JP2005516443A - 電圧制限半導体パスゲート回路 - Google Patents
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Abstract
パスゲート回路(15)の入力ノード(10)と出力ノード(11)との間に動作可能に接続された第一トランジスタ(16)と入力ノード(10)と出力ノード(11)との間に動作可能に接続された第二トランジスタ(17)とを備えた電圧制限半導体パスゲート回路(15)。第二トランジスタ(17)が電源電圧(6)にバイアスされる制御電極を有し、第一トランジスタ(16)が二つの背中合わせに接続されたダイオード要素(18,19)により第二トランジスタ(17)の制御電極と接続する制御電極を有する。パスゲート回路(15)は典型的には半導体集積回路(13)の複数入力I/Oセル(14)内に適用される。
Description
この発明は、パスゲート回路の入力ノードと出力ノードとの間に動作可能に接続された第一トランジスタを備え、この第一トランジスタが電源電圧にバイアスされる制御電極を有する電圧制限半導体パスゲート回路に関する。
半導体技術が混在する環境において、異なるタイプの複数集積回路(IC)が用いられ、いくつかのICでは他のICに比べて内部電源電圧が低く、これは、これらICの金属酸化物半導体(MOS)トランジスタの制御電極又はゲートが他のICで用いられる高電圧に耐えられないからである。従って、それら内部電源電圧が低いIC内で用いられる複数入力/出力(I/O)セル又は回路において特別な配慮が必要となる。特にこれら入力I/Oセルには次の回路段内の複数トランジスタのゲート酸化物を保護する電圧制限パスゲートが必要となる。
デジタルICの典型的な入力I/Oセルが図1に示され、参照番号1が付与されている。
入力I/Oセル1は入力端子2と出力端子3とを備える。レベル検出回路4が入、出力端子2,3との間に結合され、この実施形態では、ヒステリシス反転回路として形成されている。ヒステリシス反転器4と入力I/Oセル1の出力端子3との間にさらなる反転回路5が結合されている。
このさらなる反転回路5は短線6で示される電源電圧Vddにより駆動される。ヒステリシス反転器4は供給トランジスタ7を介して電源電圧Vddに結合されている。
この実施形態では、供給トランジスタ7はPMOS電界効果型トランジスタで、ドレイン電極がヒステリシス反転器4と接続し、ソースが電源電圧6と接続している。供給トランジスタ7のゲート又は制御電極が直接入力I/Oセル1の入力端子2と接続している。
電圧制限トランジスタ・パスゲート8が入力端子2とヒステリシス反転器4との間に結合され、これは、通常、NMOSトランジスタ9を備え、トランジスタ・パスゲート8の入力ノード10と出力ノード11との間に動作可能に接続している。
即ち、パストランジスタ9のドレインが入力ノード10と接続し、パストランジスタ9のソースが出力ノード11と接続している。パストランジスタ9の制御電極又はゲートがバイアストランジスタ12を介して電源電圧Vddにバイアスされている。
このI/Oセル1においては、パストランジスタ9が回路の高論理レベルをVddに制限する。これはヒステリシス反転器4内に設けられた複数電界効果型トランジスタのゲートとソースとの間でストレス電圧が高くなるのを防止するのに必要なものである。
I/Oセル1の入力端子2に高入力信号が与えられるDCでの挙動において、この入力信号が電源電圧Vddより高いこともあり、パストランジスタ9が出力ノード11をVdd−Vtまで引き上げ、ここでVtはパストランジスタ9の本体に影響される閾値電圧である。出力ノード11の電圧は論理高レベルとしてヒステリシス反転器4に検出されることもある。
