JP2005340675A - プリント配線板および磁気ディスク装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】プリント配線板本体部と外部とを接続するプリント配線板接続部の柔軟性の向上を図ったプリント配線板および磁気ディスク装置を提供する。
【解決手段】プリント配線板本体とプリント配線板接続部とが、絶縁基板上に第1の配線パターン、絶縁膜、プリント配線板接続部の幅方向に形成されない空領域を備える第2の配線パターンが順に配置されることで一体的に構成される。第2の配線パターンがプリント配線板接続部の幅方向に形成されないことでプリント配線板接続部の柔軟性が向上される。プリント配線板接続部の両端近傍で層間接続部を介して、第1、第2の配線パターンを接続することで、この空領域で第2の配線パターンを不要としている。
【選択図】図1

Description

本発明は、プリント配線板および磁気ディスク装置に関する。
プリント配線板を電子機器等に接続する場合がある。このような場合に、プリント配線板本体部とハーネス用突出片とを可撓性のある絶縁樹脂フィルムで一体的に形成する技術が公開されている(特許文献1参照)。
特開2003−124579
しかしながら、プリント配線板本体部とハーネス用突出片とを可撓性のある絶縁樹脂フィルムで一体的に形成しても、ハーネス用突出片の柔軟性が充分であるとは限らない。
上記に鑑み、本発明はプリント配線板本体部と外部とを接続するプリント配線板接続部の柔軟性の向上を図ったプリント配線板および磁気ディスク装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係るプリント配線板は、プリント配線板本体と、前記プリント配線板本体と接続される第1の端部および前記プリント配線板本体と接続されない第2の端部を備えるプリント配線板接続部と、を有するプリント配線板であって、前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される絶縁基板と、前記絶縁基板上の主面上に形成され、かつ前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される第1の配線パターンと、前記第1の配線パターン上に形成され、かつ前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される絶縁膜と、前記絶縁膜上に一体的に形成される第2の配線パターンであって、前記プリント配線板接続部の前記第1の端部近傍の第1の領域と、前記プリント配線板接続部の前記第2の端部近傍の第2の領域と、を有し、かつ前記第1、第2の領域間の前記プリント配線板接続部の幅方向に形成されない第2の配線パターンと、前記絶縁膜を通して、前記第1の配線パターンと、前記第2の配線パターンの第1の領域と、を電気的に接続する第1の層間接続部と、前記絶縁膜を通して、前記第1の配線パターンと、前記第2の配線パターンの第2の領域と、を電気的に接続する第2の層間接続部と、を具備することを特徴とする。
プリント配線板本体とプリント配線板接続部とが、絶縁基板上に第1の配線パターン、絶縁膜、プリント配線板接続部の幅方向に形成されない空領域を備える第2の配線パターンが順に配置されることで一体的に構成される。第2の配線パターンがプリント配線板接続部の幅方向に形成されないことでプリント配線板接続部の柔軟性が向上される。プリント配線板接続部の両端近傍で層間接続部を介して、第1、第2の配線パターンを接続することで、この空領域で第2の配線パターンを不要としている。
本発明によればプリント配線板本体部と外部とを接続するプリント配線板接続部の柔軟性の向上を図ったプリント配線板および磁気ディスク装置を提供できる。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図1(A),(B)は本発明の第1実施形態に係るプリント配線板10の上面および断面を表す上面図および断面図である。
プリント配線板10は、プリント配線板本体部11と、プリント配線板接続部12とに区分され、絶縁基板21,配線パターン22,23,絶縁膜24,25,配線パターン26,27を有する。
プリント配線板本体部11には電子部品13〜15が配置され電子部品13〜15による信号処理が行われる。
