JP2005316390A - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 長期にわたって、良好な白黒表示が可能でかつ初期の表示色および高コントラストを維持可能な液晶表示素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 自己組織型ゲル化剤を含有するコレステリック液晶からなる液晶層を有することを特徴とする液晶表示素子。ゲル化剤を含有するコレステリック液晶を加熱した状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。ゲル化剤を含有し室温で流動性を有するコレステリック液晶を非加熱の状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】 自己組織型ゲル化剤を含有するコレステリック液晶からなる液晶層を有することを特徴とする液晶表示素子。ゲル化剤を含有するコレステリック液晶を加熱した状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。ゲル化剤を含有し室温で流動性を有するコレステリック液晶を非加熱の状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は液晶表示素子およびその製造方法に関する。
従来より、ネマチック液晶にカイラル剤を添加することにより、室温においてコレステリック相を示すようにしたカイラルネマチック液晶組成物を用いた液晶表示素子が知られている。そのような液晶表示素子は基本的には、透明電極を有する一対の基板間にカイラルネマチック液晶組成物が挟持されてなり、電極間に高低のパルス電圧(駆動電圧)を印加するによって液晶をプレーナ(PL)状態とフォーカルコニック(FC)状態またはホメオトロピック(Homeo)状態とに切り替えて表示が行われる。特に、PL状態では特定のピーク波長の光が選択反射されるようになっている。
このような表示素子においては白黒表示や広視野角表示を目的として、ネマチック液晶組成物にポリマーおよび重合開始剤を含有させ、一旦、表示素子を作製した後で、紫外線(UV)照射などを行ってポリマーを重合させる技術が報告されている(例えば、非特許文献1)。
R.Q.Ma、外1名、"SID 97 DIGEST"、p.101〜104
R.Q.Ma、外1名、"SID 97 DIGEST"、p.101〜104
しかしながら、上記技術では十分に重合を行ったとしても、未反応モノマーが残存しないように完全に重合を行うことはできないため、素子の使用時において残存未反応モノマーが紫外線により徐々に反応し、その結果、素子の表示性能が変化するという問題が生じていた。すなわち、表示色が変化したり、PL状態とFC状態またはHomeo状態との間でのコントラストが低下した。特に、PL状態で白を表示し、FC状態またはHomeo状態で黒を表示する黒白表示方式の場合には、上記の問題は顕著であった。
コントラストを向上させる手段として、PL状態における比較的広い波長域での反射率を上げて白表示時での白色度を向上させる方法が知られている。しかしながら、そのような方法ではPL状態における比較的広い波長域での反射率を上げるための材料選択が難しかったり、広い波長域で反射率を上げるために、セルギャップを大きくする必要があるので、駆動電圧の観点から問題となった。
本発明は、長期にわたって、良好な白黒表示が可能でかつ初期の表示色および高コントラストを維持可能な液晶表示素子を提供することを目的とする。また本発明は、新規かつ有用な前記液晶表示素子の製造方法を提供することを他の目的とする。
本発明は、自己組織型ゲル化剤を含有するコレステリック液晶からなる液晶層を有することを特徴とする液晶表示素子に関する。
本発明はまた、ゲル化剤を含有するコレステリック液晶を加熱した状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方法に関する。
本発明はまた、ゲル化剤を含有し室温で流動性を有するコレステリック液晶を非加熱の状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方法に関する。
本発明の液晶表示素子は、長期にわたって、良好な白黒表示が可能でかつ初期の表示色および優れたコントラストを維持可能である。また、本発明の液晶表示素子の製造方法は、短時間で容易に液晶表示素子を作製することができる。
図1は本発明の一実施形態である液晶表示素子の断面構造を示す概略図である。図1に示す液晶表示素子は、一対の基板1、2間に液晶層(液晶組成物)11が挟持されてなる構造を有する。図1において、基板1、2のそれぞれの表面には、互いに平行な複数の帯状に形成された透明電極3、4が設けられている。透明電極3と透明電極4とは互いに交差するように向かい合わされて配置されている。電極3、4上には絶縁性薄膜5がコーティングされている。さらに、絶縁性薄膜5の上には配向膜7が形成されている。10はスペース保持部材と両基板の接着部材とを兼ねる高分子構造物、13は同様にスペース保持部材としてのスペーサーである。12は液晶組成物11をセル内部に封じこめるためのシール材である。また光を入射させる側と反対側の基板2の外面(裏面)には、必要に応じて黒色の可視光吸収層9が設けられる。なお、可視光吸収層9を設ける代わりに、基板2自体が可視光吸収性を有するものを用いても良い。
以下、液晶表示素子の主要な構成部材について詳しく説明する。
以下、液晶表示素子の主要な構成部材について詳しく説明する。
(基板)
図1において基板1、2はいずれも透光性を有しているが、上記の液晶表示素子に用いることができる一対の基板は、少なくとも一方の基板(少なくとも、光を入射させる側の基板1)が透光性を有していればよい。透光性を有する基板としては、ガラス基板、ならびにポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレートおよびポリエチレンテレフタレート等の樹脂からなるフレキシブル基板を使用することができる。素子の軽量化の観点からはフレキシブル基板を使用することが好ましい。一対の基板のうち少なくとも一方の基板、好ましくは両方の基板としてフレキシブル基板を用いると、軽量で薄型の素子を作製でき、また破損(割れ)を抑えることができる。
図1において基板1、2はいずれも透光性を有しているが、上記の液晶表示素子に用いることができる一対の基板は、少なくとも一方の基板(少なくとも、光を入射させる側の基板1)が透光性を有していればよい。透光性を有する基板としては、ガラス基板、ならびにポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレートおよびポリエチレンテレフタレート等の樹脂からなるフレキシブル基板を使用することができる。素子の軽量化の観点からはフレキシブル基板を使用することが好ましい。一対の基板のうち少なくとも一方の基板、好ましくは両方の基板としてフレキシブル基板を用いると、軽量で薄型の素子を作製でき、また破損(割れ)を抑えることができる。
(電極)
電極3、4としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)、IZO(Indium Zinc Oxide:インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電膜や、アルミニウム、シリコン等の金属電極、あるいはアモルファスシリコン、BSO(Bismuth Silicon Oxide)等の光導電性膜等を用いることができる。図1に示す液晶表示素子においては、既述の通り、透明基板1、2の表面に互いに平行な複数の帯状の透明電極3、4が形成されており、これらの電極3、4は互いに交差するように向かい合わされている。電極をこのように形成するには、例えば基板上にITO膜をスパッタリング法等でマスク蒸着するか、ITO膜を全面形成した後、フォトリソグラフィ法でパターニングすればよい。
電極3、4としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)、IZO(Indium Zinc Oxide:インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電膜や、アルミニウム、シリコン等の金属電極、あるいはアモルファスシリコン、BSO(Bismuth Silicon Oxide)等の光導電性膜等を用いることができる。図1に示す液晶表示素子においては、既述の通り、透明基板1、2の表面に互いに平行な複数の帯状の透明電極3、4が形成されており、これらの電極3、4は互いに交差するように向かい合わされている。電極をこのように形成するには、例えば基板上にITO膜をスパッタリング法等でマスク蒸着するか、ITO膜を全面形成した後、フォトリソグラフィ法でパターニングすればよい。
(絶縁性薄膜)
原理上必須のものではないが、電極間の短絡を防止したり、液晶表示素子のガスバリア性に対する信頼性を向上させたりするために、電極3、4の少なくとも一方に絶縁性薄膜5が形成されていることが好ましい。絶縁性薄膜5としては、例えば、酸化シリコン、酸化チタン、酸化ジルコニウムやそのアルコキシド等から成る無機膜やポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜を例示できる。これらの材料を用いて蒸着法、スピンコート法、ロールコート法などの公知の方法によって形成することができる。さらに、絶縁性薄膜は高分子構造物に用いる高分子樹脂と同じ材料を用いて形成することもできる。
