JP2005308707A - Manufacturing method for index of timepiece - Google Patents

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Shuichi Miyashita
修一 宮下
Minoru Akazawa
実 赤沢
Yukinari Matsuura
幸成 松浦
Arata Nagasawa
新 長澤
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Kawaguchiko Seimitsu Co Ltd
Kawaguchiko Seimitsu KK
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce production man-hours for a timepiece index, as to a manufacturing method for an index such as a numeral, a mark and a sign provided in a dial used in a timepiece or the like. <P>SOLUTION: This manufacturing method for the timepiece index wherein the index for the timepiece 2 is formed on a surface of a conductive base material 110 by an electrocasting plating technique, wherein the index 2 is separation-transferred to a pressure-sensitive adhesive layer 24 of a support material 25 provided with the pressure-sensitive adhesive layer 24, wherein a fixing adhesive layer 28 is formed further in a reverse face side of the index, and wherein the index 2 is bonded onto the dial 1 for the timepiece via the fixing adhesive layer 28 while separating the index 2 from the support material 25 is a manufacturing method for the timepiece index using the conductive base material 110 with a metal sheet 112 bonded on a resin base plate 111 via a temporary adhesive layer 113. The production man-hours are reduced and a production cost for the index 2 is reduced, by recovering the resin base plate 111 to be used recyclingly, in the production of the timepiece index. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は時計等で用いる文字板に設ける数字やマークや記号などの指標の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing indicators such as numerals, marks and symbols provided on a dial used in a timepiece or the like.

以下背景技術を図9〜13を用いて説明する。図9は指標を設けた時計用文字板の斜視図、図10は導電性基材の表面上に指標を形成したときの平面図、図11は電鋳手法に用いる導電性基材の断面図、図12は電鋳手法で指標を形成するときの製造工程図、図13は図12の工程(d)における図10矢視A−A断面での斜視図である。   The background art will be described below with reference to FIGS. 9 is a perspective view of a timepiece dial provided with an index, FIG. 10 is a plan view when the index is formed on the surface of the conductive base material, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the conductive base material used in the electroforming method. FIG. 12 is a manufacturing process diagram when an index is formed by an electroforming method, and FIG. 13 is a perspective view taken along the line AA in FIG. 10 in the step (d) of FIG.

図9に示したように、時計用文字板は、平板状の文字板1上に金属やプラスチックでできた指標2を設けるが、この指標の製造方法として、大別すると次の3通りの方法がある。
1)電鋳手法;金属板上にメッキ金属を用い電鋳で指標を製作しておいてから、これを文字板に転写・接着する方法。
2)コインニング法;プレス機等を用い、純銅や黄銅の様な伸びの良い金属を素材にして足部を盛上げた足付指標を作り、上面や側面をダイヤモンドバイト等でカットして光沢を出した後、文字板に設けた小穴に足部を嵌合し、かしめて留める方法。
3)削り出し法;プラスチックや金属材料を素材にしてNC機等で切削加工した指標を製作し、この指標を文字板に接着剤で固定する方法。
本発明の時計用指標の製造方法は電鋳手法に属する。電鋳手法を用いた指標の製造方法としての背景技術の1つに、下記の特許文献1で開示された技術がある。
As shown in FIG. 9, the timepiece dial is provided with an index 2 made of metal or plastic on a flat dial 1. As a method of manufacturing this index, the following three methods are roughly classified. There is.
1) Electroforming method: A method of producing an index by electroforming using a plated metal on a metal plate, and then transferring and bonding the indicator to a dial.
2) Coining method: Using a press machine or the like, create a footing index with a foot that is made of a highly stretched metal such as pure copper or brass, and cut the upper surface or side surface with a diamond tool to make it shiny. A method of fitting the foot into a small hole provided in the dial and crimping it.
3) Cutting method: A method in which an index cut by an NC machine or the like is made from a plastic or metal material, and the index is fixed to a dial with an adhesive.
The manufacturing method of the timepiece index of the present invention belongs to the electroforming method. One of the background arts as a method for producing an index using an electroforming technique is a technique disclosed in Patent Document 1 below.

特許公開平8−27597号公報Japanese Patent Publication No. 8-27597

以下、特許文献1に基づいて指標2を電鋳手法で形成し、その指標2を文字板1に貼り付ける迄の工程を主に図12を用いながら説明するが、その中で初期の工程では、指標2は導電性基材10上に形成していくので、先ずこの導電性基材10の説明から始める。   Hereinafter, the process until the index 2 is formed by the electroforming method based on Patent Document 1 and the index 2 is attached to the dial 1 will be described mainly with reference to FIG. Since the index 2 is formed on the conductive substrate 10, the description of the conductive substrate 10 is first started.