プリント配線板接続部12は、プリント配線板本体部11から凸形状に突き出されている。プリント配線板接続部12は、プリント配線板本体部11と外部との電気的接続のためのものであり、その端部に電気接栓16、17が配置される。電気接栓16、17は、プリント配線板10と外部との電気的な接続のための外部接続端子として機能する。後述するように、プリント配線板接続部12にはフレキシブル性(柔軟性)が付与される。
絶縁基板21は、プリント配線板本体部11と、プリント配線板接続部12とで一体的に形成され、絶縁性を有する基板である。
絶縁基板21には、例えば、ポリイミド樹脂を用いることができる。また、絶縁基板21には繊維を含む樹脂を用いることができる。例えば、繊維(不織布等)にエポキシ樹脂等の樹脂を含浸させて硬化することで、樹脂含浸繊維(あるいは、繊維含有樹脂)を作成できる。絶縁基板21に樹脂含浸繊維を用いると、絶縁基板21の柔軟性を向上することができる。この繊維として、例えば、アラミド繊維を用いることができる。なお、アラミド繊維とは、その分子骨格が芳香族(ベンゼン環)からなるポリアミド繊維(aromatic polyamide fiber)であり、高耐熱性等の特性を有する。
配線パターン22,23は、絶縁基板21の両面に、プリント配線板本体部11と、プリント配線板接続部12とで一体的に形成されている。配線パターン22,23は、絶縁基板21に金属(例えば、銅)等の導電性の皮膜を形成し、これをエッチング等でパターニングすることで形成できる。
配線パターン22,23は、層間接続部31で電気的に接続される。層間接続部31は、絶縁基板21を貫通する導体、例えば、導電性ペーストで形成される。
絶縁膜24,25は、配線パターン22,23上(配線パターン22,23が形成されていない箇所では絶縁基板21上)に、プリント配線板本体部11と、プリント配線板接続部12とで一体的に形成されている。絶縁膜24,25は、有機材料、または無機材料の皮膜、例えば、絶縁基板21と同様に樹脂含浸繊維(具体的には、エポキシ樹脂を含浸させたアラミド繊維)から形成できる。
配線パターン26,27は、絶縁膜24,25上に、プリント配線板本体部11と、プリント配線板接続部12とで一体的に形成されている。
ここで、配線パターン26,27は、プリント配線板接続部12の両端近傍の領域A1,A2には形成されるが、領域A1,A2間に配置された領域A3には形成されていない。領域A3、即ち、プリント配線板接続部12の中央付近の幅方向に配線パターン26,27が形成されていないことからプリント配線板接続部12の柔軟性の向上が図られる。
ここでいう「幅方向」とはプリント配線板接続部12の配線方向に略垂直な方向である。領域A3はプリント配線板接続部12の幅方向全域に広がっている。この結果、プリント配線板接続部12の長手方向(配線方向)での柔軟性が向上する。
これに対して、プリント配線板接続部12の長手方向全域には、領域A3が広がってはいない(領域A1,A2が存在する)。プリント配線板接続部12の長手方向に配線パターン26,27が配置された領域(領域A1,A2)があっても、プリント配線板接続部12の長手方向(配線方向)での柔軟性の向上にはさほど支障がないからである(領域A3での曲げ性が向上すれば足りる)。
プリント配線板接続部12の領域A3では、絶縁基板21,配線パターン22,23,絶縁膜24,25,のみが配置され、配線パターン26,27が配置されていないことから、プリント配線板本体部11と比較して層数が減少しているためである。また、配線パターン26,27は金属から構成されるのが通例であり、有機材料であることが通例の絶縁膜24,25や絶縁基板21よりも柔軟性が小さい場合が多い。このため、配線パターン26,27を領域A3に配置しないことで、単に層数を減少した以上の柔軟性の向上が図られる。
領域A1の配線パターン26,27はそれぞれ、層間接続部32,33によって配線パターン22,23と電気的に接続される。また、領域A2の配線パターン26,27はそれぞれ、層間接続部34,35によって配線パターン22,23と電気的に接続される。即ち、領域A1、A2間の配線パターン26は、層間接続部32、配線パターン22、層間接続部34によって電気的に接続される。また、領域A1、A2間の配線パターン27は、層間接続部33、配線パターン23、層間接続部35によって電気的に接続される。この結果、領域A3に配線パターン26,27が全く配置されなくても、配線パターン26,27全体としての電気的接続は確保される。
