JP2004014886A - レーザー装置の収容ケースおよびそれを用いたレーザーシステム - Google Patents

レーザー装置の収容ケースおよびそれを用いたレーザーシステム Download PDF

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赤川 和幸
Akira Takazawa
高沢 章
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Abstract

【課題】レーザー装置を所定の環境下に配設することができるようにする。
【解決手段】レーザー装置を内部に収容可能な本体部と、上記本体部に配設され、上記本体部の内部の水蒸気を上記本体部の外部に排出して、上記本体部内を所定の湿度に維持する除湿ユニットとを有する。また、上記除湿ユニットは、上記本体部に穿設された開口部に配設され、上記本体部の内部の水蒸気を分解する第1の電極と、上記第1の電極による水蒸気の分解で発生した水素が透過する高分子電解質膜と、上記高分子電解質膜を上記第1の電極との間で狭持し、上記高分子電解質膜を透過した水素を上記本体部の外部の酸素と反応させ、水蒸気として上記本体部の外部に排出する第2の電極とを有する。
【選択図】    図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザー装置の収容ケースおよびそれを用いたレーザーシステムに関し、さらに詳細には、各種レーザー装置を収容するのに用いて好適なレーザー装置の収容ケースおよびそれを用いたレーザーシステムに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、光学部品や電子部品などの各種部品により構成されるレーザー装置においては、レーザー装置内で発生する光には指向性があってエネルギー密度が高いため、こうした光により各種部品に損傷を与える恐れがあった。そして、レーザー装置内で発生した光による各種部品の損傷は、レーザー装置の外部環境の湿度が高いほど生起し易くなっている。
【0003】
より詳細には、レーザー装置の外部環境の湿度が高いと、レーザー装置の電子部品には腐食が生じることがある。
【0004】
また、レーザー装置の外部環境の湿度が高い場合には、レーザー装置の各種部品の表面に水分が付着し、さらにその各種部品の表面の水分に塵やほこりなどが堆積することになる。そして、各種部品の表面に付着した水分や塵、ほこりなどが、レーザー装置内で発生する光の熱を吸収すると、光学部品などは損傷してしまうことがある。
【0005】
さらに、各種部品の表面に付着した水分や塵、ほこりなどによって散乱などの影響が生じると、レーザー装置からのレーザーの出力が低下したり、光学部品の透過率が低下するなどの新たな問題点が生起されることになっていた。
【0006】
また、上記したようなレーザー装置には、励起用ランプや励起用レーザーダイオードなどの熱源が配設されていることが多く、これら熱源を冷却するための冷却水を用いたシステムやペルチェ素子を用いたシステムなどの冷却装置も配設されている。
【0007】
これらレーザー装置に配設された冷却装置は、レーザー装置においては周囲に比べて冷却された箇所となるため、レーザー装置の外部環境の湿度が高い場合には、当該冷却装置に結露が生じてしまい、レーザー装置に大きなダメージを与えることになる。
【0008】
上記したようにしてレーザー装置の外部環境の湿度が高い場合に生起される各種不具合を解消するために、レーザー装置自体を密閉構造とすることや、あるいは、レーザー装置の外部から窒素ガスや乾燥空気などを供給することなどが提案されている。
【0009】
しかしながら、レーザー装置自体を密閉構造にすることは、レーザー装置全体が大型の場合には困難であるという問題点があった。また、レーザー装置自体を密閉構造にしてしまうと、レーザー装置の調整のときなどにレーザー装置を開けることができないという問題点があった。
【0010】
一方、レーザー装置の外部から窒素ガスや乾燥空気などを供給するには、ボンベなどの大型の装置を付加しなければならず、メンテナンスの手間がかかるという問題点があった。
【0011】
さらに、レーザー装置の運搬時には、上記いずれの場合も、レーザー装置自体が密閉構造であると低温度にさらされ相対湿度が100を越えて結露が生じ、レーザー装置の外部からの窒素ガスや乾燥空気などの供給も継続できないので結露が生じてしまうという問題点があった。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記したような従来の技術の有する種々の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、レーザー装置を所定の環境下に配設することができるようにしたレーザー装置の収容ケースおよびそれを用いたレーザーシステムに関する。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のうち請求項1に記載の発明は、レーザー装置を内部に収容可能な本体部と、上記本体部に配設され、上記本体部の内部の水蒸気を上記本体部の外部に排出して、上記本体部内を所定の湿度に維持する除湿ユニットとを有するようにしたものである。
