JPH03163888A - ガスレーザ装置 - Google Patents

ガスレーザ装置

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JPH03163888A
JPH03163888A JP27640289A JP27640289A JPH03163888A JP H03163888 A JPH03163888 A JP H03163888A JP 27640289 A JP27640289 A JP 27640289A JP 27640289 A JP27640289 A JP 27640289A JP H03163888 A JPH03163888 A JP H03163888A
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JP
Japan
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airtight container
molecules
dehumidifying element
porous electrodes
porous
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JP27640289A
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Tsukasa Fukushima
司 福島
Akihiro Otani
昭博 大谷
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/26Drying gases or vapours
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/32Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
    • B01D53/326Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00 in electrochemical cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、レーザ媒質ガス中に混入する水分等の湿気
を除去することが可能なガスレーザ装置に関するもので
ある。
[従来の技術] 第4図および第5図は従来のガスレーザ装置の構成図で
あり、それぞれ正面断面図と側面断面図を示している。
各図において、(1)は気密容器、(2a)及び(2b
】は気密容器(1)内にそれぞれ対向配置された放電電
極、(3)は放電電極(2a) , (2b)に接続さ
れ、気密容器(1)の外部に配設された高電圧電源、(
4)は放電電極(2a) . (2b)間に発生した放
電、(5)及び(6)は気密容器(1)に取り付けられ
た部分反射鏡と全反射鏡、(7)はレーザビーム、(8
)は微小な孔が無数に形成され、例えばモレキュラシー
ブス等の乾燥剤を内部に収納する乾燥器で、気密容器(
ll内に取り付けられている。(9)はレーザ媒質ガス
を冷却する熱交換器、(lO)はレーザ媒質ガスを高速
で循環するブロア、(11)及び(l2)は放電電極(
za) . (21))から熱交換器(9)までのレー
ザ媒質ガスの流路を構成するガスガイド板である。
なお、上記気密容器(1)内部には、レーザ媒質?スと
してCO■、CO、N2, H.等の混合ガスが満たさ
れている。
次に動作について説明する。
放電電極f2a) , (2b)に高電圧電源(3)に
より高電圧を印加すると、放電電極(2a) , (2
b)間に均一なグロー状の放電(4)が発生する。この
放電によリレーザ媒質ガスが励起され、部分反射鏡(5
)及び全反射鏡(6)で構成される光共振器で発振が生
じ、発振光の一部がレーザビーム(7)として部分反射
鏡(5)から外に取り出される。
このとき、放電(4)によってレーザ媒質ガスが加熱さ
れるが、加熱されたレーザ媒質ガスはブロア(lO)で
加速され、ガスガイド板(ill. (12)で構成さ
れる流路により熱交換器(9)に導かれて冷却される。
そして、冷却されたレーザ媒質ガスはブロア(IO)に
より再び放電(4)部分に導かれ、気密容器(1)内を
循環する。
ところで、レーザ発振時であっても、気密容器(1)内
には、高圧電線給電部、熱交換器(9)、放電電極(2
a) . (2b)の冷却水供給部、レーザ媒質ガス供
給部等の気密容器(1)内部及び外部の各種真空シール
部を通じ、外気から微量ではあるがH20分子が侵入し
、レーザ媒質ガス中に混入することになる。
また、部分反射鏡(5)や全反射鏡(6)の清掃、交換
等のメンテナンス作業時においては、気密容器(1)が
大気中に開放状態になるため、このときにH20分子が
侵入して気密容器(1)内の各種構成物表面に付着する
