JP2005313115A - オゾンによる水処理制御システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 オゾンによる水処理制御システムは、被処理水の一部が分岐ライン5を介して分岐して流入する試験用オゾン反応器6と、試験用オゾン反応器6内に試験用オゾンガスを注入して試験用オゾン処理水を得る試験用オゾンガス注入装置7とを備えている。試験用オゾン反応器6の下流側には、この試験用オゾン反応器6から流出した試験用オゾン処理水の水質を測定する試験用処理水水質測定器8が設けられている。水処理制御装置10により、試験用オゾンガスの注入率と、試験用処理水水質測定器8により得られる試験用オゾン処理水の水質情報とに基づいて、オゾンガス注入装置7を制御する。
【選択図】 図1
Description
トリハロメタンは発ガン性物質であるため、水処理工程において、このトリハロメタンの生成を抑制する必要がある。
オゾン処理は、オゾン発生装置において、空気または酸素に電圧を印加して放電(無声放電)させることにより酸素の一部をオゾン化させて生成されるオゾンガスと、被処理水とを接触させて、オゾンガスの強い酸化力によって、被処理水中の汚染物質を分解する処理をいう。
後段の生物活性炭処理において、汚染物質は生物活性炭に含まれる微生物により更に分解され、吸着除去される。
これは、オゾンガスによる酸化分解のみではトリハロメタン前駆物質、特にフミン質を完全に無機化することができず、また、条件によっては、このフミン質が増加するためである。
しかしながら、前段のオゾン処理と後段の生物活性炭処理とを組み合わせることにより、これらのトリハロメタン前駆物質となるフミン質が分解、吸着除去され、最終的にはトリハロメタン生成能が低下する。
しかしながら、オゾンガスの過剰注入を行うことは、オゾンガスを生成するための電力コストが増大するのみならず、オゾン処理において溶存オゾン濃度が増加することとなり、後段の生物活性炭処理において生物活性炭の寿命を縮めることとなる。
また、オゾン処理水中の溶存オゾン濃度が増加すると、発ガン性物質である臭素酸イオン等の副生成物が生成されるという問題がある。
図7は、従来のオゾンによる水処理制御システムの構成を示す構成図である。
また、オゾン処理槽51の下流側には、このオゾン処理槽51から流出されたオゾン処理水の溶存オゾン濃度を測定する溶存オゾン濃度計53が設置されている。
また、オゾンガス注入装置52に水処理制御装置54が接続されている。この水処理制御装置54は、溶存オゾン濃度計53による溶存オゾン濃度に基づいて、オゾンガス注入装置52を制御してオゾン処理槽51内に注入されるオゾンガスの注入率を調整するものである。
図7において、オゾン処理槽51に被処理水が導入され、また、オゾンガス注入装置52から供給されるオゾンガスが散気管55を介してこの導入された被処理水中に気泡となって注入される。
このオゾンガスの気泡と被処理水との気液接触により、オゾンガスが被処理水中に溶解する。そして、溶質との酸化反応により、トリハロメタン前駆物質であって主に色度成分であるフミン質の分解、臭気物質である2−メチルイソボルネオール(2−MIB)などの分解による脱臭、鉄、マンガンなどの不溶化、有機物の低分子化などが行われる。
水処理制御装置54は、設定基準値と溶存オゾン濃度計53による測定値とに基づいて、オゾンガス注入装置52を制御してオゾン処理槽51へのオゾンガスの注入率を調整する。
この未反応のオゾンガスの量が多い場合には、オゾンガスの生成ロスとなる。また、オゾン処理水中の溶存オゾンもオゾン処理槽51から流出するため、オゾンガスの生成ロスとなる。
オゾン処理が導入されている実際の水処理設備においては、溶存オゾン濃度は一般的には0.1〜0.2mg/L程度に維持されている。
