JP2005311325A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005311325A5 JP2005311325A5 JP2005081013A JP2005081013A JP2005311325A5 JP 2005311325 A5 JP2005311325 A5 JP 2005311325A5 JP 2005081013 A JP2005081013 A JP 2005081013A JP 2005081013 A JP2005081013 A JP 2005081013A JP 2005311325 A5 JP2005311325 A5 JP 2005311325A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- forming
- electrode
- source electrode
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 5
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 4
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N Fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N TiO Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 claims 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titan oxide Chemical group O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001929 titanium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005081013A JP5057652B2 (ja) | 2004-03-24 | 2005-03-22 | 薄膜トランジスタの作製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004088068 | 2004-03-24 | ||
JP2004088068 | 2004-03-24 | ||
JP2005081013A JP5057652B2 (ja) | 2004-03-24 | 2005-03-22 | 薄膜トランジスタの作製方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005311325A JP2005311325A (ja) | 2005-11-04 |
JP2005311325A5 true JP2005311325A5 (hu) | 2008-03-27 |
JP5057652B2 JP5057652B2 (ja) | 2012-10-24 |
Family
ID=35439673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005081013A Expired - Fee Related JP5057652B2 (ja) | 2004-03-24 | 2005-03-22 | 薄膜トランジスタの作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5057652B2 (hu) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005091375A1 (en) | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for forming pattern, thin film transistor, display device and method for manufacturing the same, and television device |
CN101030536B (zh) * | 2006-03-02 | 2010-06-23 | 株式会社半导体能源研究所 | 电路图案、薄膜晶体管及电子设备的制造方法 |
JP2007266596A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-10-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 回路パターン及び薄膜トランジスタの作製方法、並びに該薄膜トランジスタを搭載した電子機器 |
JP5186750B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-04-24 | 大日本印刷株式会社 | 有機半導体素子およびその製造方法 |
JP5186749B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-04-24 | 大日本印刷株式会社 | 有機半導体素子およびその製造方法 |
US7646015B2 (en) | 2006-10-31 | 2010-01-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of semiconductor device and semiconductor device |
JP5210594B2 (ja) * | 2006-10-31 | 2013-06-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
JP5138927B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2013-02-06 | 共同印刷株式会社 | フレキシブルtft基板及びその製造方法とフレキシブルディスプレイ |
WO2011013502A1 (en) | 2009-07-31 | 2011-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
WO2012117439A1 (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-07 | パナソニック株式会社 | 薄膜半導体装置及びその製造方法 |
KR101851565B1 (ko) * | 2011-08-17 | 2018-04-25 | 삼성전자주식회사 | 트랜지스터와 그 제조방법 및 트랜지스터를 포함하는 전자소자 |
JP7093725B2 (ja) * | 2016-12-16 | 2022-06-30 | メルク パテント ゲーエムベーハー | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
CN115634816B (zh) * | 2021-03-07 | 2024-02-09 | 广东省漆色彩新型材料有限公司 | 一种电致荧光发光漆涂层工艺 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3403935B2 (ja) * | 1997-03-14 | 2003-05-06 | 株式会社東芝 | 画像形成装置、画像形成方法、およびパターン形成方法、ならびにそれらに用いる感光体 |
JP2000171629A (ja) * | 1998-12-09 | 2000-06-23 | Canon Inc | カラーフィルタとその製造方法、液晶素子 |
JP3381146B2 (ja) * | 1999-02-05 | 2003-02-24 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP4289522B2 (ja) * | 1999-03-11 | 2009-07-01 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体の製造法 |
JP2000343848A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-12-12 | Kyodo Printing Co Ltd | 光触媒体を用いた画像形成材料および画像形成方法 |
US6791144B1 (en) * | 2000-06-27 | 2004-09-14 | International Business Machines Corporation | Thin film transistor and multilayer film structure and manufacturing method of same |
JP3516441B2 (ja) * | 2000-07-10 | 2004-04-05 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | アクティブマトリックス基板、表示装置、およびアクティブマトリックス基板の製造方法 |
JP2002040231A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-06 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびその製造方法 |
AU2002310593A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-12-03 | Plastic Logic Limited | Laser parrering of devices |
JP2003059940A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | ミクロファブリケーション用基板、その製造方法および像状薄膜形成方法 |
JP2003229579A (ja) * | 2001-11-28 | 2003-08-15 | Konica Corp | 電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
TWI256732B (en) * | 2002-08-30 | 2006-06-11 | Sharp Kk | Thin film transistor, liquid crystal display apparatus, manufacturing method of thin film transistor, and manufacturing method of liquid crystal display apparatus |
JP4355900B2 (ja) * | 2003-05-20 | 2009-11-04 | 日本電気株式会社 | 基板表面の平坦化方法、並びに平坦化基板、液晶表示装置、有機el素子及び半導体装置の製造方法 |
-
2005
- 2005-03-22 JP JP2005081013A patent/JP5057652B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005311325A5 (hu) | ||
JP2006100808A5 (hu) | ||
JP2005244203A5 (hu) | ||
JP2007512680A5 (hu) | ||
JP2006196879A5 (hu) | ||
WO2016206236A1 (zh) | 低温多晶硅背板及其制造方法和发光器件 | |
JP2005334864A5 (hu) | ||
JP2005531131A5 (hu) | ||
JP2005079560A5 (hu) | ||
US20170294583A1 (en) | Carbon nanotube semiconductor device and manufacturing method thereof | |
TWI524565B (zh) | Production method of transistor and transistor | |
JP2005244197A5 (hu) | ||
JP2008508718A5 (hu) | ||
JP2006133762A5 (hu) | ||
JP2006134959A (ja) | 有機トランジスタおよびその製造方法 | |
JP2006013480A5 (hu) | ||
JP2005286320A5 (hu) | ||
JP2005303283A5 (hu) | ||
JP2005346043A5 (hu) | ||
JP4652866B2 (ja) | 有機トランジスタ | |
JP2005013985A5 (hu) | ||
JP2005165309A5 (hu) | ||
JP2007059890A5 (hu) | ||
JP2007043113A5 (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
JP5017338B2 (ja) | 有機トランジスタの製造方法 |