従来用いられてきた導電性基材10は、図11に示すように、ステンレス鋼等の金属基板11の表面に、導電性被膜12を設けた積層体であった。この多層の導電性基材10を用いると、製造の後工程で、指標2を導電性基材10から支持基材25に転写する際に、指標像が飛散するのを防止できる。導電性被膜12は導電性を有する可撓性の薄膜であり、電解メッキ(電着)、または無電解メッキによって形成される導電性金属薄膜、導電性塗料被膜、導電性高分子薄膜等が用いられるが、好ましくは電着による導電性金属薄膜が用いられた。導電性金属被膜の膜厚は通常は20〜30μmである。導電性被膜は、後工程において、金属基板11の表面から剥離するので、剥離を容易にするため、金属基板11の表面に表面酸化等の離型処理を施しておく。この導電性基材10を用いて、図12の工程(a)〜(d)の工程を経ると、図10、図13に示した中間製品20が出来上がる。   As shown in FIG. 11, the conductive base material 10 conventionally used is a laminate in which a conductive coating 12 is provided on the surface of a metal substrate 11 such as stainless steel. When this multilayer conductive substrate 10 is used, it is possible to prevent the index image from scattering when the index 2 is transferred from the conductive substrate 10 to the support substrate 25 in a post-production process. The conductive coating 12 is a flexible thin film having conductivity, such as a conductive metal thin film, a conductive paint film, a conductive polymer thin film, etc. formed by electrolytic plating (electrodeposition) or electroless plating. However, a conductive metal thin film by electrodeposition was preferably used. The film thickness of the conductive metal coating is usually 20-30 μm. Since the conductive coating is peeled off from the surface of the metal substrate 11 in a subsequent process, a release treatment such as surface oxidation is performed on the surface of the metal substrate 11 in order to facilitate peeling. When the conductive substrate 10 is used and the steps (a) to (d) in FIG. 12 are performed, the intermediate product 20 shown in FIGS. 10 and 13 is completed.

図10は、前記導電性基材10の表面に指標2を形成した状態を示す平面図、図13は図12の工程(d)における図10矢視A−A断面での斜視図であるが、導電性基材10表面には、指標2および該指標2を囲む線状電着5と、ガイド孔6aが設けられたガイド用電着6を形成してある。線状電着5を指標2の周囲に形成することで指標2の外周端への過剰電着が防止できる。ガイド用電着6に設けたガイド孔6aは、最終工程で、文字板1に指標2を転写・接着する際の位置出しに用いる。線状電着5及びガイド用電着6は製品としては使用しないので、以降は、線状電着5及びガイド用電着6を総称して「捨て電3」と称することにする。   FIG. 10 is a plan view showing a state in which the index 2 is formed on the surface of the conductive substrate 10, and FIG. 13 is a perspective view taken along the line AA in FIG. 10 in step (d) of FIG. On the surface of the conductive base material 10, the electrode 2 and the linear electrodeposition 5 surrounding the index 2 and the guide electrodeposition 6 provided with the guide holes 6a are formed. By forming the linear electrodeposition 5 around the index 2, excessive electrodeposition of the index 2 on the outer peripheral end can be prevented. The guide hole 6a provided in the guide electrodeposition 6 is used for positioning when the index 2 is transferred and adhered to the dial 1 in the final step. Since the linear electrodeposition 5 and the guide electrodeposition 6 are not used as products, hereinafter, the linear electrodeposition 5 and the guide electrodeposition 6 will be collectively referred to as “discarding electricity 3”.

先ず、工程(d)に到るまでの各工程を図12を用いながら説明する。
工程(a);導電性基材10の表面にフォトレジスト22を積層し、その上から指標2像と、捨て電3像を印刷や写真で作製したマスクフィルム23でおおってから、フォトレジスト22上に露光4を照射する。
工程(b);露光後の現像を経て、フォトレジスト22の露光されなかった部分だけを除去してから、導電性基材10の露出部(フォトレジスト被覆の無い部分)に離型処理を施す。
工程(c);更に電着法を用いてメッキを施し、メッキ金属からなる指標2と捨て電3を形成する。
工程(d);続いて剥離液に浸漬して露光されたフォトレジストを除去する。
以上の工程を経ると、図10に示したように導電性基材10の上にメッキ金属からなる指標2と捨て電3が形成される。
First, each step up to step (d) will be described with reference to FIG.
Step (a): A photoresist 22 is laminated on the surface of the conductive substrate 10, and an index 2 image and a discarded electricity 3 image are covered with a mask film 23 produced by printing or photography, and then the photoresist 22. The exposure 4 is irradiated on the top.
Step (b): After the development after exposure, only the unexposed portion of the photoresist 22 is removed, and then the exposed portion of the conductive substrate 10 (the portion without the photoresist coating) is subjected to a release treatment. .
Step (c): Further, plating is performed by using an electrodeposition method to form an indicator 2 made of plated metal and a discarded electrode 3.
Step (d): Subsequently, the exposed photoresist is removed by immersion in a stripping solution.
Through the above steps, as shown in FIG. 10, the indicator 2 made of plated metal and the discarded electricity 3 are formed on the conductive substrate 10.