【0014】
従って、本発明のうち請求項1に記載の発明によれば、除湿ユニットによって、本体部の内部の水蒸気が本体部の外部に排出され、本体部内が所定の湿度に維持されるので、本体部の内部に収容されたレーザー装置を所定の環境下に配設することができる。
【0015】
また、本発明のうち請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、上記除湿ユニットは、上記本体部の内部の水蒸気を分解して上記本体部の外部に排出するようにしたものである。
【0016】
また、本発明のうち請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、上記除湿ユニットは、上記本体部に穿設された開口部に配設され、上記本体部の内部の水蒸気を分解する第1の電極と、上記第1の電極による水蒸気の分解で発生した水素が透過する高分子電解質膜と、上記高分子電解質膜を上記第1の電極との間で狭持し、上記高分子電解質膜を透過した水素を上記本体部の外部の酸素と反応させ、水蒸気として上記本体部の外部に排出する第2の電極とを有するようにしたものである。
【0017】
また、本発明のうち請求項4に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、上記除湿ユニットは、上記本体部に配設された中空の箱状体であって、開放すると上記中空の内部空間と上記本体部の内部とが連通して、上記本体部の内部の空気が上記中空の内部空間に流入する第1の扉と、開放すると上記中空の内部空間と上記本体部の外部とが連通して、上記中空の内部空間の空気が上記本体部の外部に放出する第2の扉とを有する箱状部材と、上記箱状部材の内部空間に配設され水蒸気を分解して吸着する吸着物質と、上記吸着物質を加熱し、上記吸着物質に分解して吸着した分解物を水蒸気として放出する加熱手段とを有し、上記第1の扉を開放するとともに上記第2の扉を閉じて、上記第1の扉から上記箱状部材の中空の内部空間に上記本体部の内部の空気を流入させて、上記吸着物質に上記本体部の内部の水蒸気を分解して吸着させた後、上記第2の扉を開放するとともに上記第1の扉を閉じ、上記加熱手段によって上記吸着物質を加熱して、上記吸着物質に分解して吸着した分解物を水蒸気として上記第2の扉から上記本体部の外部に排出するようにしたものである。
【0018】
また、本発明のうち請求項5に記載の発明は、請求項4に記載の発明において、上記吸着物質は、二酸化ケイ素を含む多孔質物質であるようにしたものである。
【0019】
また、本発明のうち請求項6に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、上記除湿ユニットは、上記本体部の内部の水蒸気を結露させて上記本体部の外部に排出するようにしたものである。
【0020】
また、本発明のうち請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の発明において、上記除湿ユニットは、上記本体部に配設された中空の箱状体であって、上記収容ケースの内部と連通する孔部を介して、上記本体部の内部の空気が中空の内部空間に流入する箱状部材と、上記箱状部材の内部空間に配設され、所定の冷却手段によって冷却され、上記箱状部材の上記孔部を介して流入した上記本体部の内部の空気が表面に接触すると結露が生じる冷却フィンと、上記箱状部材の内部空間の空気が、上記冷却フィンを通過し、上記孔部を介して上記本体部の内部に流入するように気流を生起するファンとを有するようにしたものである。
【0021】
また、本発明のうち請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の発明において、上記冷却手段はペルチェ素子であって、該ペルチェ素子の上記冷却ファンとは反対側には上記ペルチェ素子の冷却用のフィンが配設され、該ペルチェ素子のペルチェ効果によって、上記冷却フィンが冷却されるとともに上記ペルチェ素子の冷却用のフィンが加熱されるが、上記ペルチェ素子の冷却用のフィンは、上記ファンが生起する気流によって上記冷却フィンを通過した上記箱状部材の内部空間の空気によって冷却されるようにしたものである。
【0022】
また、本発明のうち請求項9に記載の発明は、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7または請求項8のいずれか1項に記載の発明において、上記除湿ユニットに電池が内蔵されているようにしたものである。
【0023】
また、本発明のうち請求項10に記載の発明は、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8または請求項9のいずれか1項に記載の発明において、上記本体部内は湿度が50%以下に維持されるようにしたものである。
【0024】
また、本発明のうち請求項11に記載の発明は、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8または請求項9のいずれか1項に記載の発明において、上記本体部内は湿度が20%から50%の範囲内に維持されるようにしたものである。
