JP2005511421A - 感受性光学材料をその場で保護する方法及び装置 - Google Patents
感受性光学材料をその場で保護する方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005511421A JP2005511421A JP2003549202A JP2003549202A JP2005511421A JP 2005511421 A JP2005511421 A JP 2005511421A JP 2003549202 A JP2003549202 A JP 2003549202A JP 2003549202 A JP2003549202 A JP 2003549202A JP 2005511421 A JP2005511421 A JP 2005511421A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- internal volume
- enclosure
- adsorbent material
- external environment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D81/00—Containers, packaging elements, or packages, for contents presenting particular transport or storage problems, or adapted to be used for non-packaging purposes after removal of contents
- B65D81/24—Adaptations for preventing deterioration or decay of contents; Applications to the container or packaging material of food preservatives, fungicides, pesticides or animal repellants
- B65D81/26—Adaptations for preventing deterioration or decay of contents; Applications to the container or packaging material of food preservatives, fungicides, pesticides or animal repellants with provision for draining away, or absorbing, or removing by ventilation, fluids, e.g. exuded by contents; Applications of corrosion inhibitors or desiccators
- B65D81/266—Adaptations for preventing deterioration or decay of contents; Applications to the container or packaging material of food preservatives, fungicides, pesticides or animal repellants with provision for draining away, or absorbing, or removing by ventilation, fluids, e.g. exuded by contents; Applications of corrosion inhibitors or desiccators for absorbing gases, e.g. oxygen absorbers or desiccants
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D85/00—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials
- B65D85/30—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure
- B65D85/38—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure for delicate optical, measuring, calculating or control apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/025—Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/025—Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings
- H01S3/027—Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings comprising a special atmosphere inside the housing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Packages (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
