JP2005531028A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005531028A5
JP2005531028A5 JP2004515620A JP2004515620A JP2005531028A5 JP 2005531028 A5 JP2005531028 A5 JP 2005531028A5 JP 2004515620 A JP2004515620 A JP 2004515620A JP 2004515620 A JP2004515620 A JP 2004515620A JP 2005531028 A5 JP2005531028 A5 JP 2005531028A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sio
film
unit
silicone
refractive index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004515620A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5064654B2 (ja
JP2005531028A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US10/178,975 external-priority patent/US6907176B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2005531028A publication Critical patent/JP2005531028A/ja
Publication of JP2005531028A5 publication Critical patent/JP2005531028A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5064654B2 publication Critical patent/JP5064654B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2004515620A 2002-06-24 2003-03-28 平面光導波路組立品、およびその製造方法 Expired - Fee Related JP5064654B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/178,975 2002-06-24
US10/178,975 US6907176B2 (en) 2002-06-24 2002-06-24 Planar optical waveguide assembly and method of preparing same
PCT/US2003/009598 WO2004000942A1 (en) 2002-06-24 2003-03-28 Planar optical waveguide assembly and method of preparing same

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005531028A JP2005531028A (ja) 2005-10-13
JP2005531028A5 true JP2005531028A5 (https=) 2010-11-11
JP5064654B2 JP5064654B2 (ja) 2012-10-31

Family

ID=29734831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004515620A Expired - Fee Related JP5064654B2 (ja) 2002-06-24 2003-03-28 平面光導波路組立品、およびその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US6907176B2 (https=)
EP (1) EP1523525B1 (https=)
JP (1) JP5064654B2 (https=)
AU (1) AU2003218445A1 (https=)
WO (1) WO2004000942A1 (https=)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5132027B2 (ja) * 2004-05-12 2013-01-30 株式会社Ａｄｅｋａ ケイ素含有硬化性組成物、及びこれを熱硬化させた硬化物
KR101135375B1 (ko) * 2004-08-11 2012-04-20 다우 코닝 코포레이션 센서용 반투과성 막을 형성하는 광중합 가능한 실리콘 재료
JP4660182B2 (ja) * 2004-12-20 2011-03-30 東レ・ダウコーニング株式会社 活性化エネルギー線硬化性シリコーン組成物及びそれを用いたネガ型パターン形成方法
KR101278460B1 (ko) * 2005-03-01 2013-07-02 다우 코닝 코포레이션 반도체 가공을 위한 임시 웨이퍼 접착방법
ATE410483T1 (de) * 2005-05-26 2008-10-15 Dow Corning Verfahren und silikonverkapselungszusammensetzung zur formung kleiner formen
WO2007086987A1 (en) * 2006-01-17 2007-08-02 Dow Corning Corporation Thermally stable transparent silicone resin compositions and methods for their preparation and use
CN101336383B (zh) * 2006-02-01 2012-05-09 陶氏康宁公司 抗冲击的光波导管及其制造方法
US8258502B2 (en) * 2006-02-24 2012-09-04 Dow Corning Corporation Light emitting device encapsulated with silicones and curable silicone compositions for preparing the silicones
JP2007279237A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Nitto Denko Corp 光導波路の製法
WO2008027280A2 (en) * 2006-08-28 2008-03-06 Dow Corning Corporation Optical devices and silicone compositions and processes fabricating the optical devices
JP4458136B2 (ja) * 2007-09-06 2010-04-28 オムロン株式会社 有機デバイス、及び有機デバイスの製造方法
US7944781B2 (en) * 2007-10-16 2011-05-17 Seagate Technology Llc Flexible waveguide with adjustable index of refraction
JP2009186577A (ja) * 2008-02-04 2009-08-20 Oki Semiconductor Co Ltd 光集積回路、光電子集積回路およびこれらの製造方法
JP5353407B2 (ja) * 2009-04-22 2013-11-27 Ｊｓｒ株式会社 ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン
JP5914351B2 (ja) * 2009-12-21 2016-05-11 ダウ コーニング コーポレーションＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アルキル官能性シルセスキオキサン樹脂を使用した柔軟性導波路の製造方法
KR20120132624A (ko) 2010-02-12 2012-12-06 다우 코닝 코포레이션 반도체 가공을 위한 임시 웨이퍼 접합 방법
US8742009B2 (en) * 2010-06-04 2014-06-03 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Temporary adhesive composition, and method of producing thin wafer
DE102010043149A1 (de) * 2010-10-29 2012-05-03 Wacker Chemie Ag Hochtransparente durch Licht vernetzbare Siliconmischungen
KR101804344B1 (ko) 2011-05-25 2017-12-04 다우 코닝 코포레이션 에폭시－작용성 실록산 올리고머를 함유하는 에폭시－작용성 방사선－경화성 조성물
JP5592330B2 (ja) * 2011-10-07 2014-09-17 信越化学工業株式会社 仮接着剤組成物、及びそれを用いた薄型ウエハの製造方法
CN108299644A (zh) * 2013-12-09 2018-07-20 3M创新有限公司 可固化倍半硅氧烷聚合物、组合物、制品和方法
US9957416B2 (en) * 2014-09-22 2018-05-01 3M Innovative Properties Company Curable end-capped silsesquioxane polymer comprising reactive groups
EP3197966A1 (en) 2014-09-22 2017-08-02 3M Innovative Properties Company Curable polymers comprising silsesquioxane polymer core silsesquioxane polymer outer layer, and reactive groups
KR102620913B1 (ko) * 2017-08-24 2024-01-05 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 광학 도파관 제작 방법
WO2019040582A1 (en) 2017-08-25 2019-02-28 Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona HIGH-EFFICIENCY FABRICATION OF PHOTONIC INTEGRATED CIRCUIT (PIC) WAVEGUIDES USING MULTIPLE EXHIBITIONS

