネシウム合金AlMg3から成っており、該合金はほぼ3重量パーセントのマグネシウム割合を有している。表面層の光電式顕微鏡検査の研摩画像は、気孔又はピンホールのない粒径1μmの密な微粒組織を示している。棒状の層成長、ひいては層全体を貫通するような粒境界は生じていない。塩水噴霧試験において200時間後にも知覚可能な赤錆は生じていない。多数の構成部品の検査によって明らかなように、該構成部品は航空機構造で普及している規格MIL-C-83488 Cの仕様を満たしている。基体上にAlMg3の表面層を施すための被覆法は、真空被覆装置内で行われるPVD-法を含んでいる。
前記被覆装置の主室はほぼ1立方メートルの容積を有していて、直径800mm及び長さ700mmの水冷式の回転バスケットを受容している。回転バスケット(回転かご)は水平に片側で支承されていて、モータを用いて標準的には毎分70回転で駆動される。回転バスケットの円周面は閉じられている。回転駆動部と相対する端面に横桁を不動に取り付けてあり、該横桁は、各1つのTiB-ボート及び1つの線材送り装置並びに3つの中空陰極・プラズマ源を備えていて互いに100mmの相互間隔で並べて配置された6つのボート形蒸発器のための組み立てプレートとして用いられている。ボート形蒸発器はそれぞれ800A及び15Vで加熱される。線材送りによって、毎分及び蒸発器当たり5グラムの蒸発量を生ぜしめる。線材はAlMg3 F22の組成及び特性を有している。中空陰極アーク放電は、80sccmのアルゴン供給によって300A及び30乃至35Vで、各中空陰極(円筒形陰極)とボート形蒸発器間に対称的に配置されて陽極として接続された2つの電極との間に生ぜしめられる。被覆装置は真空中断なしにほぼ連続的に作動する。このために被覆装置は、25kgの基体の供給及び排出のための個別に排気可能な真空ロックゲートを備えている。回転バスケット内への供給ロックゲートから回転バスケットの排出ロックゲートへの基体の引き渡しは、重力の作用下でバルブ及び管状の案内装置を介して行われる。基体は脱脂及び洗浄過程の後に、25kgの分量で被覆装置の供給ロックゲート内に装填される。基体は脱気の後に回転バケット内に引き渡されて、そこで10分間にわたって密な中空陰極・プラズマによって前処理される。この場合に回転バケットは500Vの負の電位にある。プラズマ反応による蒸着のための後続のプロセスは20分を必要とする。プラズマ前処理及び被覆中に、基体は遠心力によって回転バケットの内壁に固定されていて、均一に分配されて互いにほぼ3つの箇所で静的に接触している。回転する金属ブラシによって基体を周期的にかき落として、新たに遠心力固定するようになっている。被覆された基体を排出ロックゲートへ引き渡すために、回転バケットは停止されて、傾けられる。この場合に、流れ落ちる構成部品と蒸発器及びプラズマ源との衝突は、旋回可能なパネルによって防止される。各バッチのほぼ25kgの被覆された構成部品は、35分の時間間隔で装置から排出ロックゲートを介して排出される。排出された構成部品は検査されて、所定量毎に包装される。被覆装置の生産能力を高めかつ表面層の費用のかかる後処理を避けるようにすることは、本発明に基づく構成部品の製造コストを節減するための重要なファクターである。

Claims (18)