反射防止コーティングは、従来、フレネル損失を防止するために、レーザ・システムに用いられる結晶材料に塗布される。さらに、コーティングは、水蒸気又は酸素分子が、結晶に浸透して、該結晶の物理的構造並びにそれに付随する熱的及び光学的特性の不利な変化を引き起こさないようにするための障壁としても有用である。紫外線に曝される結晶への保護膜の使用は、例えば、米国特許第5,862,163号に記載された。こうしたコーティングは、BBOなどの高吸湿性又は高反応性ではない結晶には有用であった。コーティングを塗布するプロセス自体が、結晶と該コーティングとの間の境界面でさらなる損傷機構を引き起こす可能性があるので、コーティングは、CD*A及びCLBOなどの反応性が高い結晶になるほど、より問題になることが分った。さらに、コーティングは、光の波長が短くなるにつれてますます損傷を受けやすくなり、このことは、光を深紫外線に変換するのに最もよく用いられるCLBOには深刻な問題である。特に、高感受性材料の場合には、膜は透水性を妨げるには十分に厚いが、損傷を避けるほど十分な厚さがないという条件の間で、消極的なトレードオフが存在することが多い。したがって、それ自体では及び自然には、コーティングは、水分及び場合によっては有害な他の気体種からの必要な保護を与えるには十分ではないことがある。
完全な気体シールはまた、輸送中に遭遇することがある高度その他の周囲変化が、セルを収容する機械系に望ましくない力を発生させ、容易には修正されない潜在的位置ずれをもたらす可能性があるという厄介な問題を有する。万一パージが突然故障するか、又は気体供給が散逸するといった突発故障の可能性によって、システム全体の総合的な信頼性及び寿命が損なわれることになる際には、ハーメチック・シールされたセルが使用されているか又は完全なパージシステムが含まれているかにかかわらず、相当のコスト、バルク及び複雑さも、システムに付加される。この故障モードは、CLBO又は同様の感受性材料を成分とする素子を輸送するときには特に問題である。陸路、海路又は空路での実用性には、装置が長時間にわたって放置されることが要求される。
CLBOの場合には、結晶のアニール温度及び高温での作動が、ひずみ率及び他の光学的損傷の影響を大幅に減少させることができることが明らかになった。CLBO又は同様の感受性材料をオーブンに入れるのが通例である。オーブンは、加熱された材料が、該材料の表面に吸収されるあらゆる汚染気体分子を熱運動化させることによって凝縮を排除するように極めて迅速に作用するので、気体種の吸収を緩和させる。汚染分子が水蒸気からなるときには、結晶を一定の高温で維持することで、表面の水和及びそれに伴う物理的変化を減少させることができる。この技術を実際に実施するには、保管及び輸送中でさえ、感受性材料を取り囲むオーブンの連続作動を必要とした状態で、加熱及び冷却のサイクルを回避することが必要となる。
したがって、取り巻く周囲の環境からの水などの微量成分の迅速な除去と両立可能な、感受性材料を保護するための受動的な方法及び装置に対する必要性が存在する。さらに、幅広い温度及び圧力の極値を含む状況下でも、異なる吸収率をもつ材料に適応できる、感受性材料を保護するための方法及び装置に対する必要性が存在する。
本発明の別の目的は、取り巻く周囲の環境からの水などの微量成分の迅速な除去と両立可能な、光学材料をその場で保護するための方法及び装置を提供することである。
本発明のさらなる目的は、幅広い温度及び圧力の範囲にわたって、異なる吸収率をもつ材料に適応可能な、光学材料をその場で保護するための方法及び装置を提供することである。
本発明の別の実施形態においては、光学ハウジングは、内部容積を有する囲いを含む。囲いは、外部環境から実質的にシールされるようにすることができる。光学素子は、内部容積内に配置される。光学素子は、外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む。容器は、囲いに連結される。容器は、該容器表面に対して少なくとも0.1の割合を有する気体透過性表面領域を含む。吸着材料は、容器内に配置される。吸着材料は、少なくとも1つの気体種を自然に吸収する特徴を有する。
本発明の別の実施形態においては、レーザ・システムは、レーザと、外部環境から実質的にシールされるようにすることができる囲いとを含む。囲いは、レーザからレーザ・ビームを受け取り、出力として光放射線を放出するように構成できる。光学素子は、囲いの内部容積内に配置される。光学素子は、外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む。容器は、気体透過性表面を有し、囲いに連結される。吸着材料は、容器内に配置される。吸着材料は、少なくとも1つの気体種を自然に吸収する特徴である。
本発明の別の実施形態においては、レーザ・システムは、内部容積と内部表面領域とを有する囲いを含む。囲いは、外部環境から実質的にシールされるようにすることができる。レーザは、内部容積内に配置される。光学素子は、内部容積内に配置される。光学素子は、外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む。吸着材料は、内部容積内に配置される。吸着材料は、少なくとも1つの気体種を自然に吸収する特徴を有する。
素子40は、好ましい実施形態の幾つかにおいて、結晶又は光学素子40の温度を一定温度で維持するように設計されるオーブン又はヒーターを備えるセル45内に保持してもよい。光学素子の温度を所定の限度値内に維持するように設計されるこうしたオーブンは、レーザ設計及び製造の技術分野において周知である。例えば、基本波レーザ放射の高調波変換に用いられる非線形結晶の多くは、位相整合条件を最適化するために、結晶の温度を精密に制御することを必要とする。当該技術分野における他の公知例においては、セル45には、電気又は音響光学変調器として構成され、Qスイッチレーザ放射に用いて短いレーザ・パルスを得るための非線形結晶が入っている。いずれの場合にも、セル45は、入力及び出力放射線を通す光学窓(図示せず)を含む。