この場合、UV値または蛍光強度の他に、オゾン処理水あるいはオゾン処理前の被処理水の濁度、TOC、溶存オゾン濃度を組み合わせた制御方法も提案されている(例えば、特許文献2乃至4参照)。
原水の水質のうち、溶存有機物質量の変動に対してはリアルタイムで適応可能であるが、上記の水質指標の設定値は、前述のオゾン注入率一定制御、溶存オゾン濃度一定制御等の制御方法と同様に、あらかじめ原水とオゾンガスとの反応特性を求める試験を行い、この試験結果および原水の水質の天候による変動や季節変動などの過去のデータ、あるいは他の浄水場のデータなどに基づいて決定される。
この方法によれば、被処理水中のオゾン消費成分となる有機物濃度が急激に変動してもオゾンガスの注入率を過不足なく適切なものとすることができる。
このため、これらの専門知識を有し、経験豊かなオペレータを常駐させる必要がある。
このことは、中小規模の水処理設備において高度浄水処理の導入・普及が進まない原因の一つとなっている。
飲料水中の臭素酸イオンの濃度は、飲料水の水質のガイドライン値として、世界保健機構(WHO)や米国環境保護庁(USEPA)ではその上限値が規制されており、日本においても新しい水道水の基準の対象となる予定である。
実際の水処理設備においては、上記の接触時間は、オゾン処理槽のサイズが一定であることにより、水処理設備の処理水量によって決まることとなるが、この処理水量は適宜変更することが困難である。
このため、被処理水中の溶存オゾン濃度を調整することにより臭素酸イオンの生成を抑制することとなる。
しかしながら、溶存オゾン濃度の設定値を低くし過ぎると、実際の溶存オゾン濃度は、溶存オゾン濃度計の設定下限値に近づくか、この設定下限値より小さな値となる。
これにより、溶存オゾン濃度計の設定値のバラツキ、誤差が大きくなり、オゾンガス注入率を的確に制御することが困難となる。
しかしながら、この方法では、臭素酸イオン等の副生成物を生成するオゾンもオゾン消費量としてカウントされ、副生成物の生成を抑止するという観点からは、最適なオゾンによる水処理制御システムとはいえない。
このうち、図1は、本発明の実施形態におけるオゾンによる水処理制御システムの構成を示す構成図であり、図2は、図1のオゾンによる水処理制御システムの作用を説明するフローチャートである。
また、導入ライン2には、この導入ライン2より導入される被処理水の一部が分岐ライン5を介して分岐して流入する試験用オゾン反応器6が接続されている。さらに、試験用オゾン反応器6には、試験用オゾン反応器6内に試験用オゾンガスを注入して被処理水と試験用オゾンガスとを反応させ、試験用オゾン処理水を得る試験用オゾンガス注入装置7が接続されている。
また、試験用オゾン反応器6の下流側には流出ライン6aが接続され、流出ライン6aには、この試験用オゾン反応器6から流出した試験用オゾン処理水の水質を測定する試験用処理水水質測定器8が設置されている。
また、試験用オゾン反応器6内にも同様に散気管12が設けられており、試験用オゾンガス注入装置7から送られた試験用オゾンガスはこの散気管12から試験用オゾン反応器6内に注入される。
これらの溶存オゾン濃度計4、pH計13、温度計14により測定されたオゾン処理水の水質情報はそれぞれ水処理制御装置10に送られるようになっている。
サンプリング用ポンプ5aによる被処理水のサンプリング流量(Lサンプル)は水処理制御装置10により調整される。
そして、試験用処理水水質測定器8により測定された試験用オゾン処理水の水質情報は水処理制御装置10に送られるようになっている。
試験用処理水水質測定器8により得られる試験用オゾン処理水の水質情報とは、具体的には、蛍光分析計8aにより測定された試験用オゾン処理水の蛍光強度(FLX)および溶存オゾン濃度計8bにより測定された試験用オゾン処理水の溶存オゾン濃度(DO3X)のことをいう。
すなわち、サンプリング用ポンプ5aによる被処理水のサンプリング流量(Lサンプル)は、下記式(1)によって算出される(ステップ2)。