【0025】
また、本発明のうち請求項12に記載の発明は、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9、請求項10または請求項11のいずれか1項に記載の発明において、上記本体部の内部に収容されたレーザー装置は、レーザーのパルス幅が100ピコ秒以下であるようにしたものである。
【0026】
また、本発明のうち請求項13に記載の発明は、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9、請求項10、請求項11または請求項12のいずれか1項に記載の発明において、上記本体部の内部には冷却装置が配設されているようにしたものである。
【0027】
また、本発明のうち請求項14に記載の発明は、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9、請求項10、請求項11、請求項12または請求項13のいずれか1項に記載のレーザー装置の収容ケースと、上記収容ケースの本体部の内部に収容されたレーザー装置とを有するようにしたものである。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面に基づいて、本発明によるレーザー装置の収容ケースおよびそれを用いたレーザーシステムの実施の形態の一例を詳細に説明するものとする。
【0029】
図1(a)には、本発明によるレーザー装置の収容ケースを用いたレーザーシステムの一部を破断して示した概略構成説明図が示されており、図1(b)には、(a)のA矢視図が示されている。
【0030】
レーザーシステム200は、レーザー装置102と、レーザー装置102を内部に収容する収容ケース10とを有して構成されている。
【0031】
レーザー装置102は、所定の透過性を有する出射側ミラー104と入射された光を全反射する全反射ミラー106とにより構成されたレーザー共振器と、レーザー共振器の光路上の出射側ミラー104と全反射ミラー106との間に配置された波長可変レーザー媒質108ならびにQスイッチ110と、出射側ミラー104から出射するレーザー光を集光する集光レンズ112と、集光レンズ112によって集光されたレーザー光が入射する波長変換結晶114とを有して構成されている。
【0032】
一方、収容ケース10は、内部12aが中空の略箱状体の本体部12と、本体部12に配設された除湿ユニット14とを有して構成されている。
【0033】
本体部12は、例えば、耐熱性材料により形成され、内部12aを気密な状態で本体部12の外部から隔離する6つの平面部、即ち、上面部12b、底面部12c、正面部12d,背面部12e,左側面部12fならびに右側面部12gを備えている。
【0034】
この本体部12の内部12aにはレーザー装置102が配設される。そして、本体部12の正面部12dには、レーザー装置102から出射された出射レーザー光のみを透過する光学窓13が形成されている。より詳細には、この光学窓13は、レーザー装置102の波長変換結晶114の出射面114b側に位置するようにして形成されており、レーザー装置102から出射される出射レーザー光の種類に応じて、例えば、シリカガラスにより形成されるものである。
【0035】
図2には、除湿ユニット14を中心に示した概略構成説明図が示されており、除湿ユニット14は、本体部12の左側面部12fに穿設された開口部12ffを覆うようにして配設されている。
【0036】
より詳細には、除湿ユニット14は、本体部12の左側面部12fの開口部12ffの外周側にOリング16を介して配設される取付部材18と、取付部材18に支持され本体部12の左側面部12fの開口部12ff側に位置する電極20と、電極20との間で高分子電解質膜24を狭持するようにして取付部材18に支持された電極22と、電極20ならびに電極22に直流電流を供給する電池26とを有して構成されている。
【0037】
このように、除湿ユニット14においては、電極20が本体部12の内部12a側に位置し、電極22が本体部12の外部側に位置している。これら電極20ならびに電極22はいずれも、多孔質の電極である。そして、電極20は電池26によって直流電流が供給されると陽極となり、電極22は電池26によって直流電流が供給されると陰極となるようになされている。
【0038】
電極20と電極22とによって狭持される高分子電解質膜24は、陽イオン導電性固体高分子膜により形成されている。この高分子電解質膜24の透過孔の大きさはサブミクロンのオーダーであるため、高分子電解質膜24を透過して本体部12に内部12aに塵などが流入することはない。
【0039】
なお、高分子電解質膜24が電極20と電極22とによって狭持される構成は、例えば、白金黒を含むペーストを塗布した2枚の金属多孔板によって、陽イオン導電性固体高分子膜を挟み込み、それらを高温プレスして形成することができる。即ち、上記したようにすると、接合面の食い込み部に白金黒と白金担持カーボンなどが3次元的に分布して、触媒層が形成される。これにより、金属多孔板の一方と触媒層とが電極20のような陽極となり、金属多孔板の他方と触媒層とが電極22のような陰極となって、陽イオン導電性固体高分子膜からなる高分子電解質膜24が狭持された構成となる。