素子40は、セル45内に収容されてもよいか又は収容されなくてもよい、コーティングされた又はコーティングされていない受動的な光学化合物を含むこともできる。一般に様々な光学素子用の基材として用いられるCaF2及びMgF2などの化合物は、弱吸湿性であることが知られており、本発明で開示された新規な特徴から利益を得ることができる。
しかしながら、吸着材料自体が、気体の放出その他の機構によって有害な蒸気源となり得るか、又は有害なエアロゾル(液体又は固体材料の小さな粒子)源となり得ることが注目される。発生源としての吸着材料の何らかの影響から生じる可能性のある副次的損傷を緩和するために、本発明の実施形態では、該吸着材料を少なくとも1つの小容器にさらに閉じ込める。小容器は、シリンダ又は袋とすることができる。多くの変形が明らかである。好ましい実施形態は、Tyvek(商標)などの織メッシュ材料で作られた少なくとも1つの袋である。
一般に、容器は、囲いの中に自由に配置できるが、特定の光学材料又は作動条件が制約を課すことがある。特殊な制約を満たすために、好ましい実施形態は、容器と光学素子との間の離間距離を最小にして、これにより、汚染物質、水分又はその他のあらゆる有害な大気種の感受性材料40からの除去効果が最大となるように、容器を配置するものである。
アクセス・ポート220の好ましい実施形態には、観測窓230も含まれる。観測窓の実施形態の幾つかには、該観測窓から出て来るレーザ光のせいでユーザの目に損傷を与える可能性を防止するためのスペクトル・フィルタが含まれる。スペクトル・フィルタは、囲いの内部を照射する光の周波数によって、広い又は狭い帯域幅を有することができる。
本発明から得ることができる利点を例示した状態で、レーザ420及びハウジング10を含むレーザ・システム400が、図4に示されている。図4においては、レーザ420、囲い10を含む光学ハウジング100(図1を参照)、容器50(図1を参照)、入力ビーム430及び出力ビーム435を含むレーザ・システム400が示される。他の実施形態では、光学ハウジング又は容器を、レーザ自体に組み込んでもよい。本発明によると、レーザからの入力ビームは、透明な窓412を通って光学ハウジング100(図1を参照)に入り、光放射線は、透明な窓413を通って出力435として放出される。ある種の実施形態において、レーザ・システムは、例えば、赤外線レーザの周波数を4倍にするか又は5倍にすることによって、紫外線を発生させる。周波数を4倍にするモジュールに対応して、セル465内に収容された周波数2倍器の結晶が、周波数が2倍にされ、第2のセル445内に収容された第2の結晶440に入射する放射線432と共に示されている。この実施形態は、周波数2倍器用のLBOと、周波数を4倍にする材料としての高吸湿性のCLBOとを用いて、266nmの光を発生させるレーザ・システムの代表的なものである。
他の実施形態においては、レーザ・システムは、気体種の電子スペクトル又は回転振動スペクトルに含まれる遷移を伴う波長が重なる放射線を発生させる。こうした実施形態においては、汚染物質の吸着体は、内部容積20内からレーザ放射と相互作用する気体種を吸収する、付加的又は代替的な目的を果たす(図1を参照)。特定の実施形態には、乾燥力のある吸着材料と、水に強く吸収される放射線を発生させるレーザとが含まれる。
当業者には容易に明らかなように、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。むしろ、異なる構成及び実施形態は、本発明の範囲から逸脱することなく展開することが可能であり、冒頭の特許請求の範囲内に含まれることが意図されている。
Claims (43)
- 内部容積を有し、外部環境から実質的にシールされるように構成される囲いと、
前記内部容積内に配置され、前記外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む光学素子と、
ハウジングに連結され、気体透過性表面を含む容器と、
前記容器内に配置され、少なくとも1つの気体種を吸収する特徴を有する吸着材料と、
を備える光学ハウジング。 - 前記気体透過性表面の少なくとも一部分が、光放射線を実質的に通さないことを特徴とする、請求項1に記載の光学ハウジング。
- 光を実質的に通さない前記気体透過性表面の前記部分が、織メッシュ材料を含むことを特徴とする、請求項2に記載の光学ハウジング。
- 前記織メッシュ材料が、1のオーダーであるマイクロメーター単位の孔径をもつメッシュ孔を有することを特徴とする、請求項3に記載の光学ハウジング。
- 前記気体透過性表面材料が有孔金属であることを特徴とする、請求項1に記載の光学ハウジング。
- 前記気体透過性表面材料が多孔性媒質であることを特徴とする、請求項1に記載の光学ハウジング。
- 前記光学素子が、CLBO、CD*A、LBO、BBO、KDP、KD*P、LiNbO3、CaF2、及びMgF2から選択される少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする、請求項1に記載の光学ハウジング。
- 前記吸着材料が、分子ふるい、シリカ・ゲル、活性アルミナ、及び活性炭から選択される少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする、請求項1に記載の光学ハウジング。
- 前記吸着材料が、少なくとも1つの小容器に閉じ込められることを特徴とする、請求項1に記載の光学ハウジング。
- 前記外部環境の前記少なくとも1つの成分が水蒸気を含むことを特徴とする、請求項1に記載の光学ハウジング。
- 前記容器が、前記囲いの前記内部容積の中に延びる突出部を形成するように該囲いに連結されることを特徴とする、請求項1に記載の光学ハウジング。
- 内部容積を有し、外部環境から実質的にシールされるようにすることができる囲いと、
前記内部容積内に配置され、前記外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む光学素子と、