これらの蛍光分析計8a、溶存オゾン濃度計8bにより測定されたオゾン処理水の水質情報はそれぞれ水処理制御装置10に送られる。
図3(a)は、試験用オゾンガスの注入率(IX)の経時変化を、図3(b)は、試験用オゾン処理水の蛍光強度(FLX)の経時変化を、図3(c)は、試験用オゾン処理水の溶存オゾン濃度(DO3X)の経時変化をそれぞれ示すグラフである。
また、図4(a)は、試験用オゾンガスの注入率(IX)の他の経時変化を、図4(b)は、試験用オゾン処理水の蛍光強度(FLX)の他の経時変化を、図4(c)は、試験用オゾン処理水の溶存オゾン濃度(DO3X)の他の経時変化をそれぞれ示すグラフである。
ここで、試験用オゾン反応器6に対する試験用オゾンガスの注入率は、サンプリング用ポンプ5aのサンプリング流量(Lサンプル)および試験用オゾンガス注入装置7からの試験用オゾンガスの注入量により算出される。
この位相差時間は、試験用オゾン反応器6における試験用オゾン処理水の滞留時間Tと略同一となる。
図5(a)は蛍光強度(FLX)の経時変化を、図5(b)は図5(a)の蛍光強度の低減率(△FLX/FL0)の経時変化を、図5(c)は図5(b)の蛍光強度の低減率の減少速度(d(△FLX/FL0)/dt)の経時変化をそれぞれ示すグラフである。図5のグラフ中の実線部分は原水の水質が良好である場合の蛍光強度(FLX)等の経時変化を示し、グラフ中の点線部分は原水の水質が悪い場合の蛍光強度(FL´X)等の経時変化を示す。
原水の水質が良好である場合(グラフの実線部分)であっても、水質が悪い場合(グラフの点線部分)であっても、図5に示すように、蛍光強度の低減率の減少速度(d(△FLX/FL0)/dt)の経時変化はほぼ同一となっている。これにより、原水の水質が良好である場合であっても、水質が悪い場合であっても、水質の差異に応じて設定目標蛍光強度(FL目標)の値を適切に決定することができる。
この位相差時間は、蛍光強度の場合と同様に、試験用オゾン反応器6における試験用オゾン処理水の滞留時間Tと略同一となる。
また、水処理制御装置10においては、設定上限溶存オゾン濃度(DO3上限)があらかじめ設定されている。この場合、設定上限溶存オゾン濃度(DO3上限)は0.1mg/L〜0.15mg/Lとされることが好ましい。
水処理制御装置10は、溶存オゾン濃度(DO3t+T)の大きさと設定上限溶存オゾン濃度(DO3上限)の大きさとを比較する。
すなわち、試験用オゾンガスの注入率(IX)が0から増加しはじめてから溶存オゾン濃度(DOX)が設定上限溶存オゾン濃度(DO3上限)に達するまでの時間は、(T+t´)となる。
このときに、図4に示すように、時間t´はtよりも小さい値となる。
そして、水処理制御装置10は、試験用オゾンガスの注入率(IX)が0から増加しはじめてから時間t´が経過したときの注入率を目標注入率(I目標)として決定する(ステップ11)。
オゾンガスの制御注入率(I制御)=目標注入率(I目標)×オゾン注入率補正値(β) ・・・式(2)
これらの溶存オゾン濃度計4、pH計13、温度計14により測定されたオゾン処理水の水質情報はそれぞれ水処理制御装置10に送られる。
オゾン注入率補正値(β)=k1×溶存オゾン濃度(DO3t+T)/溶存オゾン濃度(DO3処理後)×オゾン注入率補正初期値(β0) ・・・式(3)
オゾン注入率補正値(β)=k2×設定上限溶存オゾン濃度(DO3上限)/溶存オゾン濃度(DO3処理後)×オゾン注入率補正初期値(β0) ・・・式(4)
図6は、オゾン処理水の溶存オゾン濃度(mg/L)と臭素酸イオン生成量(μg/L)との相関関係を示すグラフである。図6のグラフにおいては、オゾン処理水のpH値が7である場合とpH値が8である場合についての相関関係が示されている。