領域A1の配線パターン26は電子部品13と電気的に接続される。また、領域A2の配線パターン26は電気接栓16と電気的に接続される。この結果、電子部品13と電気接栓16とが電気的に接続される。
領域A1の配線パターン27はプリント配線板本体部11内の層間接続(図示せず)等により電子部品13、14,15のいずれかと電気的に接続される。また、領域A2の配線パターン27は電気接栓17と電気的に接続される。この結果、電子部品13等と電気接栓17とが電気的に接続される。
ここで、領域A1の配線パターン26、27は、必ずしもプリント配線板接続部12内に存在する必要はなく、プリント配線板本体部11内のみに存在してもよい。この場合でも、領域A1,A2間で配線パターン26、27の電気的接続を図れる。
(プリント配線板10の製造工程)
以下に、プリント配線板10の製造工程を説明する。
図2はプリント配線板10の製造工程の一例を表すフロー図である。また、図3は図2に示したプリント配線板の製造工程におけるプリント配線板10の状態を表す断面図である。
なお、ここでは判りやすさのためにプリント配線板10の上下同時に形成される場合を表すが、必ずしも上下同時の形成を要する訳ではなく、上方の形成後に下方を形成する等上下それぞれの形成の手順は適宜に設定することができる。
A.絶縁基板21上への導体膜41、42の形成(ステップS1、図3(A))
絶縁基板21として、例えば、アラミド繊維にエポキシ樹脂を含浸させて硬化させた樹脂含浸繊維基板を用いることができる。この絶縁基板21に、銅等の導体膜41、42を形成する。導体膜41、42の形成は、例えば、スパッタリング等の物理的成膜法や無電解メッキ等の化学的成膜方法によって形成できる。スパッタリングや無電解メッキでは膜厚を厚くするのが必ずしも容易でないので、必要に応じて、電解メッキ等によって膜厚を厚くすることができる。
B.絶縁基板21への層間接続部31の形成(ステップS2、図3(B))
絶縁基板21に導体膜41、42間を接続する層間接続部31を形成する。この形成は例えば、次のようにして行える。
1)絶縁基板21を貫通する穴(貫通孔)を形成する。この形成は例えば、微少なドリル等で機械的に行うことができる。
2)貫通孔内に導体膜を形成する。この形成は例えば、導体膜41、42への電気メッキによって行える。
3)貫通孔内に導電性ペーストを充填、硬化させる。
以上の工程では、必要に応じて、導体膜41、42に形成された電気メッキ膜の除去、貫通孔内からはみ出た導電性ペーストの除去等が行われる。
C.絶縁基板21への配線パターン22、23の形成(ステップS3、図3(C))
絶縁基板21上の導体膜41、42をパターニングすることで、配線パターン22、23を形成する。このパターニングは、例えば、レジストでの被覆、露光等によるレジストのパターニング、化学的または物理的なエッチングによる導体膜41、42のパターニング、レジストの除去によって行える。
D.配線パターン22、23上への絶縁膜24,25の形成(ステップS4、図3(D))
配線パターン22、23上に絶縁膜24,25を形成する。この形成は、例えば、樹脂含浸繊維(具体的には、エポキシ樹脂を含浸させたアラミド繊維)を積層して、硬化することによって行える。
E.絶縁膜24,25への層間接続部32,33の形成(ステップS5、図3(E))
絶縁膜24に配線パターン22、26間を接続する層間接続部32,34を、絶縁膜25に配線パターン23、27間を接続する層間接続部33,35を形成する。この形成は例えば、次のようにして行える。
1)絶縁膜24を貫通する穴(貫通孔)を形成する。この形成は例えば、レーザ等を集光して加熱することで行うことができる。この貫通孔によって配線パターン22、23の一部が露出されるようにする。即ち、この貫通孔は配線パターン22、23や絶縁基板21を貫通する必要がない。
2)貫通孔内に導体を充填する。この形成は例えば、絶縁膜24,25への無電解メッキによって行える。無電解メッキによって、絶縁膜24,25上、貫通孔内、貫通孔底部の配線パターン22上に銅等のメッキ膜が形成される。