しかし、この従来の回路には多くの制限がある。過渡的な挙動としては、出力ノード11が比較的ゆっくり電圧Vdd−Vtまで上がる。即ち、出力ノード11の電圧がVdd−Vtに近づくに従い、パストランジスタ9がその動作カットオフ領域まで近づき、従って、その電流源としての機能が著しく低下する。その結果、論理高レベルが検出されるヒステリシス反転器4の電圧レベルVIHに出力ノード11が達するのに比較的長時間かかる。このI/Oセルの立上がり遅れは立下がり遅れより長い。
この状態は、耐雑音性要求が高い場合にさらに悪く、ヒステリシス反転器4はその応答において比較的高いヒステリシスを示す必要があり、この要求下では、ヒステリシス反転器4のVIHが比較的高く、なぜならば、それは、論理低レベルが検出される電圧レベルVILとヒステリシス反転器4のヒステリシス電圧との和より充分高くなければいけないからである。耐雑音性要求が高い場合においては、I/Oセル1の立上がり遅れがさらに高まることが理解されるであろう。
明確には述べられていないが、トランジスタ7は、そのゲート電圧が、高入力レベルのDC状態において、Vddより高くなると、ヒステリシス反転器4の供給電圧を制限し、漏洩電流を止めるように動作する。
この発明の目的は、高速で高耐雑音性の複数I/Oセルに用いられ、上述の従来のトランジスタ・パスゲート回路に比べて立上がり遅れが改良された即ち短い、改良された電圧制限パスゲート回路を提供することである。
このために、この発明では、前記制御電極が二つの背中合わせに接続されたダイオード要素により前記電源電圧にバイアスされる。この結果、従来の回路と比較して改善された過渡特性を有するパスゲートが実現される。
ある実施形態では、前記半導体パスゲート回路はさらに前記入力ノードと前記出力ノードとの間に動作可能に接続された第二トランジスタを備え、該第二トランジスタが前記二つの背中合わせに接続されたダイオード要素を介して前記第一トランジスタの制御電極に結合されているさらなる制御電極を有する。
即ち、この発明のパスゲート回路では、パストランジスタが二つの部品、即ち、第一トランジスタと第二トランジスタとに分離され、それらの制御電極が二つの背中合わせに接続されたダイオード要素を介して接続されている。
この発明の改良されたトランジスタ・パスゲートによれば、それらトランジスタ、特に前記第一トランジスタの内部キャパシタがプリチャージされ、このパスゲート回路の過渡特性を改善する。
この発明のパスゲート回路のある好ましい実施形態では、前記ダイオード要素は複数のダイオード接続トランジスタから成り、これらは同じ又は異なる導電型でもよい。この回路のすべてのトランジスタの導電型は同じでもよく、さらに、好ましくはMOS型電界効果型トランジスタである。
前記第一、第二トランジスタが単一トランジスタに置き換えられた場合は、回路の立下がり遅れが増加しないように、この単一トランジスタのディメンション又はサイズを前記第一トランジスタに比べて適切に増加させなければならないことに注意されたい。
この発明はさらに、集積半導体回路と共に用いられ、入力端子と出力端子と前記入力端子と前記出力端子との間に接続された少なくとも一つのレベル検出回路とを備え、上記記載の半導体パスゲート回路が前記入力端子と前記レベル検出回路との間に接続されている入力I/Oセルに関する。
この発明の入力I/Oセルのある好ましい実施形態では、前記レベル検出回路はヒステリシス回路を備える。
前記ヒステリシス回路がヒステリシス反転回路である場合は、さらなる反転回路が前記ヒステリシス反転回路と前記入力I/Oセルの出力端子との間に接続されてもよい。
この発明はさらに、この発明の入力I/Oセルを少なくとも一つ備える集積回路に関する。
この発明を添付図面を参照して詳細に説明する。
各図において、同様な機能又は目的を有する部品又は要素には同じ参照番号が付与されている。
図2は、この発明の改良された電圧制限パスゲート回路15を備えた入力I/Oセル14を示している。
図1に示し上記のように説明された従来のパスゲート回路8と比較すると、この回路のパストランジスタ8が第一パストランジスタ16と第二パストランジスタ17とに分離され、両者はパスゲート回路15の入力ノード10と出力ノード11との間に動作可能に接続されている。