これにより、被処理水の蛍光強度(FL0)に対するオゾン処理後の試験用オゾン反応水の蛍光強度(FLX)の割合を算出することができ、試験用オゾン反応器6への試験用オゾンガスの注入率(IX)を0からではなく、例えば設定最大値(I最大)の半分の値からスタートさせることも可能となる。
2 導入ライン
2a 流量計
2b 流出ライン
3 オゾンガス注入装置
4 オゾン処理水用溶存オゾン濃度計
5 分岐ライン
5a サンプリング用ポンプ
6 試験用オゾン反応器
6a 流出ライン
7 試験用オゾンガス注入装置
8 試験用処理水水質測定器
8a 蛍光分析計
8b 溶存オゾン濃度計
10 水処理制御装置
11 散気管
12 散気管
13 pH計
14 温度計
51 オゾン処理槽
52 オゾンガス注入装置
53 溶存オゾン濃度計
54 水処理制御装置
55 散気管
Claims (12)
- 被処理水が導入ラインを介して導入されるオゾン処理槽と、
オゾン処理槽内にオゾンガスを注入して被処理水とオゾンガスとを反応させ、オゾン処理水を得るオゾンガス注入装置と、
導入ラインにより導入される被処理水の一部が分岐ラインを介して分岐して流入する試験用オゾン反応器と、
試験用オゾン反応器内に試験用オゾンガスを注入して被処理水と試験用オゾンガスとを反応させ、試験用オゾン処理水を得る試験用オゾンガス注入装置と、
試験用オゾン反応器の下流側に設けられこの試験用オゾン反応器から流出した試験用オゾン処理水の水質を測定する試験用処理水水質測定器と、
試験用オゾンガス注入装置からの試験用オゾンガスの注入率と、試験用処理水水質測定器により得られる試験用オゾン処理水の水質情報とに基づいて、オゾンガス注入装置を制御してオゾン処理槽内に注入されるオゾンガスの注入率を調整する水処理制御装置とを備えたことを特徴とするオゾンによる水処理制御システム。 - 試験用処理水水質測定器は、試験用オゾン反応器から流出した試験用オゾン処理水の蛍光強度を測定する蛍光分析計を有し、
水処理制御装置は、試験用オゾンガス注入装置からの試験用オゾンガスの注入率と、蛍光分析計により得られる試験用オゾン処理水の蛍光強度とに基づいて、オゾンガス注入装置を制御してオゾン処理槽内に注入されるオゾンガスの注入率を調整することを特徴とする請求項1記載のオゾンによる水処理制御システム。 - 水処理制御装置は、
試験用オゾンガス注入装置を制御して試験用オゾン反応器内に注入される試験用オゾンガスの注入率を、0から設定最大値まで時間の経過とともに増加させて設定最大値に達したときに再び0にすることを繰り返すよう調整するとともに、
試験用オゾン処理水の蛍光強度が低下しはじめてから設定目標蛍光強度に達するまでの時間を算出し、試験用オゾンガスの注入率が0となる時刻からこの算出された時間が経過したときにおける試験用オゾンガスの注入率に基づいて制御注入率を設定し、
オゾンガス注入装置を制御してオゾン処理槽内に注入されるオゾンガスの注入率をこの設定された制御注入率となるよう調整することを特徴とする請求項2記載のオゾンによる水処理制御システム。 - 試験用処理水水質測定器は、試験用オゾン反応器から流出した試験用オゾン処理水の蛍光強度を測定する蛍光分析計と、この試験用オゾン処理水の溶存オゾン濃度を測定する溶存オゾン濃度計とを有し、
水処理制御装置は、試験用オゾンガス注入装置からの試験用オゾンガスの注入率と、蛍光分析計により得られる試験用オゾン処理水の蛍光強度および溶存オゾン濃度計により得られる試験用オゾン処理水の溶存オゾン濃度とに基づいて、オゾンガス注入装置を制御してオゾン処理槽内に注入されるオゾンガスの注入率を調整することを特徴とする請求項1記載のオゾンによる水処理制御システム。 - 水処理制御装置は、
試験用オゾンガス注入装置を制御して、試験用オゾン反応器内に注入される試験用オゾンガスの注入率を、0から設定最大値まで時間の経過とともに増加させて設定最大値に達したときに再び0にすることを繰り返すよう調整するとともに、