F.絶縁膜24,25上への配線パターン26、27の形成(ステップS6、図3(F))
絶縁膜24,25上に配線パターン26、27を形成する。この形成は例えば、導体膜の形成、レジストでの被覆、露光等によるレジストのパターニング、化学的または物理的なエッチングによる導体膜のパターニング、レジストの除去によって行える。
また、層間接続部32,33を形成したときの工程を利用して行える。即ち、層間接続部32,33の形成に無電解メッキ等を用いた場合には、絶縁膜24,25上にメッキ膜が形成されていることから、メッキ膜のパターニングにより配線パターン26、27を形成できる。無電解メッキ膜は一般にある程度以上厚い膜を形成するのが困難であることから、必要に応じて、パターニングされた無電解メッキ膜に電解メッキを施せばよい。
以上のようにして、配線パターン26、27が形成される。この形成の際に、領域A3では配線パターン26、27が全く形成されないようにして、層間接続部31の柔軟性の向上が図られる。
その後、必要に応じて配線パターン26、27上にソルダマスクを形成し、外界からの保護を図る。ここで、領域A3には配線パターン26、27が配置されていないことから、領域A3へのソルダマスクの形成を省略することができる。このようにすると、層間接続部31の柔軟性のさらなる向上が図られる。
さらに、基板21等から個別のプリント配線板10を切り出す。一度に複数のプリント配線板10を形成するのが通例だからである。また、電子部品13〜15をプリント配線板10に搭載する。
(第2の実施の形態)
図4(A),(B)は、本発明の第2実施形態に係るプリント配線板の上面および断面を表す上面図および断面図である。
プリント配線板10aでは、プリント配線板接続部12の先端部分にコネクタ51、52が実装されている。その他の点では第1の実施形態と実質的な相違がある訳ではないので、詳細な説明を省略する。
(第3の実施の形態)
図5(A),(B)は、本発明の第3実施形態に係る磁気ディスク装置100の上面および側面を表す上面図および側面図である。
磁気ディスク装置100は、プリント配線板10cおよびプリント配線板10c面に接続された磁気ディスクドライブ60により構成される。この磁気ディスク装置100は、必要に応じて、ケーシング(図示せず)に覆われ、外界から保護される。
図6は磁気ディスクドライブ60を図5(A)の裏面側から見た状態を表す斜視図である。磁気ディスクドライブ60は、ベース61,スピンドルモータ62,磁気ディスク63,ヘッドサブアセンブリ65,ベアリングユニット66,ボイスコイルモータ67を有する。
プリント配線板10c自体は、第1の実施形態と本質的な相違がある訳ではないので、詳細な説明を省略する。
(その他の実施形態)
本発明の実施形態は上記の実施形態に限られず拡張、変更可能であり、拡張、変更した実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
例えば、本実施形態では絶縁基板21の両面に配線パターン22,23,26,27を配置しているが片面のみでも差し支えない。また、配線パターンの層数を増やし第1の実施形態の4層から、例えば、6層とすることができる。この場合には、配線パターン26,27それぞれの上に絶縁層、配線パターン、絶縁層、配線パターンが順に配置される。
また、第1の実施形態では配線パターン26,27のみをプリント配線板接続部12の幅方向(幅方向全域)に除去されていたが、他の配線パターン、即ち、配線パターン22,23のいずれかをプリント配線板接続部12の幅方向に除去してもよい。即ち、配線パターン22,23,26,27のいずれか1つによってプリント配線板接続部12内での電気的接続が図られれば良い。例えば、配線パターン22でプリント配線板接続部12内での電気的接続を確保するときには、他の配線パターン23,26,27は、直接、あるいは間接に配線パターン22と電気的に接続すれば、結果として、配線パターン23,26,27はプリント配線板接続部12を介した外部との電気的接続を確保できることになる。
本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の上面および断面を表す上面図および断面図である。 プリント配線板の製造工程の一例を表すフロー図である。 図2に示したプリント配線板の製造工程におけるプリント配線板の状態を表す断面図である。 本発明の第2実施形態に係るプリント配線板の上面および断面を表す上面図および断面図である。 本発明の第3実施形態に係る磁気ディスク装置の上面および側面を表す上面図および側面図である。 図5に示す磁気ディスクドライブの斜視図である。