次に、この中間製品20を文字板1に取付ける迄の工程を、図12(e)から図12(g)を用いて説明する。
工程(e);指標2を、感圧接着剤から成る感圧接着剤層24を介して支持基材25上に一旦転写する。このとき、導電性被膜12は指標2に接着したままで、金属基板11からは分離する。
工程(f);導電性被膜12を除去。固定用接着剤からなる固定用接着剤層28を指標2上に設け、捨て電3を引き離して除去する。
工程(g);ジグ26上に固定してある文字板1に、ガイドピン27で位置出ししながら押圧、更に支持基材25と感圧接着剤層24を剥ぎ取ることで、指標2は固定接着剤層28を介して文字板1に固着させる。
Next, a process until the intermediate product 20 is attached to the dial 1 will be described with reference to FIGS. 12 (e) to 12 (g).
Step (e): The index 2 is temporarily transferred onto the support substrate 25 through the pressure-sensitive adhesive layer 24 made of a pressure-sensitive adhesive. At this time, the conductive film 12 remains adhered to the index 2 and is separated from the metal substrate 11.
Step (f); removing the conductive film 12. A fixing adhesive layer 28 made of a fixing adhesive is provided on the index 2 and the waste electricity 3 is pulled away and removed.
Step (g): The dial 2 fixed on the jig 26 is pressed while being positioned by the guide pins 27, and the support base 25 and the pressure-sensitive adhesive layer 24 are peeled off to fix the index 2. It is fixed to the dial 1 via the adhesive layer 28.

既に述べたように、従来行われてきた電鋳手法の場合は、金属基板11上に電解メッキを施した導電性基材10の上面で指標2を製作していくが、指標2を感圧接着剤層24を設けた支持基材25に転写する工程(図12(e)工程)が終ると、金属基板11は製造工程から離れる。この金属基板11は、電解メッキをかけ直してから再利用に供するが、電解メッキ工程には多くの時間がかかる。また、回収した金属基板11には不導体が付着しており、そのままだと良質のメッキ膜が形成できないので、電解メッキ前に予め長時間(例えば10分位)を費やして磨く必要がある。また金属基板11は一度使うと反りが出るので、その修正も必要になるが、金属基板11は剛性が高く修正作業は簡単ではない。   As described above, in the case of the conventional electroforming method, the index 2 is manufactured on the upper surface of the conductive base material 10 that is electroplated on the metal substrate 11. When the step of transferring to the support base material 25 provided with the adhesive layer 24 (step (e) in FIG. 12) is finished, the metal substrate 11 is separated from the manufacturing step. The metal substrate 11 is reused after being subjected to electrolytic plating again, but the electrolytic plating process takes a lot of time. Further, since the non-conductive material is attached to the recovered metal substrate 11 and a high-quality plated film cannot be formed as it is, it is necessary to spend a long time (for example, about 10 minutes) and polish it before electrolytic plating. Further, since the metal substrate 11 is warped once it is used, it is necessary to correct the metal substrate 11, but the metal substrate 11 has high rigidity and is difficult to correct.

本発明は上記課題を解決するために成されたものである。解決する手段として、本発明の請求項1記載に係わる発明は、導電性基材の表面に電鋳メッキ手法で指標を形成し、感圧接着剤層を設けてある支持基材の感圧接着剤層に前記指標を剥離転写し、更に該指標の裏面側に固着用接着剤層を形成し、前記指標を支持基材から剥離しながら固着用接着剤層を介して時計用文字板に貼付ける時計用指標の製造方法において、前記導電性基材は金属シートを樹脂基板上に仮接着剤層を介して貼り合せて構成し、前記樹脂基板は前記金属シートを剥離後にリサイクルして使用することを特徴とする時計用指標の製造方法である。   The present invention has been made to solve the above problems. As a means for solving the problem, the invention according to claim 1 of the present invention is the pressure sensitive adhesion of the supporting base material in which the index is formed on the surface of the conductive base material by the electroforming plating method and the pressure sensitive adhesive layer is provided. The indicator is peeled and transferred to the adhesive layer, and an adhesive layer for fixing is formed on the back side of the indicator, and the indicator is attached to the timepiece dial via the adhesive layer for fixing while peeling from the support substrate. In the method for manufacturing an indicator for a watch, the conductive base material is formed by bonding a metal sheet on a resin substrate via a temporary adhesive layer, and the resin substrate is used after recycling the metal sheet. This is a method for manufacturing a timepiece index.