【0040】
以上の構成において、レーザーシステム200よりレーザー光を得るには、励起レーザー光を用いてレーザー装置102の波長可変レーザー媒質108を励起する。すると、波長可変レーザー媒質108から出射された出射光が、全反射ミラー106によって反射されてレーザー共振器内を往復する。
【0041】
そして、レーザー共振内を往復して増幅されたレーザー光は、Qスイッチ110によって高出力のパスル光となって出射側ミラー104から出射される。出射側ミラー104から出射されたレーザー光は、集光レンズ112によって集光されて波長変換結晶114の入射面114aに入射する。その結果、波長変換結晶114の出射側114bからは、波長変換結晶114により所定の波長に変換された出射レーザー光が出射される。
【0042】
こうしてレーザー装置102の波長変換結晶114の出射面114bから出射された出射レーザー光が、波長変換結晶114の出射面114bの近傍に位置する収容ケース10の本体部12の光学窓13から収容ケース10の外部に出射されて、レーザーシステム200によりレーザー光を得ることができる。
【0043】
ここで、上記したようにしてレーザー光が得られるレーザーシステム200において、レーザー装置102を収容する収容ケース10は、レーザー装置102が配置される本体部12の内部12aが、除湿ユニット14によって所定の湿度で維持されている。
【0044】
より詳細には、図3に示すように、除湿ユニット14の電極20は、電池26によって直流電流が供給されて陽極となり、電極22は電池26によって直流電流が供給されて陰極となる。
【0045】
そして、収容ケース10の本体部12の内部12aの水蒸気を構成する水分子(HO)は、本体部12の内部12a側に位置した陽極である電極20の表面20aならびに内部20bにおいて、以下に示す化学式1によって、酸素分子(O)と水素イオン(H)と電子(e)とに分解される。
【0046】
O→2H+1/2O+2e・・・化学式1
除湿ユニット14の電極20による水蒸気の分解で発生した水素イオン(H)は、陽イオン導電性固体高分子膜により形成される高分子電解質膜24を透過して、電極22に到達する。この際、電子(e)は取付部材18などを通って電極22に到達する。
【0047】
そして、本体部12の外部側に位置した陰極である電極22の表面22aならびに内部22bにおいて、以下に示す化学式2によって、高分子電解質膜24を透過した水素イオン(H)が本体部12の外部の酸素分子(O)と反応して水蒸気となる。
【0048】
2H+1/2O+2e→HO ・・・化学式2
こうして本体部12の内部12aの水蒸気が、除湿ユニット14の電極20によって分解され、電極22から本体部12の外部に排出されるので、本体部12の内部12aを除湿することができ、レーザー装置102が配置される本体部12の内部12aは所定の湿度に維持される。
【0049】
上記したようにして、収容ケース10は除湿ユニット14を有するようにしたため、収容ケース10の本体部12の内部12aが所定の湿度に維持されるようになり、本体部12の内部12aに配置されるレーザー装置102を所定の環境下におくことができる。
【0050】
このため、収容ケース10を用いることにより、本体部12の内部12aに配置されたレーザー装置102の電子部品に腐食が発生することを防止できる。また、収容ケース10を用いることにより、レーザー装置102の各種部品の表面に水分や塵、ほこりなどが付着することを防止できるので、光学部品などの損傷を防ぐことができる。
【0051】
従って、収容ケース10を用いると、収容ケース10内に収容されたレーザー装置102の各種部品などを良好な状態に維持することができるので、レーザー装置102からのレーザーの出力の低下や光学部品の透過率の低下などを抑止でき、レーザー装置102から安定して出射レーザー光を得ることができるレーザーシステム200を実現できる。
【0052】
また、収容ケース10の本体部12の内部12aにレーザー装置102を収容すると、レーザー装置102を外部から遮断できるので、レーザー装置自体を密閉構造にする必要がなく、収容されたレーザー装置の各種調整も容易に行うことができる。
【0053】
また、収容されるレーザー装置全体の大きさに応じて収容ケース10の寸法設定を行えば、大型のレーザー装置であっても、収容ケース10の内部12aに収容することが可能となり、大型のレーザー装置を所定の環境下におくことができる。
【0054】
さらに、この収容ケース10においては、レーザー装置の外部から窒素ガスや乾燥空気などを供給する必要がないので、ボンベなどの大型の装置を付加する必要がなく、省スペース化を実現でき、メンテナンスに手間がかからない。
【0055】
さらにまた、収容ケース10の除湿ユニット14には電池26が内蔵されているので、レーザーシステム200の運搬時にも除湿ユニット14を動作させることができる。このため、レーザーシステム200の運搬にトラックや飛行機などを使用する際において、レーザー装置102が収容されている収容ケース10の内部と外部とに温度差が生じても、除湿ユニット14を動作させることにより、収容ケース10の本体部12の内部12aを所定の湿度に維持できるので、相対湿度が常に低く保たれることになって、レーザー装置内の結露を防止することができる。