図に示されている実施形態では、第一、第二パストランジスタ16,17はNMOS型であり、トランジスタ16,17のドレインがパスゲート回路15の入力ノード10と接続し、トランジスタ16,17のソースがパスゲート回路15の出力ノード11と接続している。この発明の範疇から外れることなく他のトランジスタ・タイプも選べることはこの分野の当業者には明らかである。
二つの背中合わせの又は対向並列ダイオード接続トランジスタ18、19を介して、第一パストランジスタ16の制御電極又はゲートが第二パストランジスタ17の制御電極又はゲートと接続している。
低論理レベルに相当するI/Oセル14の入力端子2の電圧が零ボルト又は零ボルトに近い場合、点線で囲まれた第一パストランジスタ16のゲート・ソース間キャパシタ20が、ダイオード接続トランジスタ19を介して、電圧Vdd−Vtまでチャージされる。
今、I/Oセル14の入力端子2の電圧が高論理レベルまで立ち上がると、入力端子2、即ち、パスゲート回路15の入力ノード10の立上がりエッジがキャパシタ20をパスして第一パストランジスタ16のゲートに達してダイオード接続トランジスタ19をそのカットオフ領域へ強制的に移行させる。ダイオード接続トランジスタ18が第一パストランジスタ16のゲート電圧をVdd+Vtにクランプする。これが、第一パストランジスタ16がパスゲート回路15の出力ノード11をVddまで引き上げるのを助長する。
ダイオード接続トランジスタ18が最終的に第一パストランジスタ16のゲート電圧をVdd+Vtにクランプするが、過渡的なゲート電圧において正のリップルがあってもよいことに注目することが重要である。リップルの強さは、ダイオード接続トランジスタ18のサイズを適切にすることにより制御できる。この正のリップルが、出力ノード11の電圧がVddに達するまで、出力ノード11の電圧が入力ノード10の立上がりエッジに確固に従うことを助長する。
一方、図1に示される従来のパスゲート回路8の単一パストランジスタ9と同様に、第二パストランジスタ17が、パスゲート回路15の入力ノード10から出力ノード11へ明らかに低いレベルをパスさせる。
I/Oセル14内にこの発明の改良されたパスゲート回路15を用いることにより、ヒステリシス反転器4の入力電圧が、ヒステリシス反転器4のヒステリシスが比較的大きい場合であっても、I/Oセル14の入力端子2の入力電圧に確固に従うようになる。その結果、I/Oセル14の立上がり及び立下がり遅れが比較的小さく且つほぼ対象的になる。
以下に示す表1及び2において、この発明のI/Oセル14のシミュレートした動作が従来のI/Oセル1のシミュレートした動作と比較される。
表1.ヒステリシス0.3Vでのシミュレート動作比較
動作 従来パスゲート付きI/Oセル 新パスゲート付きI/Oセル
立上がり遅れ(psec) 1197 467
立下がり遅れ(psec) 502 516
立上がり時間(psec) 389 351
立下がり時間(psec) 357 356
最大周波数(MHz) 350 650
表2.ヒステリシス>0.4Vでのシミュレート動作比較
動作 従来パスゲート付きI/Oセル 新パスゲート付きI/Oセル
立上がり遅れ(psec) 不明 589
立下がり遅れ(psec) 501 511
立上がり時間(psec) 不明 368
立下がり時間(psec) 361 359
最大周波数(MHz) 不明 625
シミュレーションの結果によれば、耐雑音性要求が普通である場合、即ち、表1のヒステリシス0.3Vの場合は、従来の入力I/Oセルに比べて、この発明の入力I/Oセルの立上がり遅れは少なくとも1.8倍速いということが直接導き出せる。
耐雑音性要求が高い場合、即ち、表2のヒステリシスが0.4Vを越える場合は、従来のパスゲート回路を備えたI/Oセルは正常に機能しないが、この発明の改良された半導体パスゲート回路を備えたI/Oセルは良く機能する。