  1. 耐腐食性の構成部品、有利には結合エレメントであって、鋼材料製若しくは軽金属材料製の基体及び腐食防止作用の表面層から成っている形式のものにおいて、表面層は、アルミニウム若しくはアルミニウム合金或いはアルミニウム化合物からなりかつ1乃至50μm、有利には10乃至25μmの平均的な厚さ及び気孔のない密な微粒の組織を有する少なくとも1つの層から成っており、前記組織はプラズマアシスト式真空蒸着法によって形成されていることを特徴とする、耐腐食性の構成部品。
  2. 表面層は付加的に、クロム酸塩若しくは燐酸塩及び/又は有機材料からなっていて前記アルミニウム層上に若しくは、アルミニウム合金製或いはアルミニウム化合物製の前記層上に設けられた層を含んでいる請求項1に記載の構成部品。
  3. アルミニウム合金は、マグネシウム割合1乃至10重量パーセントのアルミニウム・マグネシウム合金である請求項1又は2に記載の構成部品。
  4. アルミニウム合金は、亜鉛割合1乃至10重量パーセントのアルミニウム・亜鉛合金である請求項1又は2に記載の構成部品。
  5. 請求項1から4のいずれか1項に記載の構成部品の製造方法において、構成部品の基体を、真空蒸着装置内での被覆の目的で水平軸を中心として回転するドラムの内壁に固定し、被覆時間の経過中に構成部品の基体を複数回攪拌して、構成部品の基体の位置及び向きを変えるようにし、蒸気源はドラム内に配置されており、被覆過程のプラズマ活性作用を、被覆中にドラムの内部で放電する中空陰極・アーク放電装置によって生ぜしめることを特徴とする、構成部品の製造方法。
  6. 構成部品の基体の固定を遠心力によって行う請求項5に記載の製造方法。
  7. 構成部品の基体の固定を磁力によって行う請求項5に記載の製造方法。
  8. 構成部品の基体の攪拌は、ドラム内壁からの構成部品の基体の機械的なかき落としによって行われる請求項5から7のいずれか1項に記載の製造方法。
  9. 構成部品の基体の攪拌は、ドラム内壁からの構成部品の基体の磁気作用に基づくかき落としによって行われる請求項5から7のいずれか1項に記載の製造方法。
  10. 構成部品の基体の攪拌は、ドラムの回転数を遠心力固定に有効な値よりも一時的に減少させることによって行われる請求項5から7のいずれか1項に記載の製造方法。
  11. 蒸着は、直接に電流を流されることに基づき加熱される1つ若しくは複数のボート形蒸発器によって行われ、該ボート形蒸発器に線材状の層材料を供給する請求項5から710のいずれか1項に記載の製造方法。
  12. 蒸着は、被覆材料の入れられた坩堝を備える1つ若しくは複数の電子ビーム式蒸発器によって行われる請求項5から10のいずれか1項に記載の製造方法。
  13. 構成部品の基体の被覆の前に該基体の表面の前処理及び活性化のために該基体を密なプラズマの作用にさらす請求項5から12のいずれか1項に記載の製造方法。
  14. 基体の表面の前処理及び活性化を中空陰極プラズマによって行う請求項5から13のいずれか1項に記載の製造方法。
  15. 排気鐘内での構成部品へのプラズマ反応による被覆のための真空蒸着装置において、縦軸線を中心として回転可能であって構成部品を受容して周壁に固定する回転バスケットの内部に、少なくとも1つの蒸発源及び少なくとも1つのプラズマ源を配置してあることを特徴とする真空蒸着装置。
  16. 蒸発源は電子ビーム式蒸発器である請求項15に記載の真空蒸着装置。
  17. 蒸発源はボート形蒸発器である請求項15に記載の真空蒸着装置。
  18. プラズマ源は少なくとも1つの中空陰極・プラズマ源を含んでいる請求項15に記載の真空蒸着装置。
JP2004535187A 2002-08-30 2003-08-28 耐腐食性の構成部品、該構成部品の製造のための方法及び、該方法の実施のための装置 Pending JP2005537393A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10240160A DE10240160A1 (de) 2002-08-30 2002-08-30 Korrosionsgeschütztes Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens
PCT/EP2003/009504 WO2004024976A1 (de) 2002-08-30 2003-08-28 Korrosionsgeschütztes bauteil und verfahren zu seiner herstellung und einrichtung zur durchführung des verfahrens

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005537393A true JP2005537393A (ja) 2005-12-08

Family

ID=31724216

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004535187A Pending JP2005537393A (ja) 2002-08-30 2003-08-28 耐腐食性の構成部品、該構成部品の製造のための方法及び、該方法の実施のための装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20050196548A1 (ja)
EP (1) EP1532286A1 (ja)
JP (1) JP2005537393A (ja)
AU (1) AU2003258677A1 (ja)
DE (1) DE10240160A1 (ja)
WO (1) WO2004024976A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9689057B2 (en) 2012-12-26 2017-06-27 Posco Steel sheet coated with aluminum-magnesium
US10106866B2 (en) 2013-12-24 2018-10-23 Posco Magnesium-aluminum coated steel sheet
JP2019031731A (ja) * 2017-06-09 2019-02-28 ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company マグネトロンスパッタリングによる、鋼の表面上の耐食性かつ低脆性のアルミニウム合金コーティング