【0056】
なお、上記した除湿ユニット14においては、電池26としては、例えば、DC3Vのものを用いればよく、その場合には電流値も1μA以下となる。即ち、除湿ユニット14は小型の電池で長時間動作可能であるので、収容ケース10の内部に収容したレーザー装置を、長時間所定の環境下におくことができる。
【0057】
また、除湿ユニット14において、電池26に代わって他の種類の電源を用いてもよいことは勿論である。
【0058】
そして、収容ケース10においては、除湿ユニット14の動作時間を調整するなどして、本体部12の内部12aの湿度を50%以下に維持することができ、レーザー装置102の各種部品の表面への水分や塵、ほこりなどの付着を一層確実に防止して、本体部12の内部12aに配置されるレーザー装置102を所定の環境下におくことができる。
【0059】
また、収容ケース10においては、除湿ユニット14により、本体部12の内部12aの湿度を20%から50%の範囲内に維持することができ、レーザー装置102の光学部品を良好な状態で動作させることができる。
【0060】
より詳細には、レーザー装置102に配設された光学部品であるミラーの表面に、反射膜などの薄膜が形成されていることがある。こうした場合に、ミラーの外部環境の湿度が低くなりすぎると、ミラー表面に形成された薄膜の厚みが変動したり、あるいは薄膜が剥離してしまい、レーザー出力の低下や光学部品の透過率、反射率の変動を引き起こす恐れがある。
【0061】
このため、収容ケース10により、本体部12の内部12aの湿度を20%から50%の範囲内に維持して、湿度が低くなりすぎることを防止すると、レーザー装置102の光学部品を良好な状態に維持することができ、レーザー装置102のレーザー出力の低下や光学部品の透過率ならびに反射率の低下などがなく、一層確実にレーザー装置102から安定して出射レーザー光を得ることができるレーザーシステム200を実現することができる。
【0062】
次に、図4乃至図8を参照しながら、上記した収容ケース10の除湿ユニット14の他の例について説明する。なお、図1乃至図3に示す構成と同一あるいは相当する構成には、図1乃至3と同一の符号を付して示すことにより、その詳細な説明は省略する。
【0063】
図4には、上記した収容ケース10の除湿ユニット14とは異なる構成を有する除湿ユニット34を中心に示した概略構成説明図が示されており、この除湿ユニット34は、収容ケース10の本体部12の左側面部12fの開口部12ffの外周側にOリング16を介して配設された内部36aが中空の略箱状体である箱状部材36と、箱状部材36の内部36aに配設された吸着物質38と、吸着物質38を加熱するヒーター40とを有して構成されている。
【0064】
ここで、箱状部材36は、本体部12の開口部12ff側に開閉自在に配設された内側扉36bと、本体部12の外部側に開閉自在に配設された外側扉36cとを有している。また、箱状部材36の外側扉36c近傍には、フィルター42が配設されている。このフィルター42は、本体部12に内部12aに塵などが流入することを防止するものである。
【0065】
そして、この箱状部材36の内部36aは、内側扉36bが開放されると本体部12の内部12aと連通することになり、外側扉36cが開放されると本体部12の外部と連通することになる。なお、内側扉36bならびに外側扉36cの開閉には、例えば、図示しないモーターの駆動力や、あるいは、形状記憶部材などを用いることができる。
【0066】
吸着物質38は、水分子の吸着が可能な各種除湿剤、例えば、多孔質物質などを用いることができる。この実施の形態においては、吸着物質38として二酸化ケイ素を含む多孔質物質であるシリカゲルを用いることとする。なお、吸着物質38はシリカゲルに限られるものではないことは勿論であり、例えば、二酸化ケイ素およびアルミナを含むゼオライトとしてもよい。
【0067】
ヒーター40は、吸着物質38の種類に応じた所定の温度で、吸着物質38を加熱するものである。ヒーター40の加熱により、吸着物質38たるシリカゲルの水蒸気の吸着能力を所定のレベルに維持することができる。
【0068】
以上の構成において、レーザー装置102を収容する収容ケース10においては、レーザー装置102が配置される本体部12の内部12aが、除湿ユニット24によって所定の湿度で維持される。以下、この点について詳細に説明する。
【0069】
まず、図5(a)に示すように、外側扉36cが閉じている状態で内側扉36bを開放する。なお、この際、ヒーター40は駆動されずオフとなっている。
【0070】
そうすると、箱状部材36の内部36aに、収容ケース10の本体部12の内部12aの空気が流入する。内部36aに流入した空気中の水蒸気を構成する水分子(HO)が、箱状部材36の内部36aに配設されている吸着物質38たるシリカゲルの表面でOHイオンとHイオンとに分解して吸着される。
【0071】
この後、内側扉36bを閉じるとともに、外側扉36cを開放する(図5(b)に示す状態参照)。この際、ヒーター40を駆動しオンにする。
【0072】