前記囲いに連結され、表面に対して少なくとも0.1の割合を有する気体透過性表面領域を含む容器と、
前記容器内に配置され、少なくとも1つの気体種を自然に吸収する特徴を有する吸着材料と、
を備える光学ハウジング。 - 前記容器の内部表面領域に対する気体透過性表面領域の割合が、少なくとも約0.3であることを特徴とする、請求項12に記載の光学ハウジング。
- 内部容積領域を有し、外部環境から実質的にシールされるようにすることができる囲いと、
前記内部容積内に配置され、前記外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む光学素子と、
気体透過性表面、及び、内部への気体不透過性アクセス・ポートを有し、該気体不透過性アクセス・ポートが光学ハウジング外側の一部分となる状態で、該ハウジングの前記内部容積の中に延びる突出部を形成するように該ハウジングに連結される容器と、
前記容器内に配置され、少なくとも1つの気体種を吸収する特徴を有する吸着材料と、
を備える光学ハウジング。 - 前記アクセス・ポートが観測窓を含むことを特徴とする、請求項14に記載の光学ハウジング。
- 前記観測窓がスペクトル・フィルタを含むことを特徴とする、請求項15に記載の光学ハウジング。
- レーザと、
外部環境から実質的にシールされるようにすることができて、前記レーザからレーザ・ビームを受け取り、出力として光放射線を放出するように構成することができる囲いと、
前記囲いの内部容積内に配置され、前記外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む光学素子と、
気体透過性表面を有し、前記囲いに連結される容器と、
前記容器内に配置され、少なくとも1つの気体種を自然に吸収する特徴を有する吸着材料と、
を備えるレーザ・システム。 - 紫外線を発生させることを特徴とする、請求項17に記載のレーザ・システム。
- H2Oの電子遷移及びH2Oの回転振動遷移から選択される遷移の組に含まれる遷移に伴う波長が重なる放射線を発生させることを特徴とする、請求項17のレーザ・システム。
- 前記気体透過性表面の少なくとも一部分が、光放射線を実質的に通さないことを特徴とする、請求項17のレーザ・システム。
- 前記気体透過性表面が、光を実質的に通さない織メッシュであることを特徴とする、請求項17のレーザ・システム。
- 前記光学素子が、CLBO、CD*A、LBO、BBO、KDP、KD*P、LiNbO3、CaF2、及びMgF2から選択される材料の組に含まれる少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする、請求項17に記載のレーザ・システム。
- 前記吸着材料が、分子ふるい、シリカ・ゲル、活性アルミナ、及び活性炭から選択される材料の組に含まれる少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする、請求項17に記載のレーザ・システム。
- 内部容積及び内部表面領域を有し、外部環境から実質的にシールされるようにすることができる囲いと、
前記内部容積内に配置され、前記外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む光学素子と、
前記内部容積内に配置され、少なくとも1つの気体種を自然に吸収する特徴を有する吸着材料と、
を備える光学ハウジング。 - 前記吸着材料を光出力密度から隔離するための隔離部材をさらに含むことを特徴とする、請求項24に記載の光学ハウジング。
- 前記光学素子が、CLBO、CD*A、LBO、BBO、KDP、KD*P、LiNbO3、CaF2、及びMgF2から選択される材料の組に含まれる少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする、請求項24に記載の光学ハウジング。
- 前記吸着材料が、分子ふるい、シリカ・ゲル、活性アルミナ、及び活性炭から選択される材料の組に含まれる少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする、請求項24に記載の光学ハウジング。
- 内部容積及び内部表面領域を有し、外部環境から実質的にシールされるようにすることができる囲いと、
前記内部容積内に配置されるレーザと、
前記内部容積内に配置され、前記外部環境の少なくとも1つの成分に曝されることによって変化する少なくとも1つの物理的特徴を有する材料を含む光学素子と、
前記内部容積内に配置され、少なくとも1つの気体種を自然に吸収する特徴を有する吸着材料と、
を備えるレーザ・システム。 - 紫外線を発生させることを特徴とする、請求項28に記載のレーザ・システム。
- H2Oに強く吸収される波長の放射線を発生させることを特徴とする、請求項28に記載のレーザ・システム。
- 前記光学素子が、CLBO、CD*A、LBO、BBO、KDP、KD*P、LiNbO3、CaF2、及びMgF2から選択される材料の組に含まれる少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする、請求項28に記載のレーザ・システム。
- 前記吸着材料が、分子ふるい、シリカ・ゲル、活性アルミナ及び活性炭から選択される材料の組に含まれる少なくとも1つの材料を含むことを特徴とする、請求項28に記載のレーザ・システム。
- 内部容積を有し、外部環境から実質的にシールされるようにすることができる囲いを提供し、
前記外部環境の少なくとも1つの成分に曝すことによって変化する少なくとも1つの物理的又は光学的特徴を有する材料を含む光学素子を、前記内部容積内に配置し、
前記囲いに連結される吸着材料を備え、
前記外部環境の少なくとも1つの成分を含み、前記光学素子の少なくとも1つの物理的又は光学的特徴を変化させる少なくとも1つの気体種を、吸収プロセスによって前記吸着材料に捕集する、