また本発明の請求項2記載に係わる発明は、前記金属シートが無接着剤銅張積層板(2層CCL)、または銅箔とポリエステルフィルを張り合わせた複合材からなることを特徴とする時計用指標の製造方法である。   The invention according to claim 2 of the present invention is characterized in that the metal sheet is made of a non-adhesive copper-clad laminate (two-layer CCL) or a composite material obtained by bonding a copper foil and a polyester film. It is a manufacturing method of an index.

また本発明の請求項3記載に係わる発明は、前記樹脂基板はベークライト系樹脂、またはアクリル系樹脂からなることを特徴とする時計用指標の製造方法である。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a timepiece index manufacturing method, wherein the resin substrate is made of a bakelite resin or an acrylic resin.

また本発明の請求項4記載に係わる発明は、前記仮接着剤層は光硬化型接着剤、または熱硬化型接着剤、熱剥離粘着材からなることを特徴とする時計用指標の製造方法である。   The invention according to claim 4 of the present invention is a method for producing a timepiece index, wherein the temporary adhesive layer is made of a photo-curing adhesive, a thermosetting adhesive, or a heat-peeling adhesive. is there.

また本発明の請求項5記載に係わる発明は、前記仮接着剤層は前記樹脂基板の上面全面又は上面外縁部に設けたことを特徴とする時計用指標の製造方法である。   The invention according to claim 5 of the present invention is the timepiece index manufacturing method characterized in that the temporary adhesive layer is provided on the entire upper surface or the outer edge of the upper surface of the resin substrate.

また本発明の請求項6記載に係わる発明は、導電性基材の表面に電鋳メッキ手法で指標を形成し、感圧接着剤層を設けてある支持基材の感圧接着剤層に前記指標を剥離転写し、更に該指標の裏面側に固着用接着剤層を形成し、前記指標を支持基材から剥離しながら固着用接着剤層を介して時計用文字板に貼付ける時計用指標の製造方法において、前記導電性基材は導電性薄膜を形成した非導電性シートで構成すると共に、該導電性基材を緊張の下でメッキ浴液層に浸漬して電鋳メッキ手法で前記導電性薄膜上に指標を形成したことを特徴とする時計用指標の製造方法である。   In the invention according to claim 6 of the present invention, the indicator is formed on the surface of the conductive substrate by electroforming plating method, and the pressure-sensitive adhesive layer of the supporting substrate on which the pressure-sensitive adhesive layer is provided The timepiece index is peeled and transferred, and further, an adhesive layer for fixing is formed on the back side of the index, and the index is attached to the timepiece dial via the adhesive layer for fixing while peeling off the index from the supporting substrate. In the manufacturing method, the conductive base material is composed of a non-conductive sheet on which a conductive thin film is formed, and the conductive base material is immersed in a plating bath liquid layer under tension and electroplated by the electroforming plating method. A timepiece index manufacturing method characterized in that an index is formed on a conductive thin film.

また本発明の請求項7記載に係わる発明は、前記導電性基材の緊張は、導電性基材を四方から引っ張った状態で緊張枠に固定することによって緊張の状態にしたことを特徴とする時計用指標の製造方法である。   Further, the invention according to claim 7 of the present invention is characterized in that the conductive substrate is tensioned by fixing the conductive substrate to a tension frame while being pulled from four sides. It is a manufacturing method of a clock index.

また本発明の請求項8記載に係わる発明は、前記導電性基材の緊張は、帯状の導電性基材の両端を支えながら、一定の距離を持たせた2つのローラで前記導電性基材に加圧することによって緊張の状態にしたことを特徴とする時計用指標の製造方法である。   In the invention according to claim 8 of the present invention, the conductive base material is composed of two rollers having a constant distance while supporting both ends of the belt-like conductive base material. It is a manufacturing method of the timepiece index, which is characterized by being in a state of tension by pressurizing.