ことになる。
レーザ媒質ガスに混入したH20分子が増加すると放電
(4)が乱れ、均一なグロー放電から局部的に集中した
アーク状の放電になるため、レーザ励起効率が低下し、
この結果、レーザ出力が低下することは知られている。
そこで、七記のようなH20分子によるレーザ出力の低
下を防止するために、例えばモレキュラシーブス等の乾
燥剤を気密容器(1)に入れ、この乾燥剤によってH2
0分子を吸収するような対策が施されているのである。
なお、乾燥剤は、H20分子をある程度吸収すると吸収
能力が低下するために、定期的に交換されていろ。
[発明が解決しようとする課題] 従来のガスレーザ装置は以上のように構成されているの
で、足期的に乾燥剤を交換しなければならず、これに伴
うメンテナンスコストの高騰を招く。また、乾燥剤の微
小な粒子が、乾燥器(8)の微小な孔から排出して部分
反射鏡(5)や全反射鏡(6)に付着すると、レーザ光
によって鏡表面に焼き付くために、部分反射鏡(5)や
全反射鏡(6)の寿命が短くなるなどの課題があった。
この発明は上記のような課題を解決するためになされた
もので、乾燥剤の定期的な交換を不要にするとともに、
光学部品の長寿命化を図ることが可能なガスレーザ装置
を得ることを目的としでいる。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係るガスレーザ装置は、レーザ媒質ガスを封
入する気密容器と、この気密容器に設けられ、固体電解
質膜を介して対向配置された一対の多孔性電極から成る
除湿素子と、多孔性電極間に電圧を印加する電源とを備
えたものである。
また、七記気密容器内の検出湿度と気密容器内の設定湿
度とを比較し、この比較結果に応じて上記電源を制御す
るように制御手段を設けたものである。
[作用] この発明においては、除湿素子により気密容器内の[2
0分子が吸収され、気密容器の外に排出される。
また、制御手段により気密容器内が所定の湿度になるよ
うに、除湿素子の能力が調整される。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明によるガスレーザ装置の構成を示す正面断
面図であり、従来のガスレーザ装置と同一部分には同一
符号を付して、その詳しい説明は省略する。
図において、(l3)は除湿素子であり、対向配置され
た一対の多孔性電極(14a) . (14b)と、こ
の両者間に設けられた固体電解質膜(l5)とから構成
されている。そして、一方の多孔性電極(14a)が気
密容器(1)の内側、他方の多孔性電極(14b)が気
密容器(1)の外側になるように気密容器(1)に設け
られている。(16)は除湿素子(I3)の多孔性電極
(14a) . (14b)に直流電圧を供給する直流
電源である。
次に、この発明の動作について説明するが、レーザビー
ム(7)の出力に至るまでは従来と同様であるので説明
を省略し、ここでは、除湿素子(l3)による気密容器
(1)内の除湿動作を説明する。
除湿素子(l3)の気密容器(l)内側の多孔性電極(
14a)が、プラスの極性となるように一対の多孔性電
極(14a) , (14b)に直流電圧を印加すると
、気密容器(1)内の}120分子が気密容器(1)内
側の多孔性電極(14a)に吸収されて02分子を放出
する。
同時に、気密容器(1)外側の多孔性電極(14b)か
らはH20分子が放出されて02分子が吸収される。
以上が、除湿素子(l3)の基本的な除湿動作の原理で
あるが、つぎに、その詳細を第2図を用いて(7) 説明する。
図に示すように、除湿素子(l3)は、水素イオンH+
を選択的に透過させる固体電解質膜(15)と、この固
体電解質膜(15)の両面に、例えば金属メッキ等で構
成した多孔性電極(14a) . (14b)とで構成
されている。
この構成において、多孔性電極(14a) . (14
b)間に3〜5■の直流電圧を印加すると、プラス側の
多孔性電極(14a)部でH20分子が酸素02と水素
イオンH+に分解される。そして、分解された酸素02
はレーザ媒質ガス中に放出されるが、一方の水素イオン
H′は電流の流れに沿って固体電解質膜(l5)内を移
動し、マイナス側の多孔性電極(14b)部で酸素02
と再び結合してH20分子を生成し、外部に放出される
このような除湿素子(l3)の動作原理によって、第1
図に示す気密容器(11内のH20分子が気密容器(1
)外へ排出されることになるので、従来装置の乾燥剤と
同様に、気密容器(1)内の湿度を低くすることができ
るのである。
(8) ?お、除湿素子(l3)は材質的な劣化がほとんどない
ために定期的な交換は不要であり、また、除湿素子(l
3)が分解してレーザ媒質中に混入し、部分反射鏡(5
)や全反射鏡(6)の表面に付着することもないので、
上記のような光学部品の寿命を長くすることができる。