ことを含む、その場で感受性光学素子を保護するための方法。 - 前記吸着材料を、前記光学素子がレーザ放射に曝される前に、アクセス・ポートを通して取り出すことをさらに含む、請求項33に記載の方法。
- 前記吸着材料を光フルエンスから隔離することをさらに含む、請求項33に記載の方法。
- 前記吸着材料を小容器内に閉じ込めることにより、エアロゾルの生成を緩和することをさらに含む、請求項33に記載の方法。
- 前記吸着材料を小容器内に閉じ込めることにより、気体の放出を緩和することをさらに含む、請求項33に記載の方法。
- 前記吸着材料に捕集される前記少なくとも1つの気体種が、H2Oを含むことを特徴とする、請求項33に記載の方法。
- 前記内部容積の相対湿度が、120分未満で約5%未満にまで減少することを特徴とする、請求項33に記載の方法。
- 前記内部容積の相対湿度が、30分未満で約5%未満にまで減少することを特徴とする、請求項33に記載の方法。
- 内部チャンバの相対湿度が、少なくとも30日の間、5%未満に維持されることを特徴とする、請求項33に記載の方法。
- 内部チャンバの相対湿度が、少なくとも30日の間、2%未満に維持されることを特徴とする、請求項33に記載の方法。
- 内部チャンバの相対湿度が、少なくとも180日の間、2%未満に維持されることを特徴とする、請求項33に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/006,997 US6816536B2 (en) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | Method and apparatus for in situ protection of sensitive optical materials |
PCT/US2002/037990 WO2003048000A2 (en) | 2001-11-30 | 2002-11-26 | METHOD AND APPARATUS FOR $I(IN SITU) PROTECTION OF SENSITIVE OPTICAL MATERIALS |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005511421A true JP2005511421A (ja) | 2005-04-28 |
Family
ID=21723649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003549202A Pending JP2005511421A (ja) | 2001-11-30 | 2002-11-26 | 感受性光学材料をその場で保護する方法及び装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6816536B2 (ja) |
EP (1) | EP1458631A2 (ja) |
JP (1) | JP2005511421A (ja) |
AU (1) | AU2002365888A1 (ja) |
WO (1) | WO2003048000A2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018525824A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-09-06 | エム スクエアード レーザーズ リミテッドM Squared Lasers Limited | レーザシステムのパージシステム |
JP2019106512A (ja) * | 2017-12-14 | 2019-06-27 | 株式会社キーエンス | レーザ加工装置及びレーザ発振器 |
JP7512799B2 (ja) | 2020-09-28 | 2024-07-09 | 東芝ライテック株式会社 | 流体殺菌装置 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7436867B2 (en) * | 2002-11-27 | 2008-10-14 | Intel Corporation | Hermetically sealed external cavity laser system and method |
JP2004317566A (ja) * | 2003-04-11 | 2004-11-11 | Orc Mfg Co Ltd | レーザ装置及びレーザ波長変換装置 |
US7014630B2 (en) * | 2003-06-18 | 2006-03-21 | Oxyband Technologies, Inc. | Tissue dressing having gas reservoir |
US20060098698A1 (en) * | 2004-11-10 | 2006-05-11 | Lightwave Electronics Corporation | Frequency-converting lasers with non-linear materials optimized for high power operation |
KR20100046196A (ko) * | 2007-08-01 | 2010-05-06 | 딥 포토닉스 코포레이션 | 펄스형 고조파 자외선 레이저 장치 및 펄스형 고조파 자외선 생성 방법 |
US8631487B2 (en) | 2010-12-16 | 2014-01-14 | Research In Motion Limited | Simple algebraic and multi-layer passwords |
JP2013239696A (ja) * | 2012-04-16 | 2013-11-28 | Amada Co Ltd | ファイバレーザ発振器,ファイバレーザ加工装置,及びファイバレーザ発振器の除湿方法 |