そうすると、ヒーター40により吸着物質38たるシリカゲルが加熱されるので、シリカゲルに吸着したOHイオンとHイオンとが再結合して放出され、水蒸気となって外側扉36cから本体部12の外部に排出される。
【0073】
こうして本体部12の内部12aの水蒸気が、除湿ユニット24の吸着物質38によって分解されて吸着され、吸着物質38の加熱によって本体部12の外部に排出されるので、本体部12の内部12aを除湿することができ、レーザー装置102が配置される本体部12の内部12aは所定の湿度に維持される。
【0074】
図6には、上記した収容ケース10の除湿ユニット14,34とは異なる構成を有する除湿ユニット54を中心に示した概略構成説明図が示されており、この除湿ユニット54は、収容ケース10の本体部12の左側面部12fの開口部12ffの外周側にOリング16を介して配設された内部56aが中空の略箱状体である箱状部材56と、箱状部材56の内部56aに配設されたペルチェ素子58と、ペルチェ素子58の一方の面58aに配設された冷却フィン60と、ペルチェ素子58の他方の面58bに配設された放熱フィン62と、放熱フィン62側に配設されたファン64と、受け皿66と排水管68とからなる排水機構70とを有して構成されている。
【0075】
ここで、箱状部材56は、本体部12の開口部12ff側と連通する開口部56bを備えている。
【0076】
ペルチェ素子58は、冷却フィン60が配設される面58aが低温側(吸熱側)となり、放熱フィン62が配設される面58b側が高温側(放熱側)となるようにして電流が供給される。そして、ペルチェ素子58は、面58bに配設された放熱フィン62が、箱状部材56の開口部56b近傍に位置するようにして、箱状部材56の内部56aに配設されている。
【0077】
ファン64は、放熱フィン62側に配設され、箱状部材56の開口部56bが連通する本体部12の開口部12ffに位置している。
【0078】
排水機構70を構成する受け皿66は、冷却フィン60の重力方向に沿った下方側に配設され、排水管68は受け皿66に接続して箱状部材56の外部に至る。
【0079】
以上の構成において、レーザー装置102を収容する収容ケース10は、レーザー装置102が配置される本体部12の内部12aが、除湿ユニット54によって所定の湿度で維持される。以下、この点について詳細に説明する。
【0080】
より詳細には、ペルチェ素子58に電流が供給されると、低温側(吸熱側)となる面55aに配設された冷却フィン60が冷却される。
【0081】
そして、図7に示すように、本体部12の開口部12ffに位置するファン64が駆動されると、気流が生起され、箱状部材56の開口部56bを介して内部56aに、収容ケース10の本体部12の内部12aの空気が流入する(図7に示す実線矢印参照)。
【0082】
すると、流入した本体部12の内部12aの空気が、ペルチェ素子58によって冷却されている冷却フィン60の表面で冷やされて結露が生じる。こうして生じた冷却フィン60の表面の結露は、重力に従って落下して受け皿66に堆積し、排水管68によって排水される。
【0083】
さらに、含有する水蒸気が結露して排出された本体部12の内部12aから流入した空気は、ファン64によって生起された気流に従って、本体部12の内部12aに戻される(図7に示す破線矢印参照)。この際、含有する水蒸気が結露して排出された本体部12の内部12aへ戻される空気(図7に示す破線矢印参照)は、冷却フィン60を通過して冷やされており、ペルチェ素子58の高温側(放熱側)となる面58bに配設されている放熱フィン62を通過する際に放熱ファンを冷却することになる。その結果、ペルチェ素子58が冷却されるので、ペルチェ素子58の良好な動作状態が維持される。
【0084】
こうして本体部12の内部12aの水蒸気が、除湿ユニット54の冷却フィン60で結露して、排水機構70を介して本体部12の外部に排出されるので、本体部12の内部12aを除湿することができ、レーザー装置102が配置される本体部12の内部12aは所定の湿度に維持される。
【0085】
なお、除湿ユニット54は、上記したようにして本体部12の開口部12ffに配設されるのに限られるものではないことは勿論であり、例えば、図8に示す除湿ユニット54’のように、本体部12の内部12aに配設されるようにしてもよい。
【0086】
また、上記した実施の形態においては、収容ケース10には、レーザー装置102が収容されるようにしたが、これに限られるものではないことは勿論である。
【0087】
例えば、収容ケース10に収容されるレーザー装置は、レーザーのパルス幅が100ピコ秒以下のレーザー装置としてもよい。このような短パルスのレーザーは瞬間的な輝度が高いため、通常のレーザー、例えば、連続発振レーザーやパスル幅がナノ秒のパスルレーザーに比べて、光学材料の損傷が生じ易いものである。具体的には、同じパルスエネルギーの場合、1ピコ秒のパルスの輝度は1ナノ秒のパルスに比べて10倍ほど高い。このため、瞬間的な輝度が高く光学材料の損傷の可能性が高い短パルスのレーザーは、収容ケース10に収容して所定の環境下に配設することにより、効率的に動作させることができる。
【0088】