原理上必須のものではないが、電極間の短絡を防止したり、液晶表示素子のガスバリア性に対する信頼性を向上させたりするために、電極3、4の少なくとも一方に絶縁性薄膜5が形成されていることが好ましい。絶縁性薄膜5としては、例えば、酸化シリコン、酸化チタン、酸化ジルコニウムやそのアルコキシド等から成る無機膜やポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜を例示できる。これらの材料を用いて蒸着法、スピンコート法、ロールコート法などの公知の方法によって形成することができる。さらに、絶縁性薄膜は高分子構造物に用いる高分子樹脂と同じ材料を用いて形成することもできる。
(配向膜)
配向膜7も原理上必須のものではないが、素子の安定化などのために設けておくことが好ましい。配向膜が形成される場合、電極上に絶縁性薄膜が形成されているときは当該絶縁性薄膜上に、電極上に絶縁性薄膜が形成されていないときは電極上に形成される。配向膜7としては、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂等の有機膜や、酸化シリコン、酸化アルミニウム等の無機膜が例示される。これらの材料を用いて形成した配向膜は、ラビング処理等を施してもよい。さらに、配向膜は高分子構造物に用いる高分子樹脂と同じ材料を用いて形成することもできる。
配向膜7も原理上必須のものではないが、素子の安定化などのために設けておくことが好ましい。配向膜が形成される場合、電極上に絶縁性薄膜が形成されているときは当該絶縁性薄膜上に、電極上に絶縁性薄膜が形成されていないときは電極上に形成される。配向膜7としては、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂等の有機膜や、酸化シリコン、酸化アルミニウム等の無機膜が例示される。これらの材料を用いて形成した配向膜は、ラビング処理等を施してもよい。さらに、配向膜は高分子構造物に用いる高分子樹脂と同じ材料を用いて形成することもできる。
(スペーサー)
一対の基板間には、該基板間のギャップを均一に保持するためのスペーサー13が設けられる。スペーサーとしては、樹脂製または無機酸化物製の球体を例示できる。例えば、ボール状のガラスやセラミックス粉、あるいは有機材料からなる球状粒子が挙げられる。また、表面に熱可塑性の樹脂がコーティングしてある固着スペーサーも好適に用いられる。なお、基板間のギャップをより均一に保持するためには、図1に示すように、スペーサー13と高分子構造物10との両方を設けることが好ましいが、いずれか一方のみを設けてもよい。スペーサーの直径は高分子構造物を形成する場合はその高さ以下とし、素子が完成したときに高分子構造物と同じ高さになるようにする。高分子構造物の有無によらず、スペーサーの直径がセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みに相当する。
一対の基板間には、該基板間のギャップを均一に保持するためのスペーサー13が設けられる。スペーサーとしては、樹脂製または無機酸化物製の球体を例示できる。例えば、ボール状のガラスやセラミックス粉、あるいは有機材料からなる球状粒子が挙げられる。また、表面に熱可塑性の樹脂がコーティングしてある固着スペーサーも好適に用いられる。なお、基板間のギャップをより均一に保持するためには、図1に示すように、スペーサー13と高分子構造物10との両方を設けることが好ましいが、いずれか一方のみを設けてもよい。スペーサーの直径は高分子構造物を形成する場合はその高さ以下とし、素子が完成したときに高分子構造物と同じ高さになるようにする。高分子構造物の有無によらず、スペーサーの直径がセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みに相当する。
(液晶層)
液晶層11はコレステリック液晶に自己組織型ゲル化剤を含有させた液晶組成物からなるものである。本実施形態において、かかる液晶組成物は、得られる表示素子のプレーナー時の分光分布曲線(波長−反射率曲線)において選択反射のピーク波長が500〜700nm、特に550〜650nmの波長範囲に存在するものであり、当該液晶組成物の含有成分や含有割合を調整して、調製される。選択反射のピーク波長が上記範囲に存在せず、選択反射のピーク波長が500nm未満であったり、または700nmを超えると、プレーナー時の反射率が低下するために高コントラストを達成することが困難になる。
なお、ピークとは分光分布曲線において短波長側から波長を大きくしていく場合に、当該曲線の接線の傾きが正から負に変わるときの凸部分を指し、当該凸部分の頂点の波長をピーク波長というものとする。
また、プレーナー時とは、素子が選択反射のピーク波長において最大の反射率を示すときのパルス電圧を素子に対して印加した状態の時を意味し、このときの素子から測定された波長−反射率曲線をプレーナー時の分光分布曲線という。
選択反射のピーク波長とは、液晶層が選択反射を行う波長域において最大の反射率を示す波長であり、プレーナー時の分光分布曲線にピークが1つだけ含まれる場合は、そのピーク波長が選択反射のピーク波長に相当する。2つ以上のピークが含まれる場合、最大の反射率を示すピーク波長が選択反射のピーク波長に相当するものとして差し支えない。複数ピークが存在する場合(例えば、550〜600nmに主ピーク、400〜450nmに副ピーク、さらに500〜550nmに主ピークよりも小さい第3のピークが現れる場合)、主に液晶層の散乱を反映している反射率の小さいピークが短波長側に現れるからである。
液晶層11はコレステリック液晶に自己組織型ゲル化剤を含有させた液晶組成物からなるものである。本実施形態において、かかる液晶組成物は、得られる表示素子のプレーナー時の分光分布曲線(波長−反射率曲線)において選択反射のピーク波長が500〜700nm、特に550〜650nmの波長範囲に存在するものであり、当該液晶組成物の含有成分や含有割合を調整して、調製される。選択反射のピーク波長が上記範囲に存在せず、選択反射のピーク波長が500nm未満であったり、または700nmを超えると、プレーナー時の反射率が低下するために高コントラストを達成することが困難になる。
なお、ピークとは分光分布曲線において短波長側から波長を大きくしていく場合に、当該曲線の接線の傾きが正から負に変わるときの凸部分を指し、当該凸部分の頂点の波長をピーク波長というものとする。
また、プレーナー時とは、素子が選択反射のピーク波長において最大の反射率を示すときのパルス電圧を素子に対して印加した状態の時を意味し、このときの素子から測定された波長−反射率曲線をプレーナー時の分光分布曲線という。
選択反射のピーク波長とは、液晶層が選択反射を行う波長域において最大の反射率を示す波長であり、プレーナー時の分光分布曲線にピークが1つだけ含まれる場合は、そのピーク波長が選択反射のピーク波長に相当する。2つ以上のピークが含まれる場合、最大の反射率を示すピーク波長が選択反射のピーク波長に相当するものとして差し支えない。複数ピークが存在する場合(例えば、550〜600nmに主ピーク、400〜450nmに副ピーク、さらに500〜550nmに主ピークよりも小さい第3のピークが現れる場合)、主に液晶層の散乱を反映している反射率の小さいピークが短波長側に現れるからである。
本明細書中、白色度は以下の方法によって得られる色度座標上の距離により評価している。
プレーナー状態の表示素子から分光分布曲線を測定し、当該分光分布曲線から色度座標(x,y)を求め、D65標準(白色:x=0.3127,y=0.329)からの距離(d)を算出する。距離(d)は白さを表すひとつのパラメーターであり、距離が小さいほど白色であることを示す。本明細書では、距離(d)を白色度パラメーターと呼ぶことにする。
プレーナー状態の表示素子から分光分布曲線を測定し、当該分光分布曲線から色度座標(x,y)を求め、D65標準(白色:x=0.3127,y=0.329)からの距離(d)を算出する。距離(d)は白さを表すひとつのパラメーターであり、距離が小さいほど白色であることを示す。本明細書では、距離(d)を白色度パラメーターと呼ぶことにする。
本実施形態において使用されるゲル化剤は自己組織型に属するものであり、詳しくはUV照射等の他の手段なしに、当該ゲル化剤を添加・混合するだけで、自ら組織化し、擬似網目構造を形成し得るものである。自己組織型のゲル化剤を添加することにより、他の手段なしに、添加前よりもコレステリック液晶の流動性を低下させて、当該粘度を増大させ得る。そのような自己組織型のゲル化剤を含有させるため、本実施形態の液晶表示素子は長期にわたって、良好な白黒表示が可能でかつ初期の表示色および優れたコントラストを維持可能であるという顕著な効果が得られる。そのような効果が得られる詳細なメカニズムは明らかではないが、ゲル化剤分子が液晶組成物中において分子レベルで均一に分散され易く、水素結合による擬似網目構造を形成するため、当該網目構造がより細かな緻密性と適度な柔軟性とを有することに基づくものと考えられる。また、広い波長域にわたって反射率を向上させる方法に比べると、セルギャップを厚くする必要がないので低い印加電圧で駆動が行え、材料選択にも制約が少ない。さらに、ゲル化剤を添加しない素子に比べて広視野角表示が行えるという特徴も有している。
自己組織型ゲル化剤は自己分子間で水素結合を形成可能な有機化合物であり、例えば、少なくとも分子間水素結合性基を有する有機化合物、好ましくは分子間水素結合性基およびアルキレン基を有する有機化合物が挙げられる。分子間水素結合性基とともにアルキレン基を有する有機化合物をゲル化剤として使用するとアルキレン基同士の分子間力によって擬似網目構造の形成が促進される。
分子間水素結合性基は当該基を含有分子間で水素結合を形成可能な基であれば特に制限されず、例えば、アミド結合基(−NHCO−)等が挙げられる。
分子間水素結合性基は分子内に1個以上、好ましくは2個以上含有されることが望ましい。
分子間水素結合性基は分子内に1個以上、好ましくは2個以上含有されることが望ましい。
アルキレン基は長鎖アルキレン基(以下、Reということがある)であり、詳しくは炭素数4以上、好ましくは6〜20の2価飽和炭化水素基であり、好ましくは直鎖状ポリメチレン基(−(CH2)n−)である。
アルキレン基は分子内に1個以上、好ましくは2個以上含有されることが望ましい。
アルキレン基は分子内に1個以上、好ましくは2個以上含有されることが望ましい。
ゲル化剤は少なくとも分子間水素結合性基、好ましくは分子間水素結合性基およびアルキレン基を有する有機化合物である限り、その構造は特に制限されない。
そのようなゲル化剤として、例えば、下記一般式(I)で表される脂環族アミド系化合物、下記一般式(II)〜(IV)で表される脂肪族アミド系化合物、および下記一般式(V)で表される脂肪族ウレア系化合物等が挙げられる。
そのようなゲル化剤として、例えば、下記一般式(I)で表される脂環族アミド系化合物、下記一般式(II)〜(IV)で表される脂肪族アミド系化合物、および下記一般式(V)で表される脂肪族ウレア系化合物等が挙げられる。
式(I)中、R1はアルキル基、アリールオキシ基またはアリールアルコキシ基であり、これらの基はシアノ基等の置換基を有していてもよい。
アルキル基は炭素数1〜3のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基及びsec−プロピル基等が挙げられる。
アリールオキシ基は炭素数6〜14のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、ビフェニリルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
アリールアルコキシ基は炭素数6〜14のアリール基1〜2個が、炭素数1〜3のアルコキシ基に置換されてなる1価の基であり、例えば、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基、フェニルプロポキシ基、ビフェニリルメトキシ基、ビフェニリルエトキシ基、ビフェニリルプロポキシキ基等が挙げられる。
好ましいR1はアルキル基またはアリールオキシ基である。
アルキル基は炭素数1〜3のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基及びsec−プロピル基等が挙げられる。
アリールオキシ基は炭素数6〜14のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、ビフェニリルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
アリールアルコキシ基は炭素数6〜14のアリール基1〜2個が、炭素数1〜3のアルコキシ基に置換されてなる1価の基であり、例えば、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基、フェニルプロポキシ基、ビフェニリルメトキシ基、ビフェニリルエトキシ基、ビフェニリルプロポキシキ基等が挙げられる。
好ましいR1はアルキル基またはアリールオキシ基である。
Reは前記長鎖アルキレン基(Re)と同様の基であり、好ましい基も前記Reと同様である。
mは1〜3の整数、好ましくは2である。
ひとつの式中に同一の基が複数個ある場合、それらの基はそれぞれ独立して所定の範囲内から選択されればよい(以下、同様である)。
mは1〜3の整数、好ましくは2である。
ひとつの式中に同一の基が複数個ある場合、それらの基はそれぞれ独立して所定の範囲内から選択されればよい(以下、同様である)。
式(II)〜(IV)中、共通する基は同様の基を意味する。
R2は前記R1と同様の基である。好ましいR2はアリールアルコキシ基である。
R3は炭素数1〜3の2価のアルキレン基であり、例えば、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基等が挙げられる。R3は置換基を有していてもよく、置換基として、例えば、以下の基が挙げられるが、それらの中でも炭素数3〜5の分枝状アルキル基が好ましい。
R2は前記R1と同様の基である。好ましいR2はアリールアルコキシ基である。
R3は炭素数1〜3の2価のアルキレン基であり、例えば、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基等が挙げられる。R3は置換基を有していてもよく、置換基として、例えば、以下の基が挙げられるが、それらの中でも炭素数3〜5の分枝状アルキル基が好ましい。
Reは前記長鎖アルキレン基(Re)と同様の基であり、好ましい基も前記Reと同様である。
R4は前記R1と同様の基である。好ましいR4はアルキル基である。
R5は前記R3と同様の基である。好ましいR5は置換基を有しないアルキレン基である。
nは0〜3、好ましくは0〜1の整数である。
R4は前記R1と同様の基である。好ましいR4はアルキル基である。
R5は前記R3と同様の基である。好ましいR5は置換基を有しないアルキレン基である。
nは0〜3、好ましくは0〜1の整数である。
式(V)中、R6は前記R4と同様であり、好ましい基も前記R4と同様である。
Reは前記長鎖アルキレン基(Re)と同様の基であり、好ましい基も前記Reと同様である。
R7は前記R5と同様であり、好ましい基も前記R5と同様である。
Reは前記長鎖アルキレン基(Re)と同様の基であり、好ましい基も前記Reと同様である。
R7は前記R5と同様であり、好ましい基も前記R5と同様である。
これらの化合物は公知の合成方法に従って合成することができる。
上記の中で好ましいゲル化剤は脂環族アミド系化合物(I)である。
上記の中で好ましいゲル化剤は脂環族アミド系化合物(I)である。
ゲル化剤の含有量は本発明の目的を達成できる限り特に制限されるものではなく、例えば、コレステリック液晶およびゲル化剤の合計量に対して1.0〜4.0重量%が適当である。この範囲に設定されると、黒表示時のY値を低減することができ、結果としてコントラストをより有効に向上できる。
ゲル化剤が含有されるコレステリック液晶は室温においてコレステリック相を示すものであり、例えば、ネマチック液晶とカイラル剤からなるカイラルネマチック液晶が使用可能である。
ネマチック液晶としては、特に制限されず、従来から液晶表示素子の分野で知られているネマチック液晶が使用可能である。そのようなネマチック液晶材料としては、例えば、液晶性エステル化合物、液晶性ピリミジン化合物、液晶性シアノビフェニル化合物、液晶性トラン化合物、液晶性フェニルシクロヘキサン化合物、液晶性ターフェニル化合物、ならびにフッ素原子、フルオロアルキル基およびシアノ基等の極性基を有する他の液晶性化合物、およびそれらの混合物等が挙げられる。
カイラル剤としては、液晶表示素子の分野で従来から知られている種々のものが使用可能である。例えば、コレステリック環を有するコレステリック化合物、ビフェニル骨格を有するビフェニル化合物、ターフェニル骨格を有するターフェニル化合物、2つのベンゼン環がエステル結合によって連結されてなる骨格を有するエステル化合物、シクロヘキサン環がベンゼン環に直接的に連結されてなる骨格を有するシクロヘキサン化合物、ピリミジン環がベンゼン環に直接的に連結されてなる骨格を有するピリミジン化合物、2つのベンゼン環がアゾキシ結合またはアゾ結合によって連結されてなる骨格を有するアゾキシまたはアゾ化合物等が挙げられる。
カイラル剤の含有量は、特に制限されず、通常、コレステリック液晶およびゲル化剤の合計量に対して3〜40重量%である。
カイラル剤の含有量は、特に制限されず、通常、コレステリック液晶およびゲル化剤の合計量に対して3〜40重量%である。
液晶組成物には、紫外線吸収剤等の添加剤をさらに添加してもよい。
紫外線吸収剤は、液晶組成物の紫外線劣化、例えば経時に伴なう退色や応答性の変化等を防止するものである。例えば、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、サリシレート化合物等の材料が使用可能である。添加量は、コレステリック液晶およびゲル化剤の合計量に対して、5重量%以下、好ましくは3重量%以下である。
紫外線吸収剤は、液晶組成物の紫外線劣化、例えば経時に伴なう退色や応答性の変化等を防止するものである。例えば、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、サリシレート化合物等の材料が使用可能である。添加量は、コレステリック液晶およびゲル化剤の合計量に対して、5重量%以下、好ましくは3重量%以下である。
このような液晶組成物は各材料を所定の比率で混合して得られる。
液晶組成物は所望により、イオン交換樹脂・吸着剤等と接触させて精製を行ない水分や不純物を除去した後で、素子の製造に用いるとよい。
液晶組成物は所望により、イオン交換樹脂・吸着剤等と接触させて精製を行ない水分や不純物を除去した後で、素子の製造に用いるとよい。
(シール材)
シール材12は液晶組成物11が基板1、2の間から外に漏れないように封入するためのものであり、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいは光硬化性接着剤等を使用することができる。
シール材12は液晶組成物11が基板1、2の間から外に漏れないように封入するためのものであり、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいは光硬化性接着剤等を使用することができる。
(高分子構造物)
高分子構造物10は、円柱状体、楕円柱状体、四角柱状体など、形状はどのようなものでもよく、また、その配置はランダムであってもよいし、格子状などの規則性を有するものであってもよい。このような高分子構造物を設けることにより、基板間ギャップを一定に保つことが容易になり、また、液晶表示素子自身の自己保持性を高めることができる。特に、ドット形状の高分子構造物を一定間隔で配置すると、表示性能を均一化しやすい。高分子構造物の高さはセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みに相当する。液晶層を挟持する基板としてフレキシブルな樹脂製基板を用いる場合に高分子構造物を設けることが特に効果的である。基板がフレキシブルであることにより液晶層の厚みが不均一になるのを防止することができるからである。球体のスペーサと高分子構造物とを併用し、高分子構造物に上下基板を接着する接着部材としての機能を持たせると液晶層の厚みの均一化に特に有効である。
高分子構造物10は、円柱状体、楕円柱状体、四角柱状体など、形状はどのようなものでもよく、また、その配置はランダムであってもよいし、格子状などの規則性を有するものであってもよい。このような高分子構造物を設けることにより、基板間ギャップを一定に保つことが容易になり、また、液晶表示素子自身の自己保持性を高めることができる。特に、ドット形状の高分子構造物を一定間隔で配置すると、表示性能を均一化しやすい。高分子構造物の高さはセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みに相当する。液晶層を挟持する基板としてフレキシブルな樹脂製基板を用いる場合に高分子構造物を設けることが特に効果的である。基板がフレキシブルであることにより液晶層の厚みが不均一になるのを防止することができるからである。球体のスペーサと高分子構造物とを併用し、高分子構造物に上下基板を接着する接着部材としての機能を持たせると液晶層の厚みの均一化に特に有効である。
高分子構造物を形成するには、紫外線硬化型モノマーからなるホトレジスト材料などの光硬化性樹脂材料を用いて、所望の厚さで基板の最表面膜(絶縁性薄膜、配向膜)に塗布し、これにマスクを通して紫外線を照射するなどしてパターン露光を行い、未硬化部分を除去するいわゆるフォトリソグラフィ法を用いることができる。
また、熱可塑性樹脂を適当な溶剤に溶かした樹脂材料などを用いて、熱可塑性樹脂からなる高分子構造物を形成してもよい。この場合、スクリーン版やメタルマスク等を用いて熱可塑性樹脂材料をスキージで押し出すことにより基板上に印刷を行う印刷法や、デイスペンサ法やインクジェット法などの、樹脂材料をノズルの先から基板上に吐出して形成する方法、あるいは、樹脂材料を平板あるいはローラー上に供給した後、これを基板表面に転写する転写法などにより高分子構造物を配置することができる。
また、熱可塑性樹脂を適当な溶剤に溶かした樹脂材料などを用いて、熱可塑性樹脂からなる高分子構造物を形成してもよい。この場合、スクリーン版やメタルマスク等を用いて熱可塑性樹脂材料をスキージで押し出すことにより基板上に印刷を行う印刷法や、デイスペンサ法やインクジェット法などの、樹脂材料をノズルの先から基板上に吐出して形成する方法、あるいは、樹脂材料を平板あるいはローラー上に供給した後、これを基板表面に転写する転写法などにより高分子構造物を配置することができる。
(散乱層)
散乱層(図示せず)を基板1の表面(図中、上面)または/および基板2と可視光吸収層9との間に設けてもよい。散乱層を設けることによって、白表示時の散乱度合いが上がり、白色度が向上する。散乱層としては、例えば、製品名FT−014(ポラテクノ社製)などが挙げられる。
散乱層(図示せず)を基板1の表面(図中、上面)または/および基板2と可視光吸収層9との間に設けてもよい。散乱層を設けることによって、白表示時の散乱度合いが上がり、白色度が向上する。散乱層としては、例えば、製品名FT−014(ポラテクノ社製)などが挙げられる。
(セルギャップ)
液晶表示素子におけるセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みは、大きくなるほど白表示時の反射率は大きくなるが、駆動電圧や黒表示時の反射率も大きくなる。よって、セルギャップの厚みは2〜50μmであってよいが、3〜15μmが好ましい。そのような好ましい範囲とすることにより、比較的低い印加電圧でも高コントラストを達成できるという効果をより有効に得ることができるためである。
液晶表示素子におけるセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みは、大きくなるほど白表示時の反射率は大きくなるが、駆動電圧や黒表示時の反射率も大きくなる。よって、セルギャップの厚みは2〜50μmであってよいが、3〜15μmが好ましい。そのような好ましい範囲とすることにより、比較的低い印加電圧でも高コントラストを達成できるという効果をより有効に得ることができるためである。
(製造方法)
本発明の好適な実施形態である液晶表示素子の第1の製造方法は、ゲル化剤を含有するコレステリック液晶を加熱した状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする。
本発明の好適な実施形態である液晶表示素子の第1の製造方法は、ゲル化剤を含有するコレステリック液晶を加熱した状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする。
液晶組成物の封入に際しては、以下の方法を採用すればよい。
(1)加熱された液晶組成物を液晶表示素子の空セルに真空注入し、その後注入孔を塞ぐ。液晶組成物は熱可逆性である。
液晶表示素子の空セルは、液晶表示素子の上記所定の構成部材が形成された2枚の基板を、それらの部材形成面が互いに対向するように重ね合わせて加熱または/および加圧することにより作製可能である。
(1)加熱された液晶組成物を液晶表示素子の空セルに真空注入し、その後注入孔を塞ぐ。液晶組成物は熱可逆性である。
液晶表示素子の空セルは、液晶表示素子の上記所定の構成部材が形成された2枚の基板を、それらの部材形成面が互いに対向するように重ね合わせて加熱または/および加圧することにより作製可能である。
(2)加熱された液晶組成物を、液晶表示素子の上記所定の構成部材が形成された2枚の基板のうち、一方の基板上に、スピンコーター、バーコーター、ロールコーターなどの塗布装置により塗布してもよいし、または単に滴下してもよい。その後、他方の基板を重ね合わせ、加圧または/および加熱により封入する。
いずれの場合も加熱により液晶組成物が流動性を増すので、基板間への注入や基板上への液晶層形成が短時間で容易に行える。
いずれの場合も加熱により液晶組成物が流動性を増すので、基板間への注入や基板上への液晶層形成が短時間で容易に行える。
本発明の好適な実施形態である液晶表示素子の第2の製造方法は、ゲル化剤を含有し室温で流動性を有するコレステリック液晶を非加熱の状態で基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする。ゲル化剤の添加量が少なく、液晶組成物が室温で流動性を示す場合には、この第2の製造方法を用いることができる。第2の製造方法においては、上記(1)のように真空注入させたり、上記(2)のように一方の基板上に塗布したり、滴下後に他方の基板を重ねる際に、加熱を行わず室温で行うので製造工程がより簡素化される。
(表示方法)
以上の構成からなる液晶表示素子では、電極3、4に駆動回路20からパルス電圧を印加することで表示が行われる。例えば、液晶層をプレーナー状態とフォーカルコニック状態との間で切り替えることによって表示を行うPL−FC駆動方式を採用してもよいし、または液晶層をプレーナー状態とホメオトロピック状態との間で切り替えることによって表示を行うPL−Homeo駆動方式を採用してもよい。
以上の構成からなる液晶表示素子では、電極3、4に駆動回路20からパルス電圧を印加することで表示が行われる。例えば、液晶層をプレーナー状態とフォーカルコニック状態との間で切り替えることによって表示を行うPL−FC駆動方式を採用してもよいし、または液晶層をプレーナー状態とホメオトロピック状態との間で切り替えることによって表示を行うPL−Homeo駆動方式を採用してもよい。
例えば、PL−FC駆動方式では、比較的高いエネルギーのパルス電圧(電圧値が大きい、パルス幅が大きい等)を印加することで、液晶がプレーナー状態となり、液晶分子のらせんのピッチと屈折率に基づいて決まる波長の光を選択的に反射する。一方、比較的低いエネルギーのパルス電圧(電圧値が小さい、パルス幅が小さい等)を印加することで、液晶がフォーカルコニック状態となり、透明状態となる。いくつかの駆動波形が提案されており、例えば、比較的低い電圧を長く印加することで液晶をフォーカルコニック状態にリセットした後に所望の部分のみプレーナ状態に変化させる駆動波形、高い電圧を印加した状態から急激に電圧をオフすることによって液晶をプレーナ状態にリセットした後に所望の部分のみフォーカルコニック状態に変化させる駆動波形、リセットパルスを印加し液晶をホメオトロピック状態にした後、最終的に得ようとする表示状態に応じた大きさの選択パルスを印加し、最後に選択した状態を確立するためのパルスを印加する3つのステージからなる駆動波形などを採用することができる。これらの駆動方式では液晶表示素子のメモリー性を利用して電圧印加停止後も表示を維持することができる。なお、可視光吸収層9を設けると、フォーカルコニック状態では黒色を表示することになる。
また例えば、PL−Homeo駆動方式では、高い電圧を印加した状態から急激に電圧をオフするなどしてプレーナ状態を実現する一方、高い電圧を印加し続けることにより液晶をホメオトロピック状態に保つ。ホメオトロピック状態での透明度がフォーカルコニック状態のそれよりも高くなり、コントラスト向上に有利ではある(可視光吸収層9を設けるとホメオトロピック状態ではやはり黒色を呈する)が、表示を維持するために電圧を印加し続ける必要がある。
本実施形態の液晶表示素子が有し得る分光分布曲線の一例を図2に実線で示す。実線の分光分布曲線は450〜600nmにおける反射率の変動が小さく、具体的には、450〜600nmにおける反射率の最大値σmaxと最小値σminとが平均値σaveに対して1%以内になっている。そして、全体として白色度パラメーター(d)が0.01以下の範囲にある。このような分光分布曲線を示す場合、広範囲の波長光を比較的一様に反射でき白色度を小さくできるので、白表示とみなすことができる。
次に本実施形態の液晶表示素子が有し得る分光分布曲線の別の例を図2に点線で示す。点線の分光分布曲線は、500〜650nmの範囲、特に550〜600nmの範囲により大きなピーク(図中:Pの部分)を有している以外は実線で示すものと同様である。実線で示す分光分布曲線との差で表される上記ピーク部分が存在することにより、全体としての白色度パラメーター(d)は0.01より大きく0.04以下の範囲となっている。このような分光分布曲線を示す場合、Y値(PL)は実線の場合より大きくなり、高いコントラストを得ることができる。
すなわち、PL表示時に「白さ」を優先する場合は実線を選択し、PL表示時に「明るさ(高いコントラスト)」を優先する場合は点線を選択する。
すなわち、PL表示時に「白さ」を優先する場合は実線を選択し、PL表示時に「明るさ(高いコントラスト)」を優先する場合は点線を選択する。
本発明のまた別の実施形態においては、ゲル化剤を含有しない状態でのプレーナー時の分光分布曲線が以下の条件を満たす;
(I)400〜700nmの波長範囲に2つ以上、好ましくは2つのピークを有する;より好ましくは1つのピークは400nm以上500nm未満、特に400nm以上470nm以下の波長範囲に存在し(当該範囲の最大ピークを以下、ピークAという)、別の1つのピークは500nm以上700nm以下、特に520nm以上650nm以下の波長範囲に存在する(当該範囲の最大ピークを以下、ピークBという);
(II)400nm以上500nm未満、特に400nm以上470nm以下の波長範囲における最大反射率をRS(図13参照)、500nm以上700nm以下、特に520nm以上650nm以下の波長範囲における最大反射率をRL(図13参照)としたとき、RL×0.4≦RSの関係、好ましくはRL×0.5≦RS、より好ましくはRL×0.6≦RSとする。
(I)400〜700nmの波長範囲に2つ以上、好ましくは2つのピークを有する;より好ましくは1つのピークは400nm以上500nm未満、特に400nm以上470nm以下の波長範囲に存在し(当該範囲の最大ピークを以下、ピークAという)、別の1つのピークは500nm以上700nm以下、特に520nm以上650nm以下の波長範囲に存在する(当該範囲の最大ピークを以下、ピークBという);
(II)400nm以上500nm未満、特に400nm以上470nm以下の波長範囲における最大反射率をRS(図13参照)、500nm以上700nm以下、特に520nm以上650nm以下の波長範囲における最大反射率をRL(図13参照)としたとき、RL×0.4≦RSの関係、好ましくはRL×0.5≦RS、より好ましくはRL×0.6≦RSとする。
ゲル化剤を含有しない状態とは、ゲル化剤を含有しないこと以外、本発明の液晶表示素子と同様の液晶表示素子構成の状態を意味する。
本実施形態の液晶表示素子はゲル化剤を含有させない状態で上記条件を満たすことにより、ゲル化剤を含有したときの液晶表示素子におけるPL表示時の「白さ」と「明るさ(高いコントラスト)」との両立をより有効に達成できるとともに、素子製造工程の簡素化を容易に実現できる。ゲル化剤を含有させない状態の素子が前記条件を満たしていると、ゲル化剤添加による白色度パラメーター(PL)の低減効果が有効に得られる。すなわち、ゲル化剤を比較的少量添加するだけで白色度を向上することができる。よって、ゲル化剤添加によるY値(FC)の上昇を極力抑えながら、白色度を向上することができる。そのため、前記した両立が比較的容易に達成できる。一方、ゲル化剤の添加量が多すぎると、室温での液晶組成物の流動性が低下するので、素子の製造過程において液晶組成物を加熱する必要がある。しかしながら、本実施形態ではゲル化剤の添加量を抑えることができ、液晶組成物は室温で所望の流動性を有するので、液晶組成物は非加熱の状態で使用可能である。よって、製造工程を簡素化できるという効果も得られる。
上記条件(I)〜(II)は以下に示す方法によって制御可能である。
例えば、垂直配向膜を用いるなどして液晶分子が立つ状態にするか、あるいは、屈折率異方性の大きい液晶を用いるようにすると、2つ以上、特に2つのピークが現れ、ピークAの波長は小さくなり、ピークBの波長は大きくなる。
例えば、垂直配向膜を用いるなどして液晶分子が立つ状態にするか、あるいは、屈折率異方性の大きい液晶を用いるようにすると、2つ以上、特に2つのピークが現れ、ピークAの波長は小さくなり、ピークBの波長は大きくなる。
(Y値(PL)およびY値(FC)の測定)
表示素子に対して図3に示すパルス(この駆動波形では前段のパルスで液晶を一旦プレーナ状態にリセットしている)を印加し、電圧−Y値曲線(以下、V−Y曲線という)を求める。詳しくは図3のパルスにおける区間(X)の電圧(V)を±20〜±50Vまで変化させながら図に記載の測定ポイントでの素子の分光分布曲線(波長−反射率曲線)およびY値(Y)を分光測色器(CM3700d;コニカミノルタセンシング社製)により複数回繰り返し測定し、V(電圧の絶対値)−Y(Y値)曲線を作成する。V−Y曲線の一例を図4に示す。V−Y曲線において最大のY値(Ymax)を示す状態をプレーナー状態(PL)、最小のY値(Ymin)を示す状態をフォーカルコニック状態(FC)とする。それらのときのY値をそれぞれY値(PL)、Y値(FC)とする。この場合、コントラストはY値(PL)/Y値(FC)で表すことができる。
表示素子に対して図3に示すパルス(この駆動波形では前段のパルスで液晶を一旦プレーナ状態にリセットしている)を印加し、電圧−Y値曲線(以下、V−Y曲線という)を求める。詳しくは図3のパルスにおける区間(X)の電圧(V)を±20〜±50Vまで変化させながら図に記載の測定ポイントでの素子の分光分布曲線(波長−反射率曲線)およびY値(Y)を分光測色器(CM3700d;コニカミノルタセンシング社製)により複数回繰り返し測定し、V(電圧の絶対値)−Y(Y値)曲線を作成する。V−Y曲線の一例を図4に示す。V−Y曲線において最大のY値(Ymax)を示す状態をプレーナー状態(PL)、最小のY値(Ymin)を示す状態をフォーカルコニック状態(FC)とする。それらのときのY値をそれぞれY値(PL)、Y値(FC)とする。この場合、コントラストはY値(PL)/Y値(FC)で表すことができる。
(Y値(Homeo)の測定)
表示素子に対して図5に示すパルスを印加し、図に記載の測定ポイントでの素子の分光分布曲線(波長−反射率曲線)およびY値を分光測色器(CM3700d;コニカミノルタセンシング社製)により測定し、当該値をY値(Homeo)とする。この場合、コントラストはY値(PL)/Y値(Homeo)で表すことができる。
表示素子に対して図5に示すパルスを印加し、図に記載の測定ポイントでの素子の分光分布曲線(波長−反射率曲線)およびY値を分光測色器(CM3700d;コニカミノルタセンシング社製)により測定し、当該値をY値(Homeo)とする。この場合、コントラストはY値(PL)/Y値(Homeo)で表すことができる。
以下、「部」は「重量部」を意味するものとする。
実験例1
(実施例1)
ネマチック液晶(BL006;メルク社製、屈折率異方性:0.286、誘電率異方性:17.3、粘度:71mP・s、NI点:113℃)60部、カイラル剤(CB15;メルク社製)38部、および前記化学式(2)で表されるゲル化剤2部を混合し、カイラルネマチック液晶組成物を得た。
(実施例1)
ネマチック液晶(BL006;メルク社製、屈折率異方性:0.286、誘電率異方性:17.3、粘度:71mP・s、NI点:113℃)60部、カイラル剤(CB15;メルク社製)38部、および前記化学式(2)で表されるゲル化剤2部を混合し、カイラルネマチック液晶組成物を得た。
得られた液晶組成物および以下に示す材料を用いて、図1に示す表示素子(但し、高分子構造物と絶縁性薄膜は省略した)を作製した。セルギャップは5.5μmであった。各値の測定温度は25℃であった。
・基板:ガラス0.7mm
・ITOシート抵抗値:10Ω/□
・配向膜:可溶性ポリイミド(JSR社製 垂直配向膜AL−2022)
・配向膜厚み:60nm(印刷)
・スペーサー:積水ファインケミカル社製 ミクロパール5.5μm
・シール材:住友ベークライト社製 スミライトERS−2400(主剤)、ERS−2840(硬化剤)
・基板:ガラス0.7mm
・ITOシート抵抗値:10Ω/□
・配向膜:可溶性ポリイミド(JSR社製 垂直配向膜AL−2022)
・配向膜厚み:60nm(印刷)
・スペーサー:積水ファインケミカル社製 ミクロパール5.5μm
・シール材:住友ベークライト社製 スミライトERS−2400(主剤)、ERS−2840(硬化剤)
得られた表示素子に対してUV照射し、照射時間に対するY値(FC)および白色度パラメーター(PL)の変化を追跡した(UV照度:5mW/cm2)。また各照射時間での表示素子におけるPL状態およびFC状態での分光分布曲線を測定した。それらの結果をそれぞれ図6(A)および(B)に示す。なお、図6(B)において各照射時間でのPL状態およびFC状態の分光分布曲線はそれぞれ1の曲線に重なっていることを示している。
(実施例2)
ゲル化剤の添加量を3部に変更したこと以外、実施例1と同様の方法で表示素子を作製した。
ゲル化剤の添加量を3部に変更したこと以外、実施例1と同様の方法で表示素子を作製した。
得られた表示素子に対してUV照射し、照射時間に対するY値(FC)および白色度パラメーター(PL)の変化を追跡した(UV照度:5mW/cm2)。また各照射時間での表示素子におけるPL状態およびFC状態での分光分布曲線を測定した。それらの結果をそれぞれ図7(A)および(B)に示す。なお、図7(B)において各照射時間でのPL状態およびFC状態の分光分布曲線はそれぞれ1の曲線に重なっていることを示している。
(比較例1)
ネマチック液晶(BL006;メルク社製)、カイラル剤(CB15;メルク社製)、モノマー(KAYARAD R−684;日本化薬(株)社製)および重合開始剤(ダロキュア1173;長瀬産業(株)社製)を混合し、カイラルネマチック液晶組成物を得た。これらの混合比率は以下の通りである。モノマー:重合開始剤=97:3(重量比)。モノマー+重合開始剤(以下、まとめて重合反応剤という):ネマチック液晶+カイラル剤(以下、まとめてカイラルネマチック混合物という)=5:95(重量比)。ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率は、得られるカイラルネマチック液晶組成物のUV照射前の選択反射のピーク波長が580nmになるような比率である。
このカイラルネマチック液晶組成物を用いたこと以外、実施例1と同様の方法で表示素子を作製した。
ネマチック液晶(BL006;メルク社製)、カイラル剤(CB15;メルク社製)、モノマー(KAYARAD R−684;日本化薬(株)社製)および重合開始剤(ダロキュア1173;長瀬産業(株)社製)を混合し、カイラルネマチック液晶組成物を得た。これらの混合比率は以下の通りである。モノマー:重合開始剤=97:3(重量比)。モノマー+重合開始剤(以下、まとめて重合反応剤という):ネマチック液晶+カイラル剤(以下、まとめてカイラルネマチック混合物という)=5:95(重量比)。ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率は、得られるカイラルネマチック液晶組成物のUV照射前の選択反射のピーク波長が580nmになるような比率である。
このカイラルネマチック液晶組成物を用いたこと以外、実施例1と同様の方法で表示素子を作製した。
得られた表示素子に対してUV照射し、照射時間に対するY値(FC)および白色度パラメーター(PL)の変化を追跡した(UV照度:5mW/cm2)。また各照射時間での表示素子におけるPL状態およびFC状態での分光分布曲線を測定した。それらの結果をそれぞれ図8(A)および(B)に示す。
(考察)
実施例1および2の表示素子は、照射時間が長くなり積算光量が増大しても、Y値(FC)および白色度パラメーターは変化しなかった。
比較例1の表示素子は、照射時間が長くなり積算光量が増大すると、Y値(FC)が増大した。また、白色度が図8より大きく変化している。これは、初期状態よりY値(PL)(明るさ)が低下するとともに色味が変化することを意味している。このことは、本表示素子を、屋外で使用する頻度が高いアプリケーション、例えば電子ブックやPDAに適用すると、UVカットフィルムを貼って使用しても、数ヶ月から数年でパネルが劣化することを意味する。さらに、比較例1の素子は照射時間が長くなるにつれてY値(FC)が上昇し、ほぼ飽和値に達したときの値は実施例のものよりかなり大きい値を示した。従って、比較例1の素子は時間の経過とともにコントラストが低下していき、飽和値に達したときは実施例よりも低いコントラストしか示さない。
以上より、本発明の実施例の表示素子は光劣化による明るさの低下(色味の変化)がなく、またコントラストが高い表示を行うことが可能であることが理解される。
実施例1および2の表示素子は、照射時間が長くなり積算光量が増大しても、Y値(FC)および白色度パラメーターは変化しなかった。
比較例1の表示素子は、照射時間が長くなり積算光量が増大すると、Y値(FC)が増大した。また、白色度が図8より大きく変化している。これは、初期状態よりY値(PL)(明るさ)が低下するとともに色味が変化することを意味している。このことは、本表示素子を、屋外で使用する頻度が高いアプリケーション、例えば電子ブックやPDAに適用すると、UVカットフィルムを貼って使用しても、数ヶ月から数年でパネルが劣化することを意味する。さらに、比較例1の素子は照射時間が長くなるにつれてY値(FC)が上昇し、ほぼ飽和値に達したときの値は実施例のものよりかなり大きい値を示した。従って、比較例1の素子は時間の経過とともにコントラストが低下していき、飽和値に達したときは実施例よりも低いコントラストしか示さない。
以上より、本発明の実施例の表示素子は光劣化による明るさの低下(色味の変化)がなく、またコントラストが高い表示を行うことが可能であることが理解される。
なお、白色度パラメーター(d)については以下の知見が得られている。
d≦0.04以下;ほぼ白と見なすことが出来る;
0.04<d<0.05;光源により、白と見なされない場合がある;
d≧0.05;明らかに黄色や緑と見なされる;
また、dはほぼ明るさ(明度Y:本書では=Y値(PL))に比例する。
よって、d≦0.04に設定するのが良い。
d≦0.04以下;ほぼ白と見なすことが出来る;
0.04<d<0.05;光源により、白と見なされない場合がある;
d≧0.05;明らかに黄色や緑と見なされる;
また、dはほぼ明るさ(明度Y:本書では=Y値(PL))に比例する。
よって、d≦0.04に設定するのが良い。
また比較例1において、重合反応剤:カイラルネマチック液晶組成物=5:95(重量比)としたのは以下の知見に基づいている。
高分子分散型液晶にカイラルネマチック液晶を用い「散乱+選択反射」で表示する方式では、モノマーとカイラルネマチック液晶の混合比により、表示特性が大きく異なる。
重合反応剤のカイラルネマチック液晶組成物との合計量に対する比率が3重量%以下では、重合反応剤の量が不足し、照射時間を多くし積算光量を高めても、十分な散乱を得ることが出来なかった。当該比率が10重量%以上では、重合反応剤の量が多過ぎ、少量の積算光量のみでも黒表示のY値が高くなり(Y値7以上)、コントラストが不足した。
よって、このように混合比率には適当な範囲が存在しており、初期状態で十分なコントラストを得ながら、白色度パラメーター(PL)(d)を十分に低くするのは約5重量%前後であることがわかっている。
高分子分散型液晶にカイラルネマチック液晶を用い「散乱+選択反射」で表示する方式では、モノマーとカイラルネマチック液晶の混合比により、表示特性が大きく異なる。
重合反応剤のカイラルネマチック液晶組成物との合計量に対する比率が3重量%以下では、重合反応剤の量が不足し、照射時間を多くし積算光量を高めても、十分な散乱を得ることが出来なかった。当該比率が10重量%以上では、重合反応剤の量が多過ぎ、少量の積算光量のみでも黒表示のY値が高くなり(Y値7以上)、コントラストが不足した。
よって、このように混合比率には適当な範囲が存在しており、初期状態で十分なコントラストを得ながら、白色度パラメーター(PL)(d)を十分に低くするのは約5重量%前後であることがわかっている。
実験例2(波長依存)
カイラルネマチック液晶組成物におけるBL006(メルク社製)とCB15(メルク社製)との混合比率を、得られる表示素子の分光分布曲線における選択反射のピーク波長が所定の値になるように変更したこと、およびセルギャップを7.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、選択反射のピーク波長が異なる複数の表示素子を作製した。
カイラルネマチック液晶組成物におけるBL006(メルク社製)とCB15(メルク社製)との混合比率を、得られる表示素子の分光分布曲線における選択反射のピーク波長が所定の値になるように変更したこと、およびセルギャップを7.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、選択反射のピーク波長が異なる複数の表示素子を作製した。
得られた表示素子のY値(PL)およびY値(FC)を測定し、選択反射のピーク波長−Y値の関係を検討した。また選択反射のピーク波長が350nm、580nm、800nmである表示素子の分光分布曲線を測定した。それらの結果を図9(A)〜(C)に示す。
図9(A)より選択反射のピーク波長が約500〜700nmのときがコントラストに優れていることがわかる。これは、そのような範囲内に選択反射のピーク波長を設定すると、図9(B)に示すように、低波長側でのサブピークを有効に利用できるためと考えられる。
図9(A)より選択反射のピーク波長が約500〜700nmのときがコントラストに優れていることがわかる。これは、そのような範囲内に選択反射のピーク波長を設定すると、図9(B)に示すように、低波長側でのサブピークを有効に利用できるためと考えられる。
実験例3(添加量依存)
カイラルネマチック液晶組成物におけるBL006(メルク社製)とCB15(メルク社製)との混合比率を、得られる表示素子の分光分布曲線における選択反射のピーク波長が580nmになるように変更したこと、ゲル化剤の添加量を所定の範囲で変更したことおよびセルギャップを7.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。ゲル化剤の添加量はネマチック液晶とカイラル剤とゲル化剤の合計量に対する割合(重量%)である。
カイラルネマチック液晶組成物におけるBL006(メルク社製)とCB15(メルク社製)との混合比率を、得られる表示素子の分光分布曲線における選択反射のピーク波長が580nmになるように変更したこと、ゲル化剤の添加量を所定の範囲で変更したことおよびセルギャップを7.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。ゲル化剤の添加量はネマチック液晶とカイラル剤とゲル化剤の合計量に対する割合(重量%)である。
得られた表示素子のY値(FC)および白色度パラメーター(PL)を測定し、ゲル化剤の添加量とY値および白色度との関係を検討した。またゲル化剤添加量が0〜4.5重量%のときの表示素子の分光分布曲線を測定した。それらの結果を図10(A)〜(C)に示す。
図10(A)よりゲル化剤の添加量は、白色度パラメーター(PL)とY値(FC)との観点から1.0〜4.0重量%が好ましい。すなわち、1.0重量%未満であれば白色度パラメーター(PL)が大きくなり白色とみなされなくなる恐れがある。また、4.0重量%を超える場合はコントラストが低下しすぎる恐れがある。
図10(A)よりゲル化剤の添加量は、白色度パラメーター(PL)とY値(FC)との観点から1.0〜4.0重量%が好ましい。すなわち、1.0重量%未満であれば白色度パラメーター(PL)が大きくなり白色とみなされなくなる恐れがある。また、4.0重量%を超える場合はコントラストが低下しすぎる恐れがある。
実験例4(表示モード依存)
カイラルネマチック液晶組成物におけるBL006(メルク社製)とCB15(メルク社製)との混合比率を、得られる表示素子の分光分布曲線における選択反射のピーク波長が580nmになるように変更したこと、ゲル化剤の添加量を3重量%に変更したことおよびセルギャップを7.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
カイラルネマチック液晶組成物におけるBL006(メルク社製)とCB15(メルク社製)との混合比率を、得られる表示素子の分光分布曲線における選択反射のピーク波長が580nmになるように変更したこと、ゲル化剤の添加量を3重量%に変更したことおよびセルギャップを7.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
得られた表示素子のY値(PL)、Y値(FC)およびY値(Homeo)を測定した。
PL−FCスイッチングモード;
Y値(PL)=17、Y値(FC)=5.22、メモリー性あり;
PL−Homeoスイッチングモード;
Y値(PL)=17、Y値(Homeo)=0.673、メモリー性なし。
以上より、PL−FCモードでコントラストが十分な表示を行うことができる。ホメオトロピックとプレーナーの表示にすることで、コントラストを大幅に向上させることが出来るが、メモリー性は無くなる。よって、用途に応じて、使い分けることが出来る。3つの表示モードが切り替えられるようにしても良い。
PL状態、FC状態およびHomeo状態での分光分布曲線を図11(A)および(B)に示す。
PL−FCスイッチングモード;
Y値(PL)=17、Y値(FC)=5.22、メモリー性あり;
PL−Homeoスイッチングモード;
Y値(PL)=17、Y値(Homeo)=0.673、メモリー性なし。
以上より、PL−FCモードでコントラストが十分な表示を行うことができる。ホメオトロピックとプレーナーの表示にすることで、コントラストを大幅に向上させることが出来るが、メモリー性は無くなる。よって、用途に応じて、使い分けることが出来る。3つの表示モードが切り替えられるようにしても良い。
PL状態、FC状態およびHomeo状態での分光分布曲線を図11(A)および(B)に示す。
実験例5(液晶依存)
(実施例3)
カイラルネマチック液晶組成物におけるBL006(メルク社製)とCB15(メルク社製)との混合比率を、得られる表示素子の分光分布曲線における選択反射のピーク波長が580nmになるように変更したこと、ゲル化剤の添加量を3重量%に変更したことおよびセルギャップを7.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
(実施例3)
カイラルネマチック液晶組成物におけるBL006(メルク社製)とCB15(メルク社製)との混合比率を、得られる表示素子の分光分布曲線における選択反射のピーク波長が580nmになるように変更したこと、ゲル化剤の添加量を3重量%に変更したことおよびセルギャップを7.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
(比較例2)
カイラル剤を使用することなく、ネマチック液晶BL006(メルク社製)のみを用いるように変更したこと以外、実施例3と同様の方法により、表示素子を作製した。
カイラル剤を使用することなく、ネマチック液晶BL006(メルク社製)のみを用いるように変更したこと以外、実施例3と同様の方法により、表示素子を作製した。
得られた表示素子で黒−白表示を行い、それらのときのY値を測定した。
実施例3;
Y値(PL)=17、Y値(Homeo)=0.673、メモリー性なし;
比較例2;
Y値(PL)=8.6、Y値(Homeo)=0.673、メモリー性なし;
以上より、カイラルネマチック液晶にすることで、白の反射率が増すことがわかる。散乱に選択反射が加わるためと考えられる。
PL状態、FC状態およびHomeo状態での分光分布曲線を図12(A)および(B)に示す。
実施例3;
Y値(PL)=17、Y値(Homeo)=0.673、メモリー性なし;
比較例2;
Y値(PL)=8.6、Y値(Homeo)=0.673、メモリー性なし;
以上より、カイラルネマチック液晶にすることで、白の反射率が増すことがわかる。散乱に選択反射が加わるためと考えられる。
PL状態、FC状態およびHomeo状態での分光分布曲線を図12(A)および(B)に示す。
実験例6
ゲル化剤の添加量はネマチック液晶とカイラル剤とゲル化剤の合計量に対する割合(重量%)である。
(実施例4)
ネマチック液晶としてBL006(メルク社製、屈折率異方性:0.286、誘電率異方性:17.3)、カイラル剤としてCB15(メルク社製)を用いたこと、ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率を62:38(重量比)に変更したこと、ゲル化剤の添加量を0〜4.5重量%の範囲で変更したこと、セルギャップを6.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
ゲル化剤の添加量はネマチック液晶とカイラル剤とゲル化剤の合計量に対する割合(重量%)である。
(実施例4)
ネマチック液晶としてBL006(メルク社製、屈折率異方性:0.286、誘電率異方性:17.3)、カイラル剤としてCB15(メルク社製)を用いたこと、ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率を62:38(重量比)に変更したこと、ゲル化剤の添加量を0〜4.5重量%の範囲で変更したこと、セルギャップを6.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
(実施例5)
ネマチック液晶としてBL032(メルク社製、屈折率異方性:0.2484、誘電率異方性:15.4)、カイラル剤としてCB15(メルク社製)を用いたこと、ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率を62:38(重量比)に変更したこと、ゲル化剤の添加量を0〜4.5重量%の範囲で変更したこと、セルギャップを6.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
ネマチック液晶としてBL032(メルク社製、屈折率異方性:0.2484、誘電率異方性:15.4)、カイラル剤としてCB15(メルク社製)を用いたこと、ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率を62:38(重量比)に変更したこと、ゲル化剤の添加量を0〜4.5重量%の範囲で変更したこと、セルギャップを6.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
(参考例1)
ネマチック液晶としてBL004(メルク社製、屈折率異方性:0.2240、誘電率異方性:15.6)、カイラル剤としてCB15(メルク社製)を用いたこと、ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率を62:38(重量比)に変更したこと、ゲル化剤の添加量を0〜4.5重量%の範囲で変更したこと、セルギャップを6.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
ネマチック液晶としてBL004(メルク社製、屈折率異方性:0.2240、誘電率異方性:15.6)、カイラル剤としてCB15(メルク社製)を用いたこと、ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率を62:38(重量比)に変更したこと、ゲル化剤の添加量を0〜4.5重量%の範囲で変更したこと、セルギャップを6.0μmに変更したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
(参考例2)
ネマチック液晶としてBL006(メルク社製、屈折率異方性:0.286、誘電率異方性:17.3)、カイラル剤としてCB15(メルク社製)を用いたこと、ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率を62:38(重量比)に変更したこと、ゲル化剤の添加量を0〜4.5重量%の範囲で変更したこと、セルギャップを6.0μmに変更したこと、および配向膜として水平配向膜(JSR株式会社製)を使用したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
ネマチック液晶としてBL006(メルク社製、屈折率異方性:0.286、誘電率異方性:17.3)、カイラル剤としてCB15(メルク社製)を用いたこと、ネマチック液晶とカイラル剤との混合比率を62:38(重量比)に変更したこと、ゲル化剤の添加量を0〜4.5重量%の範囲で変更したこと、セルギャップを6.0μmに変更したこと、および配向膜として水平配向膜(JSR株式会社製)を使用したこと以外、実施例1と同様の方法により、表示素子を作製した。
各実施例または参考例において得られた表示素子のY値(FC)および白色度パラメーター(PL)を測定し、ゲル化剤の添加量とY値および白色度との関係を検討した。それらの結果を図14(A)〜(B)に示す。なお、ゲル化剤添加量が0重量%のときの分光分布曲線は以下の通りである。
実施例4;RL=23.95%、RS=14.69%、RL×0.4≦RS。
実施例5;RL=30.11%、RS=12.10%、RL×0.4≦RS。
参考例1;RL=35.02%、RS=9.11%、RL×0.4>RS。
参考例2;400nm以上500nm未満の波長範囲にピークは無かった。
実施例4;RL=23.95%、RS=14.69%、RL×0.4≦RS。
実施例5;RL=30.11%、RS=12.10%、RL×0.4≦RS。
参考例1;RL=35.02%、RS=9.11%、RL×0.4>RS。
参考例2;400nm以上500nm未満の波長範囲にピークは無かった。
ゲル化剤を含有しない状態でのプレーナー時において所定の分光分布曲線を示す素子は、ゲル化剤を添加すると、白色度パラメーターを有効に低減できるので、ゲル化剤添加によるY値(FC)の上昇を極力抑えながら、白色度を向上することができる(図14(A)および(B))。そのため、PL表示時の「白さ」と「明るさ(高いコントラスト)」とを容易に両立できる。
実施例1ではゲル化剤添加量1〜4重量%のときで上記両立を達成する。特に、ゲル化剤添加量1重量%以上2重量%未満のときは素子製造時の液晶組成物の加熱が不要なため、製造工程の簡素化を実現できる。
実施例2ではゲル化剤添加量約1.8〜4重量%のときで上記両立を達成する。特に、ゲル化剤添加量1.8重量%以上2重量%未満のときは素子製造時の液晶組成物の加熱が不要なため、製造工程の簡素化を実現できる。
参考例1ではではゲル化剤添加量約2.8〜4重量%のときで上記両立を達成する。
参考例2ではではゲル化剤添加量4重量%のときで上記両立を達成する。
実施例1ではゲル化剤添加量1〜4重量%のときで上記両立を達成する。特に、ゲル化剤添加量1重量%以上2重量%未満のときは素子製造時の液晶組成物の加熱が不要なため、製造工程の簡素化を実現できる。
実施例2ではゲル化剤添加量約1.8〜4重量%のときで上記両立を達成する。特に、ゲル化剤添加量1.8重量%以上2重量%未満のときは素子製造時の液晶組成物の加熱が不要なため、製造工程の簡素化を実現できる。
参考例1ではではゲル化剤添加量約2.8〜4重量%のときで上記両立を達成する。
参考例2ではではゲル化剤添加量4重量%のときで上記両立を達成する。
1:2:基板、3:4:電極、5:絶縁性薄膜、7:配向膜、9:可視光吸収層、10:高分子構造物、11:液晶層(液晶組成物)、12:シール材。
Claims (12)
- 自己組織型ゲル化剤を含有するコレステリック液晶からなる液晶層を有することを特徴とする液晶表示素子。
- ゲル化剤が分子内に分子間水素結合性基を2個以上有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
- ゲル化剤が分子内に分子間水素結合性基を2個以上、およびアルキレン基を2個以上有することを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示素子。
- 分子間水素結合性基が2価のアミド結合基であることを特徴とする請求項2または3に記載の液晶表示素子。
- ゲル化剤の含有量がコレステリック液晶およびゲル化剤の合計量に対して1.0〜4.0重量%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の液晶表示素子。
- コレステリック液晶がネマチック液晶およびカイラル剤からなることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の液晶表示素子。
- プレーナー時の分光分布曲線において選択反射のピーク波長が500〜700nmの波長範囲に存在することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の液晶表示素子。
- ゲル化剤を含有しない状態でのプレーナー時の分光分布曲線が以下の条件を満たすことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の液晶表示素子;
(I)400nm以上700nm以下の波長範囲に2つ以上のピークを有する;
(II)400nm以上500nm未満の波長範囲における最大反射率をRS、500nm以上700nm以下の波長範囲における最大反射率をRLとしたとき、RL×0.4≦RSの関係を満たす。 - 液晶層をプレーナー状態とフォーカルコニック状態との間で切り替えることによって表示を行うことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の液晶表示素子。
- 液晶層をプレーナー状態とホメオトロピック状態との間で切り替えることによって表示を行うことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の液晶表示素子。
- ゲル化剤を含有するコレステリック液晶を加熱した状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。
- ゲル化剤を含有し室温で流動性を有するコレステリック液晶を非加熱の状態で少なくとも一方の基板上に広げて液晶層を形成することを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。
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