WO2014131016A1 (en) | 2013-02-25 | 2014-08-28 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for gas flow mitigation of molecular contamination of optics |
CN113573840A (zh) * | 2019-02-02 | 2021-10-29 | 努布鲁有限公司 | 高可靠性、高功率、高亮度蓝色激光二极管系统及其制造方法 |
CN110429456B (zh) * | 2019-08-21 | 2024-03-26 | 中国人民解放军陆军工程大学 | 可扩展温度适应范围的组合ktp倍频器件及其调整方法 |
CN111689041B (zh) * | 2020-05-22 | 2022-02-18 | 宁夏菲杰特检测有限公司 | 一种精密电子仪器管理系统 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB437139A (en) * | 1934-08-07 | 1935-10-24 | Barr & Stroud Ltd | Improvements in or connected with desiccating apparatus for instruments or parts of instruments |
JPH07270627A (ja) * | 1994-03-28 | 1995-10-20 | Ngk Insulators Ltd | 光ファイバ内蔵碍子における乾燥剤の収納ケース |
JP2000075184A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Fuji Photo Optical Co Ltd | レンズ鏡胴における乾燥剤の取付構造 |
US6036321A (en) * | 1997-05-16 | 2000-03-14 | Spectra Physics Lasers, Inc. | Crystal isolation housing |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5550851A (en) * | 1994-09-15 | 1996-08-27 | Litton Systems, Inc. | Laser system decontamination method and apparatus |
JPH09292638A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Sony Corp | 高出力紫外線レーザー光発生装置 |
EP1669738A3 (en) * | 1996-10-09 | 2007-12-12 | Symyx Technologies, Inc. | Infrared spectroscopy and imaging of libraries |
US5990377A (en) * | 1997-03-21 | 1999-11-23 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Dual-zoned absorbent webs |
US20010006610A1 (en) * | 1998-02-03 | 2001-07-05 | Michael J Miller | Contained indicators for determining sterilizations |
US6087952A (en) * | 1998-03-06 | 2000-07-11 | Mobile Information Systems, Inc. | Remote mobile data suite and method |
JP3884213B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2007-02-21 | 三菱電機株式会社 | レーザ発振器 |
-
2001
- 2001-11-30 US US10/006,997 patent/US6816536B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-11-26 JP JP2003549202A patent/JP2005511421A/ja active Pending
- 2002-11-26 EP EP02804456A patent/EP1458631A2/en not_active Withdrawn
- 2002-11-26 AU AU2002365888A patent/AU2002365888A1/en not_active Abandoned
- 2002-11-26 WO PCT/US2002/037990 patent/WO2003048000A2/en active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB437139A (en) * | 1934-08-07 | 1935-10-24 | Barr & Stroud Ltd | Improvements in or connected with desiccating apparatus for instruments or parts of instruments |
JPH07270627A (ja) * | 1994-03-28 | 1995-10-20 | Ngk Insulators Ltd | 光ファイバ内蔵碍子における乾燥剤の収納ケース |