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8409459B2 (en) * 2008-02-28 2013-04-02 Tokyo Electron Limited Hollow cathode device and method for using the device to control the uniformity of a plasma process
DE102010030232B4 (de) * 2010-06-17 2014-12-18 Diener Electronic Gmbh & Co. Kg Kleinteilebeschichtungsanlage
DE102014220338A1 (de) * 2014-10-08 2016-04-14 Richard Bergner Holding GmbH & Co. KG Verfahren zur Herstellung eines Befestigungselements sowie Befestigungselement
CN112226755B (zh) * 2020-09-23 2023-06-23 山东大业股份有限公司 一种金属线材表面处理用磷化方法及装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3750623A (en) * 1972-02-11 1973-08-07 Mc Donnell Douglas Corp Glow discharge coating apparatus
US3926147A (en) * 1974-11-15 1975-12-16 Mc Donnell Douglas Corp Glow discharge-tumbling vapor deposition apparatus
US4116161A (en) * 1976-11-12 1978-09-26 Mcdonnell Douglas Corporation Dual tumbling barrel plating apparatus
US4391855A (en) 1980-08-25 1983-07-05 Depor Industries Corrosion resistant coating and method for coating metal substrate
JPS621860A (ja) * 1985-06-26 1987-01-07 Sumitomo Metal Ind Ltd Al−Zn合金めつき鋼板
DE4003904A1 (de) * 1990-02-09 1991-08-14 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zum behandeln von substraten in einem durch mikrowellen erzeugten, gasgestuetzten plasma
DD293376A5 (de) * 1990-04-02 1991-08-29 Forschungsinstitut Manfred Von Ardenne,De Einrichtung zur vakuumbeschichtung von granulat
JPH0483889A (ja) 1990-07-27 1992-03-17 Nippon Dakuro Shamrock:Kk 防食被覆組成物
DE4209384C1 (ja) * 1992-03-23 1993-04-22 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De
DE4343041C2 (de) * 1993-12-16 1997-09-11 Fraunhofer Ges Forschung Korrosionsgeschütztes Metall
CA2152969A1 (en) * 1994-07-26 1996-01-27 Ping Chang Method for vacuum plasma protective treatment of metal substrates
DE19830206C2 (de) * 1997-09-16 2001-08-23 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Beschichtung von Substraten mit Aluminiumoxid (Al¶2¶O¶3¶)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9689057B2 (en) 2012-12-26 2017-06-27 Posco Steel sheet coated with aluminum-magnesium
US10619228B2 (en) 2012-12-26 2020-04-14 Posco Steel sheet coated with aluminum-magnesium
US10106866B2 (en) 2013-12-24 2018-10-23 Posco Magnesium-aluminum coated steel sheet
JP2019031731A (ja) * 2017-06-09 2019-02-28 ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company マグネトロンスパッタリングによる、鋼の表面上の耐食性かつ低脆性のアルミニウム合金コーティング

Also Published As

Publication number Publication date
DE10240160A1 (de) 2004-03-18
AU2003258677A1 (en) 2004-04-30
WO2004024976A1 (de) 2004-03-25
US20050196548A1 (en) 2005-09-08
EP1532286A1 (de) 2005-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7790003B2 (en) Method for magnetron sputter deposition
US20050196548A1 (en) Component protected against corrosion and method for the production thereof and device for carrying out the method
US20100276283A1 (en) Vacuum coating unit for homogeneous PVD coating
JP6101238B2 (ja) 基体を被覆するための被覆装置及び基体を被覆する方法
CN206956141U (zh) 一种磁控溅射镀膜机
JPS63303065A (ja) 表面処理方法
US20200208255A1 (en) Corrosion resistant and low embrittlement aluminum alloy coatings on steel by magnetron sputtering
US3926147A (en) Glow discharge-tumbling vapor deposition apparatus
JPH06235062A (ja) スパッタ陰極
WO1996015284A1 (en) Method of producing reactive element modified-aluminide diffusion coatings
JP2014162992A (ja) 円筒形の蒸着源
CN101403101A (zh) 一种快速硬质陶瓷涂层离子镀装置
CN211367703U (zh) 一种沉积dlc薄膜的磁控溅射镀膜机
JP4750436B2 (ja) 表面処理物の製造方法、表面処理方法及び表面処理装置
CN112210752A (zh) 一种沉积dlc薄膜的磁控溅射技术和镀膜机
JP2011099482A (ja) セルフピアスリベットおよびその製造方法
JP2015071809A (ja) Dlc膜被覆部材の製造方法およびdlc膜被覆部材
CN2895436Y (zh) 金属板带表面改性的生产设备
US3690291A (en) Deposition apparatus
CN109628893A (zh) 一种电子束蒸发镀镍的方法
CN106801239A (zh) 一种超疏水镁合金涂层的制备方法
JPH06204066A (ja) 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法
Bates et al. Alloy coatings by dual magnetron sputter barrel plating
KR102010769B1 (ko) 아연도금층에 형성되는 주석/마그네슘 박막 및 그 제조방법
CN101045988A (zh) 金属板带表面改性的生产设备