JP2005517707A5 - - Google Patents

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  1. 式、R12NCH2CH2NR34のω−[N−(2−アミノエチル)]アミノアルキルアルコキシシランの調製方法であって、
    ここで、R1、R2、およびR3は、独立して、水素原子および式R5Si(R63-a(OR7a(ここで、R5、R6、およびR7は、各々独立して、C1-8アルキルであり、aは1、2、または3である)のアルコキシシランからなる群から選択されるメンバーであり、R4は該アルコキシシランであり、該方法は、
    エチレンジアミン、エチレンジアミン塩酸塩、および上記のように規定された式ClR5Si(R63-a(OR7aのω−クロロアルキルアルコキシシランを、ω−クロロアルキルアルコキシシラン1モル当たり3〜40モルの総エチレンジアミンの供給比で、前記ω−[N−(2−アミノエチル)]アミノアルキルアルコキシシランを生成する条件下で、反応器に添加する工程であって、エチレンジアミンとエチレンジアミン塩酸塩との比率は、前記塩を含有する相が前記ω−[N−(2−アミノエチル)]アミノアルキル−アルコキシシランを含有する相とは別に前記反応器内に存在するような比率である、工程と、
    前記反応の後に、
    前記塩を含有する相を、前記アルコキシシランを含有する相から分離する工程と、
    前記塩を含有する相の少なくとも一部を、前記エチレンジアミンの一部の供給源および前記エチレンジアミン塩酸塩の供給源として、前記反応器へ戻す工程と、
    を包含する、方法。
  2. 前記ω−クロロアルキルアルコキシシランは、3−クロロプロピルトリメトキシシランまたは3−クロロイソブチルメチルジメトキシシランである、請求項1に記載の方法。
  3. 2NCH2CH2NHR1SiR3 (3-a)(OR2aの調製方法であって、
    ここで、R1は、プロピル基またはイソブチル基であり、R2およびR3は、各々独立して、メチル基またはエチル基であり、該方法は、
    エチレンジアミン、エチレンジアミン塩酸塩、および3−Cl−R1Si(OR23(R1およびR2は、上記規定のとおりである)を、3−Cl−R1SiR3 (3-a)(OR2a1モル当たり12〜30モルの総エチレンジアミンの供給比で、前記H2NCH2CH2NHR1SiR3 (3-a)(OR2aを生成する条件下で、反応器に添加する工程であって、エチレンジアミンとエチレンジアミン塩酸塩との比率は、前記塩を含有する相が前記H2NCH2CH2NHR1SiR3 (3-a)(OR2aを含有する相とは別に前記反応器内に存在するような比率である、工程と、
    前記反応の後に、
    前記塩を含有する相を前記H2NCH2CH2NHR1i(OR23を含有する相から分離する工程と、
    前記塩を含有する相の少なくとも一部を、前記エチレンジアミンの一部の供給源および前記エチレンジアミン塩酸塩の供給源として、前記反応器へ戻す工程と、
    を包含する、方法。
JP2003567907A 2002-02-11 2003-01-16 エチレンジアミン塩を再利用するn−[2−アミノエチル]アミノアルキルアルコキシシランの製造方法 Expired - Fee Related JP4309287B2 (ja)

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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100413555C (zh) * 2003-02-10 2008-08-27 严晓东 含β-氨乙基-γ-氨丙基基团的有机硅烷偶联剂的生产废料的回收处理方法
DE102007037193A1 (de) * 2007-08-07 2009-02-12 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von Aminoorganosilanen
DE102009000500A1 (de) * 2009-01-30 2010-08-05 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von Bis- und Tris(silylorgano)aminen
DE102009026755A1 (de) * 2009-06-04 2010-12-09 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von Aminoorganosilanen
DE102015225883A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Evonik Degussa Gmbh Bis(alkylalkoxysilyl)amin-reiche Zusammensetzungen, ein Verfahren zur deren Herstellung und deren Verwendung
DE102015225879A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Evonik Degussa Gmbh Tris-(alkylalkoxysilyl)amin-reiche Zusammensetzungen, deren Herstellung und deren Verwendung
WO2018033199A1 (de) 2016-08-16 2018-02-22 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung von sekundären aminoorganosiliciumverbindungen
DE102016215260A1 (de) 2016-08-16 2018-02-22 Evonik Degussa Gmbh Verwendung einer (Alkylalkoxysily)amin-, Bis-(alkylalkoxysilyl)amin und/oder Tris-(alkylalkoxysilyl)amin-enthaltenden Zusammensetzung
JP7077966B2 (ja) * 2019-01-07 2022-05-31 信越化学工業株式会社 アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB889001A (en) 1959-07-17 1962-02-07 Midland Silicones Ltd Aminated organosilicon compounds
US3146250A (en) 1961-10-11 1964-08-25 Dow Corning Nitrogen-containing cyclic silanes, their preparation and hydrolysis
US4064155A (en) * 1975-12-22 1977-12-20 Dow Corning Corporation Preparation of silylamine hydrochlorides
JPS56104891A (en) 1980-01-28 1981-08-20 Toray Ind Inc Preparation of (n-aminoethyl)aminoalkylsilane
US4448694A (en) * 1981-09-04 1984-05-15 Dow Corning Corporation Metal extraction from solution and immobilized chelating agents used therefor
US4546996A (en) * 1984-06-18 1985-10-15 J. I. Case Company Multi-surface stabilizer pad assembly
US4526996A (en) * 1984-06-19 1985-07-02 Union Carbide Corporation Process for the preparation of N-substituted aminoalkylsilanes
JPH053177A (ja) * 1991-06-25 1993-01-08 Sony Corp ドライエツチング方法
JP2687787B2 (ja) * 1991-10-02 1997-12-08 ソニー株式会社 ドライエッチング方法
JP2785622B2 (ja) 1992-10-26 1998-08-13 信越化学工業株式会社 3−[n−(2−アミノエチル)]アミノプロピルアルコキシシランの製造方法及びその製造装置
JP3761918B2 (ja) * 1994-09-13 2006-03-29 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
EP0702017B1 (de) * 1994-09-14 2001-11-14 Degussa AG Verfahren zur Herstellung von chloridarmen bzw. chloridfreien aminofunktionellen Organosilanen
JP2842284B2 (ja) * 1995-02-14 1998-12-24 日本電気株式会社 半導体装置の製造方法
US6165910A (en) * 1997-12-29 2000-12-26 Lam Research Corporation Self-aligned contacts for semiconductor device

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