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4530879A (en) * 1983-03-04 1985-07-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiation activated addition reaction
ES8403555A1 (es) 1983-03-08 1984-03-16 Zottnik Edmund Sistema codificado de validacion y comando.
US4510094A (en) 1983-12-06 1985-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Platinum complex
JPS61275706A (ja) * 1985-05-30 1986-12-05 Sumitomo Electric Ind Ltd 光導波路
CA2014996A1 (en) * 1989-05-19 1990-11-19 Joel D. Oxman Radiation activated hydrosilation reaction
JPH089006B2 (ja) * 1989-11-15 1996-01-31 信越化学工業株式会社 白金触媒組成物及びその製造方法
DE4423195A1 (de) * 1994-07-01 1996-01-04 Wacker Chemie Gmbh Triazenoxid-Übergangsmetall-Komplexe als Hydrosilylierungskatalysatoren
JPH09124793A (ja) 1995-11-02 1997-05-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高分子光学材料及びその製造方法及び高分子光導波路
US5972516A (en) * 1996-02-29 1999-10-26 Kyocera Corporation Method for manufacturing optical waveguide using siloxane polymer, and optoelectronic hybrid substrate using the optical waveguide
JPH10148729A (ja) 1996-11-21 1998-06-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高分子光導波路コア部のリッジ・パターン形成方法
JP2000090643A (ja) 1998-09-08 2000-03-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 記憶装置
US6344520B1 (en) * 1999-06-24 2002-02-05 Wacker Silicones Corporation Addition-crosslinkable epoxy-functional organopolysiloxane polymer and coating compositions
WO2001037049A1 (en) 1999-11-12 2001-05-25 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Photosensitive composition, and optical waveguide element and process for producing the same
US6415093B1 (en) * 2000-08-17 2002-07-02 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Optical device and adhesive composition used therefor
JP4885351B2 (ja) * 2000-11-10 2012-02-29 東レ・ダウコーニング株式会社 有機樹脂用添加剤および有機樹脂組成物
US6991887B1 (en) 2000-11-01 2006-01-31 Battelle Memorial Institute Photopatternable sorbent and functionalized films
JP4803884B2 (ja) * 2001-01-31 2011-10-26 キヤノン株式会社 薄膜半導体装置の製造方法
JP4708577B2 (ja) * 2001-01-31 2011-06-22 キヤノン株式会社 薄膜半導体装置の製造方法
US6617674B2 (en) * 2001-02-20 2003-09-09 Dow Corning Corporation Semiconductor package and method of preparing same
US20030052082A1 (en) * 2001-09-19 2003-03-20 Anisul Khan Method of forming optical waveguides in a semiconductor substrate
JP3952149B2 (ja) * 2002-02-06 2007-08-01 信越化学工業株式会社 光導波路形成用材料及び光導波路の製造方法
US6905904B2 (en) * 2002-06-24 2005-06-14 Dow Corning Corporation Planar optical waveguide assembly and method of preparing same
JP2004186168A (ja) * 2002-11-29 2004-07-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 発光ダイオード素子用シリコーン樹脂組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005531028A5 (https=)
JP5975582B2 (ja) エポキシ官能性シロキサンオリゴマーを含有するエポキシ官能性の放射線硬化性組成物
US6905904B2 (en) Planar optical waveguide assembly and method of preparing same
JP4651935B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型オルガノポリシロキサン樹脂組成物、光伝送部材および光伝送部材の製造方法
JP6408488B2 (ja) 一次構造および／または二次構造の異なる２つの領域を有する層または三次元成形品、成形品の製造方法、およびこの方法を実施するための材料
US7844153B2 (en) Active energy ray-curable organopolysiloxane resin composition, optical transmission component, and manufacturing method thereof
JP5064654B2 (ja) 平面光導波路組立品、およびその製造方法
JP2005531029A5 (https=)
JP3133039B2 (ja) 光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パターン形成方法
CN1399439A (zh) 波导管和组合物
JP2004530288A5 (https=)
JP5324213B2 (ja) エポキシ官能性ポリシロキサン、シリコーン組成物、および被覆された光ファイバ
TWI402311B (zh) 用於微圖案化層的組成物，該層具有高緩和能力、高化學阻抗性及機械穩定性
CN102713684A (zh) 利用烷基官能的硅倍半氧烷树脂制造柔性波导管的方法
US20020150368A1 (en) Polymer waveguides and process for producing the same
JP3273519B2 (ja) ポリシロキサン系光導波路の製造方法
JP4660182B2 (ja) 活性化エネルギー線硬化性シリコーン組成物及びそれを用いたネガ型パターン形成方法
JP3896584B2 (ja) 感放射線性屈折率変化性組成物および屈折率変化法
JP4918578B2 (ja) ネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法
JP2002286912A (ja) 光学部品の製造方法
JP3846220B2 (ja) ポリマ導波路及びその製造方法
KR101190530B1 (ko) 활성 에너지선 경화성 오가노폴리실록산 수지 조성물, 광전송 부재 및 이의 제조방법