この発明のパスゲート回路15のさらなる実施形態では第一、第二トランジスタ16,17が図2において点線で示されている単一トランジスタ21に置き換えられ、その制御電極又はゲートが背中合わせに接続されたダイオード要素18,19により電源電圧6にバイアスされる。しかし、第二トランジスタ17が除かれると立下がり遅れが増加することがあり得るが、これは、第一トランジスタ16に比べて単一トランジスタ21のサイズ又はディメンションを増加することにより立下がり遅れを取り戻すことができる。
非常に小さな追加シリコン領域、即ち、三つのさらなるトランジスタ、例えば、ダイオード・トランジスタ18及び19、そして単一トランジスタ21を加えるだけで入力I/Oセルの過渡的な挙動が著しく改善されることがこの分野の当業者には理解できるであろう。
この発明の一つ又は複数の入力I/Oセルを備えた一つのICが点線で概略的に示され、参照番号13が付与されている。
複数のMOSトランジスタは完全に双方向で、即ち、それらのドレインとソースとは置き換え可能で、それらの対応する電圧に基づいて規定されることがこの分野の当業者には理解できるであろう。従って、この発明の上述の開示において用語ドレインとソースとはMOSトランジスタの特定の回路接続に限定されるものではなく、そして、この発明は図に示したNMOSトランジスタの使用に限定されるものではなく、PMOSトランジスタ又はNMOSそしてPMOSトランジスタを混合させることも可能である。
上述の各実施形態はこの発明を限定するものではなく、この分野の当業者であれば請求の範囲から外れることなく多くの別の実施形態を設計することができることに注意されたい。請求範囲中の括弧中に置かれた参照番号はこの発明により保護すべき範囲を限定するものではない。文言“備える”は請求範囲に述べられた以外の要素又は工程を除外するものではない。ある要素の前に置かれる冠詞“ある”又は“一つの”はそのような要素が複数あることを除外するものではない。互いに異なる従属項においてある手段が規定されているという事実がこれら手段の組み合わせは効果的には用いられないということを示すものではない。
Claims (8)
- パスゲート回路の入力ノードと出力ノードとの間に動作可能に接続された第一トランジスタを備え、該第一トランジスタが電源電圧にバイアスされる制御電極を有し、該制御電極が二つの背中合わせに接続されたダイオード要素により前記電源電圧にバイアスされることを特徴とする電圧制限半導体パスゲート回路。
- 前記ダイオード要素は複数のダイオード接続トランジスタから成り立つ請求項1に記載の半導体パスゲート回路。
- 前記半導体パスゲート回路はさらに前記入力ノードと前記出力ノードとの間に動作可能に接続された第二トランジスタを備え、該第二トランジスタが前記二つの背中合わせに接続されたダイオード要素を介して前記第一トランジスタの制御電極に結合されるさらなる制御電極を有する請求項1に記載の半導体パスゲート回路。
- 複数集積半導体回路と共に用いられる入力I/Oセルであって、該I/Oセルは入力端子と出力端子と前記入力端子と前記出力端子との間に動作可能に結合された少なくとも一つのレベル検出回路とを備え、請求項1に記載の半導体パスゲート回路が前記入力端子と前記レベル検出回路との間に結合されていることを特徴とする入力I/Oセル。
- 前記レベル検出回路はヒステリシス回路を備える請求項4に記載の入力I/Oセル。
- 前記ヒステリシス回路はヒステリシス反転回路である請求項5に記載の入力I/Oセル。
- さらなる反転回路が前記ヒステリシス反転回路を前記出力端子に結合させる請求項6に記載の入力I/Oセル。
- 請求項4に記載の入力I/Oセルを少なくとも一つ備える集積回路。
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