さらに、除湿素子(l3)は上記のほかに次のような効
果を生ずる。
気密容器(1)内の多孔性電極(14a)では、H.0
分子を吸収すると同時に酸素02をレーザ媒質ガス中に
放出することは前述のとおりである。
レーザ媒質ガス中のCO■分子は、放電(4)によりC
Oと02に解離反応(C02→CO+’/20■)によ
って分解され、これによってCO■の濃度が減少ずるた
めにレーザ出力が徐々に低下して行くことは周知である
が、この場合、除湿素子(l3)によって酸素02が供
給されるので、002分子の解離反応が抑制され、レー
ザ出力の低下を防止することができる。
したがって、安定したレーザ出力が得られるとともに、
長期間レーザ媒質ガスを使用することが可能になるので
ある。
ところで、上記実施例では、除湿素子(l3)に印加す
る電圧が一定であるために、除湿能力は変化することな
く常に一定である。しかし、気密容器(1)内の湿度は
、気密容器(1)に侵入するI{20分子の侵入量によ
って変化することになるので、この湿度の変化によって
レーザ励起効率が微妙に変化するため,高精度,高安定
なレーザ出力を得ることができなくなるという欠点が生
じてくる。
そこで、これらの欠点を解消するものとして第3図に示
す方法がある。第3図は、前述の実施例の装置に気密容
器(lj内の湿度を制御する手段を付加した構成図であ
り、図において、(l8)は気密容器(1)内の湿度を
測定する湿度測定手段(l7)により検出された湿度が
所定値になるように、直流電源(l6)の電圧を制御し
て除湿素子(l3)の除湿能力を調整する制御手段、(
l9)は所定の湿度を設定する湿度設定指令である。
この構成においては、気密容器m内の湿度は湿度測定手
段(17)によって測定される。そして、測定された湿
度は、予め湿度設定指令(I9)に設定された気密容器
,(1)内の所定湿度と比較され、その比較結果に応じ
て、除湿素子(l3)の除湿能力を調整すべく制御手段
(l8)が直流電源に48号を出力することになる。
これによって、気密容器(1)内の湿度が常に所定値に
制御され、高精度、高安定なレーザ出力を得ることがで
きるのである。
「発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、レーザts質ガスを収
納する気密容器と、この気密容器に設けられ、固体電解
質膜を介して対向配置された一対の多孔性電極から成る
除湿素子と、上記多孔性電極間に電圧を印加する電源と
によりガスレーザ装置を構成したので、気密容器内の除
湿を行う乾燥剤の定期的な交換が不要になり、これに伴
うメンテナンス費用も不要となって大きな経済効果が得
られる。
また、全反射鏡や部分反射鏡等の光学部品への何着物が
ないために、光学部品の長寿命化が可能(ii) 示す。
になり、高信頼性のガスレーザ装置が得られるという効
果がある。
また、気密容器内の検出湿度と気密容器内の設定湿度と
を比較し、この比較結果に応じてNtXを制御するよう
に構成したので、気密容器内の湿度が常に一定に保たれ
ることによって、レーザ出力の精度および安定性の向上
を図ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例によるガスレーザ装1置を
示す正面断面図、第2図はこの発明による除湿素子の動
作原理を説明する図、第3図はこの発明の他の実施例に
よるガスレーザ装置を示すiE面断面図、第4図は従来
のガスレーザ装置を示す正面断面図、第5図は同側面断
面図である。 図において、 (1)は気密容器、(l3)は除湿素子
(14a) , (14b)は多孔性電極、(l5)は
固体電解質膜(l6)は直流電源、(l7)は湿度測定
手段、(18)は制御手段、(19)は湿度設定指令で
ある。 なお、図中、同一符号は同−、又は相当部分を(l2)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レーザ媒質ガスを封入する気密容器と、この気密
    容器に設けられ、固体電解質膜を介して対向配置された
    一対の多孔性電極から成る除湿素子と、上記多孔性電極
    間に電圧を印加する電源とを備えて成るガスレーザ装置
  2. (2)レーザ媒質ガスを封入する気密容器と、この気密
    容器に設けられ、固体電解質膜を介して対向配置された
    一対の多孔性電極から成る除湿素子と、上記多孔性電極
    間に電圧を印加する電源と、上記気密容器内の検出湿度
    と気密容器内の設定湿度を比較し、この比較結果に応じ
    て上記電源を制御する制御手段とを備えて成るガスレー
    ザ装置。
JP27640289A 1989-10-24 1989-10-24 ガスレーザ装置 Pending JPH03163888A (ja)

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