符号の説明
10…プリント配線板、11…プリント配線板本体部、12…プリント配線板接続部、13〜15…電子部品、16,17…電気接栓、21…絶縁基板、22,23,26,27…配線パターン、24,25…絶縁膜、31〜35…層間接続部

Claims (4)

  1. プリント配線板本体と、前記プリント配線板本体と接続される第1の端部および前記プリント配線板本体と接続されない第2の端部を備えるプリント配線板接続部と、を有するプリント配線板であって、
    前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される絶縁基板と、
    前記絶縁基板上の主面上に形成され、かつ前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される第1の配線パターンと、
    前記第1の配線パターン上に形成され、かつ前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される絶縁膜と、
    前記絶縁膜上に一体的に形成される第2の配線パターンであって、前記プリント配線板接続部の前記第1の端部近傍の第1の領域と、前記プリント配線板接続部の前記第2の端部近傍の第2の領域と、を有し、かつ前記第1、第2の領域間の前記プリント配線板接続部の幅方向に形成されない第2の配線パターンと、
    前記絶縁膜を通して、前記第1の配線パターンと、前記第2の配線パターンの第1の領域と、を電気的に接続する第1の層間接続部と、
    前記絶縁膜を通して、前記第1の配線パターンと、前記第2の配線パターンの第2の領域と、を電気的に接続する第2の層間接続部と、
    を具備することを特徴とするプリント配線板。
  2. 前記絶縁基板上の前記主面と反対側の主面上に形成され、かつ前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される第3の配線パターンと、
    前記第3の配線パターン上に形成され、かつ前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される第2の絶縁膜と、
    前記第2の絶縁膜上に一体的に形成される第4の配線パターンであって、前記プリント配線板接続部の前記第1の端部近傍の第4の領域と、前記プリント配線板接続部の前記第2の端部近傍の第5の領域と、を有し、かつ前記第4、第5の領域間の前記プリント配線板接続部の幅方向に形成されない第4の配線パターンと、
    前記第2の絶縁膜を通して、前記第3の配線パターンと、前記第4の配線パターンの第4の領域と、を電気的に接続する第3の層間接続部と、
    前記第2の絶縁膜を通して、前記第3の配線パターンと、前記第4の配線パターンの第5の領域と、を電気的に接続する第4の層間接続部と、
    をさらに具備することを特徴とする請求項1記載のプリント配線板。
  3. 前記第2の配線パターン上に形成され、かつ前記プリント配線板本体と前記接続部とで一体的に構成される第3の絶縁膜と、
    前記第3の絶縁膜上に一体的に形成される第5の配線パターンであって、前記プリント配線板接続部の前記第1の端部近傍の第6の領域と、前記プリント配線板接続部の前記第2の端部近傍の第7の領域と、を有し、かつ前記第6、第7の領域間の前記プリント配線板接続部の幅方向に形成されない第5の配線パターンと、
    前記第3の絶縁膜を通して、前記第2の配線パターンと、前記第5の配線パターンの第6の領域と、を電気的に接続する第5の層間接続部と、
    前記第3の絶縁膜を通して、前記第2の配線パターンと、前記第5の配線パターンの第7の領域と、を電気的に接続する第6の層間接続部と、
    をさらに具備することを特徴とする請求項1記載のプリント配線板。
  4. 請求項1記載のプリント配線板を
    具備することを特徴とする磁気ディスク装置。
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