また、収容ケース10に収容されるレーザー装置としては、その内部に冷却水やペルチェ素子などの冷却装置を使用しているものでもよい。こうしたレーザー装置を収容ケース10配設する場合には、収容ケース10の本体部12の内部12aに冷却装置が配設されることになるが、この場合には、レーザー装置内に周囲よりも冷却された箇所が存在することになり、周囲の温度が高い場合には当該箇所に結露が生じることがある。従って、冷却装置を使用したレーザー装置の方が冷却装置を使用していないレーザー装置よりも湿度に弱いものであるので、こうしたレーザー装置を収容ケース10に収容して所定の環境下に配設することにより、当該レーザー装置をより効率的に動作させることができる。
【0089】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したように構成されているので、レーザー装置を所定の環境下に配設することができるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】
(a)は、本発明によるレーザー装置の収容ケースを用いたレーザーシステムの一部を破断して示した概略構成説明図であり、(b)は、(a)のA矢視図である。
【図2】図1(a)のB矢視図に対応し除湿ユニットを中心に示した概略構成説明図である。
【図3】図2に示す除湿ユニットの動作を示す説明図である。
【図4】図2に示す除湿ユニットの他の例を示す概略構成説明図である。
【図5】図4に示す除湿ユニットの動作を示す説明図であり、(a)は、内側扉が開放されている状態を示す説明図であり、(b)は、外側扉が開放されている状態を示す説明図である。
【図6】図2に示す除湿ユニットの他の例を示す概略構成説明図である。
【図7】図6に示す除湿ユニットの動作を示す説明図である。
【図8】図6に示す除湿ユニットの他の例を示す概略構成説明図である。
【符号の説明】
10    収容ケース
12    本体部
12a   内部
12b   上面
12c   底面
12d   正面
12e   背面
12f   左側面
12ff  開口部
12g   右側面
13    光学窓
14,34,54    除湿ユニット
18    取付部材
20,22 電極
24    高分子電解質膜
26    電池
36    箱状部材
36a   内部
36b   内側扉
36c   外側扉
38    吸着物質
40    ヒーター
42    フィルター
56    箱状部材
56a   内部
58    ペルチェ素子
58a,58b  面
60    冷却フィン
62    放熱フィン
64    ファン
66    受け皿
68    排水管
70    排水機構
102    レーザー装置
104    出射側ミラー
106    全反射ミラー
108    波長可変レーザー媒質
110    Qスイッチ
112    集光レンズ
114    波長変換結晶
114b   出射面
200    レーザーシステム

Claims (14)

  1. レーザー装置を内部に収容可能な本体部と、
    前記本体部に配設され、前記本体部の内部の水蒸気を前記本体部の外部に排出して、前記本体部内を所定の湿度に維持する除湿ユニットと
    を有するレーザー装置の収容ケース。
  2. 請求項1に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記除湿ユニットは、前記本体部の内部の水蒸気を分解して前記本体部の外部に排出する
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  3. 請求項2に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記除湿ユニットは、
    前記本体部に穿設された開口部に配設され、前記本体部の内部の水蒸気を分解する第1の電極と、
    前記第1の電極による水蒸気の分解で発生した水素が透過する高分子電解質膜と、
    前記高分子電解質膜を前記第1の電極との間で狭持し、前記高分子電解質膜を透過した水素を前記本体部の外部の酸素と反応させ、水蒸気として前記本体部の外部に排出する第2の電極と
    を有するものであるレーザー装置の収容ケース。
  4. 請求項2に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記除湿ユニットは、
    前記本体部に配設された中空の箱状体であって、開放すると前記中空の内部空間と前記本体部の内部とが連通して、前記本体部の内部の空気が前記中空の内部空間に流入する第1の扉と、開放すると前記中空の内部空間と前記本体部の外部とが連通して、前記中空の内部空間の空気が前記本体部の外部に放出する第2の扉とを有する箱状部材と、
    前記箱状部材の内部空間に配設され水蒸気を分解して吸着する吸着物質と、
    前記吸着物質を加熱し、前記吸着物質に分解して吸着した分解物を水蒸気として放出する加熱手段と
    を有し、
    前記第1の扉を開放するとともに前記第2の扉を閉じて、前記第1の扉から前記箱状部材の中空の内部空間に前記本体部の内部の空気を流入させて、前記吸着物質に前記本体部の内部の水蒸気を分解して吸着させた後、前記第2の扉を開放するとともに前記第1の扉を閉じ、前記加熱手段によって前記吸着物質を加熱して、前記吸着物質に分解して吸着した分解物を水蒸気として前記第2の扉から前記本体部の外部に排出する