US6036321A (en) * | 1997-05-16 | 2000-03-14 | Spectra Physics Lasers, Inc. | Crystal isolation housing |
JP2000075184A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Fuji Photo Optical Co Ltd | レンズ鏡胴における乾燥剤の取付構造 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018525824A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-09-06 | エム スクエアード レーザーズ リミテッドM Squared Lasers Limited | レーザシステムのパージシステム |
JP2019106512A (ja) * | 2017-12-14 | 2019-06-27 | 株式会社キーエンス | レーザ加工装置及びレーザ発振器 |
JP7169063B2 (ja) | 2017-12-14 | 2022-11-10 | 株式会社キーエンス | レーザ加工装置及びレーザ発振器 |
JP7512799B2 (ja) | 2020-09-28 | 2024-07-09 | 東芝ライテック株式会社 | 流体殺菌装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6816536B2 (en) | 2004-11-09 |
US20030103545A1 (en) | 2003-06-05 |
WO2003048000A3 (en) | 2004-04-29 |
EP1458631A2 (en) | 2004-09-22 |
WO2003048000A2 (en) | 2003-06-12 |
AU2002365888A1 (en) | 2003-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005511421A (ja) | 感受性光学材料をその場で保護する方法及び装置 | |
JPWO2006129502A1 (ja) | 固体レーザ装置 | |
EP2888790B1 (en) | High power solid-state laser with replaceable module for uv generation | |
US7948673B2 (en) | Optical wavelength conversion element having a cesium-lithium-borate crystal | |
US6002697A (en) | Diode pumped laser with frequency conversion into UV and DUV range | |
US4229709A (en) | Laser device | |
EP3338329B1 (en) | Purging system for a laser system | |
KR100491946B1 (ko) | 파장 변환 방법, 파장 변환 장치 및 레이저 가공기 | |
WO2007149214A2 (en) | Vacuum cell for optical components | |
US20100275845A1 (en) | Ultraviolet-resistant materials and devices and systems including same | |
US11152759B2 (en) | High temperature optical molecular anti-contamination getter system | |
JP2008242184A (ja) | 波長変換装置、紫外線レーザ装置およびレーザ加工装置 | |
EP1048974A1 (en) | Crystal holding device | |
EP1312976B1 (en) | Laser apparatus provided with a wavelength conversion device | |
JPH11271820A (ja) | 非線形光学素子を用いた波長変換方法、波長変換装置及びレーザシステム | |
JP7436661B2 (ja) | レーザ装置 | |
US5550851A (en) | Laser system decontamination method and apparatus | |
JP2003295241A (ja) | レーザ装置用保持箱及びレーザシステム | |
JP2006049605A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JPH05218530A (ja) | レーザ光学部品保持装置及び固体レーザ装置 | |
JPWO2002045218A1 (ja) | 固体レーザ装置 | |
JPH11288012A (ja) | 結晶保持装置 | |
JP2004014886A (ja) | レーザー装置の収容ケースおよびそれを用いたレーザーシステム | |
JP2000124121A (ja) | 光学装置、露光装置、鏡筒、連結装置、筐体および鏡筒端部遮蔽物 | |
JPH04156517A (ja) | 光波長変換装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071225 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080325 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080401 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080818 |