試験用オゾン処理水の蛍光強度が低下しはじめてから設定目標蛍光強度に達するまでの時間を算出し、試験用オゾンガスの注入率が0となる時刻からこの算出された時間が経過したときにおける試験用オゾンガスの注入率に基づいて制御注入率を設定し、
試験用オゾン処理水の溶存オゾン濃度が設定上限溶存オゾン濃度以下である場合において、オゾンガス注入装置を制御してオゾン処理槽内に注入されるオゾンガスの注入率をこの設定された制御注入率となるよう調整することを特徴とする請求項4記載のオゾンによる水処理制御システム。 - 水処理制御装置は、
試験用オゾン処理水の溶存オゾン濃度が設定上限溶存オゾン濃度を超えた場合おいて、溶存オゾン濃度が上昇しはじめてから設定上限溶存オゾン濃度に達するまでの時間を更に算出し、試験用オゾンガスの注入率が0となる時刻からこの算出された時間が経過したときにおける試験用オゾンガスの注入率に基づいて修正制御注入率を設定し、
オゾンガス注入装置を制御してオゾン処理槽内に注入されるオゾンガスの注入率をこの設定された修正制御注入率となるよう調整することを特徴とする請求項5記載のオゾンによる水処理制御システム。 - オゾン処理槽の下流側に設けられ、このオゾン処理槽から流出したオゾン処理水のpH値を測定するpH計および/またはオゾン処理水の水温を測定する温度計を備えており、
水処理制御装置において、設定上限溶存オゾン濃度は、pH計により測定されたオゾン処理水のpH値および/または温度計により測定されたオゾン処理水の水温に基づいて補正されることを特徴とする請求項5または6記載のオゾンによる水処理制御システム。 - 蛍光分析計は、励起波長が340nm乃至350nmである光を試験用オゾン処理水に照射し、その分光スペクトル中の420nm乃至430nmの蛍光波長を測定することにより試験用オゾン処理水の蛍光強度を測定するものであることを特徴とする請求項2乃至7のいずれかに記載のオゾンによる水処理制御システム。
- 蛍光分析計により得られる試験用オゾン処理水の蛍光強度に係わる水質情報として、蛍光を発する特定物質の蛍光強度を基準とした相対蛍光強度が用いられることを特徴とする請求項2乃至8のいずれかに記載のオゾンによる水処理制御システム。
- 導入ラインと試験用オゾン反応器との間の分岐ラインにサンプリング用ポンプが設けられ、
水処理制御装置は、サンプリング用ポンプを制御して、オゾン処理槽における被処理水の滞留時間に対する試験用オゾン反応器における被処理水の滞留時間の割合が0.9乃至1.1となるよう、サンプリング流量を調整することを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載のオゾンによる水処理制御システム。 - オゾン処理槽の下流側に設けられ、このオゾン処理槽から流出したオゾン処理水の溶存オゾン濃度を測定するオゾン処理水用溶存オゾン濃度計を更に備え、
水処理制御装置は、オゾンガス注入装置を制御して、オゾン処理槽に注入されるオゾンガスの注入率を、オゾン処理水用溶存オゾン濃度計により測定されるオゾン処理水の溶存オゾン濃度が設定上限溶存オゾン濃度以下となるよう調整することを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載のオゾンによる水処理制御システム。 - 試験用処理水水質測定器は、試験用オゾン処理水の吸光度を測定する吸光度分析計を有し、
水処理制御装置は、試験用オゾンガス注入装置からの試験用オゾンガスの注入率と、吸光度分析計により得られる試験用オゾン処理水の吸光度とに基づいて、オゾンガス注入装置を制御してオゾン処理槽内に注入されるオゾンガスの注入率を調整することを特徴とする請求項1記載のオゾンによる水処理制御システム。
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