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  5. 請求項4に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記吸着物質は、二酸化ケイ素を含む多孔質物質である
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  6. 請求項1に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記除湿ユニットは、前記本体部の内部の水蒸気を結露させて前記本体部の外部に排出する
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  7. 請求項6に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記除湿ユニットは、
    前記本体部に配設された中空の箱状体であって、前記収容ケースの内部と連通する孔部を介して、前記本体部の内部の空気が中空の内部空間に流入する箱状部材と、
    前記箱状部材の内部空間に配設され、所定の冷却手段によって冷却され、前記箱状部材の前記孔部を介して流入した前記本体部の内部の空気が表面に接触すると結露が生じる冷却フィンと、
    前記箱状部材の内部空間の空気が、前記冷却フィンを通過し、前記孔部を介して前記本体部の内部に流入するように気流を生起するファンと
    を有するものであるレーザー装置の収容ケース。
  8. 請求項7に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記冷却手段はペルチェ素子であって、該ペルチェ素子の前記冷却ファンとは反対側には前記ペルチェ素子の冷却用のフィンが配設され、該ペルチェ素子のペルチェ効果によって、前記冷却フィンが冷却されるとともに前記ペルチェ素子の冷却用のフィンが加熱されるが、前記ペルチェ素子の冷却用のフィンは、前記ファンが生起する気流によって前記冷却フィンを通過した前記箱状部材の内部空間の空気によって冷却される
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  9. 請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7または請求項8のいずれか1項に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記除湿ユニットに電池が内蔵されている
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  10. 請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8または請求項9のいずれか1項に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記本体部内は湿度が50%以下に維持される
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  11. 請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8または請求項9のいずれか1項に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記本体部内は湿度が20%から50%の範囲内に維持される
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  12. 請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9、請求項10または請求項11のいずれか1項に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記本体部の内部に収容されたレーザー装置は、レーザーのパルス幅が100ピコ秒以下である
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  13. 請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9、請求項10、請求項11または請求項12のいずれか1項に記載のレーザー装置の収容ケースにおいて、
    前記本体部の内部には冷却装置が配設されている
    ものであるレーザー装置の収容ケース。
  14. 請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9、請求項10、請求項11、請求項12または請求項13のいずれか1項に記載のレーザー装置の収容ケースと、
    前記収容ケースの本体部の内部に収容されたレーザー装置と
    を有するレーザー装置の収容ケースを用いたレーザーシステム。
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