JP2005324088A - 気化器 - Google Patents
気化器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005324088A JP2005324088A JP2004142507A JP2004142507A JP2005324088A JP 2005324088 A JP2005324088 A JP 2005324088A JP 2004142507 A JP2004142507 A JP 2004142507A JP 2004142507 A JP2004142507 A JP 2004142507A JP 2005324088 A JP2005324088 A JP 2005324088A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recess
- substrate
- vaporizer
- liquid
- fuel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/50—Fuel cells
Landscapes
- Fuel Cell (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Abstract
【解決手段】気化器5は、三枚の基板11,12,13をこの順に積み重ねて接合したスタック構造14を有する。第一基板11の接合面には、凹部21が形成され、その凹部21の底には凹部23,23,…が形成されている。第二基板12には、複数の貫通孔24,24,…が形成され、貫通孔24,24,…が凹部23,23,…に対して一対一の関係で相対している。第三基板13の接合面には凹部26が形成されている。凹部21に混合液が供給されると、混合液が凹部23の底に流れ落ち、凹部23の形状に基づいたメニスカスが形成される。薄膜ヒータ31の熱によって混合液が気化し、気化した混合気が貫通孔24,24,…を通じて凹部26に流動し、排出管32を通じて改質器6に供給される。
【選択図】図2
Description
また、より速い熱速度で液体を加熱することができるから、液体の気化速度を高めることができる。
なお、複数の凹部は、二つの空間のうち液体が流入される空間を形成した壁面に形成されていることが望ましい。
CH3OH+H2O→3H2+CO2 …(1)
2CH3OH+H2O→5H2+CO+CO2 …(2)
2CO+O2→2CO2 …(3)
H2→2H++2e- …(4)
2H++1/2O2+2e-→H2O …(5)
薄膜ヒータ31が電力により発熱し、気化器5が所定の温度になるように加熱される。この状態で、燃料容器2内の燃料と水との混合液が流入管33を通じて溝22に流入し、更に凹部21に流入する。凹部21に流入した混合液が凹部21内を広がる。凹部21で広がった混合液は凹部23,23,…の底に流れ落ち、図6に示すように凹部23の側壁から凹部23の側壁にかけて沿った状態の凹状メニスカス99が形成される。ここで、図6は、1つの凹部23及びその周辺を拡大して示した断面図である。
12 第二基板(仕切り壁)
14 スタック構造(気化器本体)
23、323、423、523、623 凹部
24 貫通孔
Claims (7)
- 気化器本体に内部空間が形成され、前記内部空間の壁面に複数の凹部が形成されていることを特徴とする気化器。
- 前記気化器本体を加熱する加熱手段が前記気化器本体に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の気化器。
- 液体が流入される内部空間を形成する壁面を有し、前記壁面には、接触している液体にメニスカスを形成する複数の凹部が設けられていることを特徴とする気化器。
- 仕切り壁が前記内部空間内に配置され、前記内部空間が前記仕切り壁により二つの空間に仕切られ、前記二つの空間のうちの一方から他方に通じる貫通孔が前記仕切り壁に形成されていることを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の気化器。
- 前記仕切り壁が、前記複数の凹部が形成された壁面に対向していることを特徴とする請求項4に記載の気化器。
- 前記貫通孔が前記仕切り壁に複数形成されていることを特徴とする請求項4又は5に記載の気化器。
- 前記複数の貫通孔が前記複数の凹部に対して一対一で相対していることを特徴とする請求項6に記載の気化器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004142507A JP4590928B2 (ja) | 2004-05-12 | 2004-05-12 | 気化器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004142507A JP4590928B2 (ja) | 2004-05-12 | 2004-05-12 | 気化器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005324088A true JP2005324088A (ja) | 2005-11-24 |
JP4590928B2 JP4590928B2 (ja) | 2010-12-01 |
Family
ID=35470859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004142507A Expired - Fee Related JP4590928B2 (ja) | 2004-05-12 | 2004-05-12 | 気化器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4590928B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008063170A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Casio Comput Co Ltd | 反応装置 |
US8486164B2 (en) | 2008-09-05 | 2013-07-16 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Evaporator and fuel reformer having the same |
JP2013230473A (ja) * | 2013-07-19 | 2013-11-14 | Jfe Technos Corp | マイクロチップ |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54147556A (en) * | 1978-05-10 | 1979-11-17 | Hitachi Ltd | Boiling heat-conducting wall |
JP2003269882A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Yoshiro Uko | 積層型蒸発器 |
JP2004108628A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Yoshiro Uko | 蒸発器 |
-
2004
- 2004-05-12 JP JP2004142507A patent/JP4590928B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54147556A (en) * | 1978-05-10 | 1979-11-17 | Hitachi Ltd | Boiling heat-conducting wall |
JP2003269882A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Yoshiro Uko | 積層型蒸発器 |
JP2004108628A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Yoshiro Uko | 蒸発器 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008063170A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Casio Comput Co Ltd | 反応装置 |
US8486164B2 (en) | 2008-09-05 | 2013-07-16 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Evaporator and fuel reformer having the same |
JP2013230473A (ja) * | 2013-07-19 | 2013-11-14 | Jfe Technos Corp | マイクロチップ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4590928B2 (ja) | 2010-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4423847B2 (ja) | 小型化学反応装置 | |
JP3873171B2 (ja) | 改質装置及び発電システム | |
JP4396467B2 (ja) | 反応装置 | |
JP2003048701A (ja) | 蒸発装置、改質装置及び燃料電池システム | |
JP2003045459A (ja) | 加熱装置、改質装置及び燃料電池システム | |
JP5098685B2 (ja) | 小型化学反応装置 | |
JP2004174417A (ja) | 小型化学反応装置 | |
JP2005103399A (ja) | 反応装置及び反応方法 | |
JP4638857B2 (ja) | 薄型改質器 | |
JP4590928B2 (ja) | 気化器 | |
JP4983859B2 (ja) | 燃焼器 | |
JP2005238099A (ja) | 反応器及び流路構造 | |
JP2007091550A (ja) | 反応装置 | |
JP4984760B2 (ja) | 反応装置 | |
JP5168750B2 (ja) | 気化装置、反応装置及び発電装置 | |
JP4552915B2 (ja) | 改質装置及び発電システム | |
JP5320711B2 (ja) | 発電装置 | |
JP4605180B2 (ja) | 小型化学反応装置 | |
JP5168751B2 (ja) | 気化装置、反応装置及び発電装置 | |
JP4400273B2 (ja) | 燃焼器及び反応装置 | |
JP2017183138A (ja) | 固体酸化物形燃料電池装置 | |
JP2017183130A (ja) | 固体酸化物形燃料電池装置 | |
JP2005238100A (ja) | 反応器及び流路構造 | |
JP5182223B2 (ja) | 反応装置 | |
JP5413585B2 (ja) | 反応装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100413 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100611 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100817 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100830 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |