JP2005314802A5 - - Google Patents

Description

また、本発明の液体吐出ヘッドは、基板に設けられた液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生体と、前記エネルギー発生体に接続された配線と、前記エネルギー発生体および前記配線を覆う絶縁保護膜と、前記絶縁保護膜上に設けられた密着層と、前記密着層上に設けられた耐久保護膜と、を有し、前記耐久保護膜は、膜端における端縁部の膜厚が中央部から膜端に向かうにしたがって漸減し、前記端縁部によって前記密着層の端部が覆われていることを特徴とする。

膜の形成において、犠牲層の側面にオーバーハングを設けておくことで、膜端における端縁の膜厚が中央部から膜端に向かうにしたがって漸減する膜を成膜する。この結果、形成された膜の膜端における膜剥がれを低減し、該膜の耐久性および信頼性を大幅に向上できる。

Claims (8)

1. 基体に膜を形成する成膜方法であって、
   オーバーハングを有する犠牲層が形成された基体に前記膜の材料を堆積させる工程と、
   前記犠牲層を除去することによって、前記犠牲層と前記犠牲層上に堆積した前記膜の材料とを除去する工程と、を有することを特徴とする成膜方法。
2. 前記犠牲層は、
   前記基体側から、酸素および窒素の少なくとも一方を含む金属化合物の下層と、
   前記下層の上に、前記下層より低い濃度の酸素および窒素の少なくとも一方を含む金属化合物または金属の上層と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の成膜方法。
3. 請求項１または２に記載の成膜方法によって形成した膜と基体とを含む基板であって、
   前記膜は、膜端における端縁部の膜厚が中央部から膜端に向かうにしたがって漸減することを特徴とする基板。
4. 前記基体上の前記膜が形成された形成面における前記膜の形状は、角を有さないことを特徴とする請求項３に記載の基板。
5. 前記膜の材料がＰｔ、Ｉｒ、Ｏｓ、ＮｉまたはＲｕを主成分とする金属材料であることを特徴とする請求項３または４に記載の基板。
6. 前記基体と前記膜との間に密着層を有し、
   前記膜の前記端縁部によって前記密着層の端部が覆われていることを特徴とする請求項３または５のいずれか１項に記載の基板。
7. 液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生体と、
   前記エネルギー発生体に接続された配線と、
   前記エネルギー発生体および前記配線を覆う絶縁保護膜と、
   前記絶縁保護膜上に選択的に設けられた耐久保護膜とを有し、
   前記耐久保護膜が、請求項１または２に記載の成膜方法によって形成された膜であることを特徴とする液体吐出ヘッド。
8. 基板に設けられた液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生体と、
   前記エネルギー発生体に接続された配線と、
   前記エネルギー発生体および前記配線を覆う絶縁保護膜と、
   前記絶縁保護膜上に設けられた密着層と、
   前記密着層上に設けられた耐久保護膜と、を有し、
   前記耐久保護膜は、膜端における端縁部の膜厚が中央部から膜端に向かうにしたがって漸減し、
   前記端縁部によって前記密着層の端部が覆われていることを特徴とする液体吐出ヘッド。