また本発明の請求項9記載に係わる発明は、前記導電性薄膜は光沢面をなしていることを特徴とする時計用指標の製造方法である。   The invention according to claim 9 of the present invention is the timepiece index manufacturing method, wherein the conductive thin film has a glossy surface.

また本発明の請求項10記載に係わる発明は、前記導電性薄膜はステンレス金属からなることを特徴とする時計用指標の製造方法である。   The invention according to claim 10 of the present invention is the timepiece indicator manufacturing method, wherein the conductive thin film is made of stainless steel.

発明の効果として、請求項1記載に係わる金属シートとを用いることで、従来行われてきた金属基板への時間がかかるメッキ工程が不要になる。また、請求項1記載に係わる樹脂基板を用いることで、基板をリサイクルして生産工程を繰り返すとき、基板を磨く必要がなくなる。また、反った基板の修正も金属基板より簡単である。   As an effect of the invention, the use of the metal sheet according to claim 1 eliminates the need for a time-consuming plating process for a metal substrate. Further, by using the resin substrate according to claim 1, it is not necessary to polish the substrate when the substrate is recycled and the production process is repeated. Also, the correction of the warped substrate is easier than the metal substrate.

また、請求項2記載に係わる金属シートは鏡面で導通性も良いのでメッキがのり易く、電鋳手法で形成した指標に光沢が現れて高級感をもたらす。また、安価な市販品を容易に入手できる。   Further, since the metal sheet according to claim 2 has a mirror surface and good electrical conductivity, it is easy to plate, and gloss appears on the index formed by the electroforming technique, giving a high-class feeling. In addition, inexpensive commercial products can be easily obtained.

また、請求項3記載に係る樹脂基板は、基板としての剛性が適度にあり、また一度反っても簡単に修正できる。   Further, the resin substrate according to claim 3 has a moderate rigidity as a substrate, and can be easily corrected even if it is warped once.

また、請求項4記載に係わる仮接着剤を用いることで、金属シートと樹脂基板との間の結び付を製造工程での必要性に応じて容易に変えることができる。   Further, by using the temporary adhesive according to the fourth aspect, the connection between the metal sheet and the resin substrate can be easily changed according to the necessity in the manufacturing process.

また、請求項5に記載に係わる仮接着剤層を樹脂基板の上面全面又は上面外縁部に設けることで、金属シートを緊張して貼付けることができ、これにより、電鋳による指標の形成形状をより良い形状に仕立てることができる。また、特に樹脂基板の外縁部に設けることにより、接着作業と剥離作業がやり易くなる。   In addition, by providing the temporary adhesive layer according to claim 5 on the entire upper surface of the resin substrate or on the outer edge of the upper surface, the metal sheet can be tensioned and affixed. Can be tailored to a better shape. Moreover, it becomes easy to perform an adhesion | attachment operation | work and a peeling operation | work especially by providing in the outer edge part of a resin substrate.

また、請求項6、7、8に記載に係る製造方法の下では、従来用いていた金属基板が不要となり、また、金属基板の剥離工程も不要となるので、製造工程が短縮でき、製造コスト低減の効果を生む。   In addition, under the manufacturing method according to claims 6, 7, and 8, the metal substrate that has been conventionally used is not required, and the metal substrate peeling process is not required, so that the manufacturing process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced. Produces a reduction effect.

また、請求項9記載に係わる導電性薄膜を光沢面にすることによって、電鋳メッキ手法で形成した指標に光沢が現れて高級感をもたらす。   Further, by making the conductive thin film according to claim 9 a glossy surface, gloss appears on the index formed by the electroforming plating technique, and a high-grade feeling is brought about.

また、請求項10記載に係わる製造方法の下では、離型性が良くなり、離型剤塗布を施さなくても離型が容易にできるようになる。   Further, under the manufacturing method according to the tenth aspect, the releasability is improved, and the release can be easily performed without applying the release agent.

次に本発明を実施するための最良の実施形態を、以下図1〜図8を用いて説明する。ここで、図の説明を簡単に行う。図1、図2、図3は本発明の第1実施形態に係る時計用指標の製造方法を説明するもので、図1(a)は本発明の第1実施形態に係る指標製造方法に用いる導電性基材の1実施例の断面図、図1(b)は他の実施例の断面図、図2は本発明の指標製造方法における製造工程図、図3は図2の工程(d)における中間製品の要部断面斜視図である。図4は本発明の第2形態における導電性基材の表面上に指標を形成したときの平面図を示したものである。図5は本発明の指標製造方法の第2実施形態に係る製造工程を説明する工程図で、図6は図5の工程(d)における中間製品の要部断面斜視図を示したものである。また、図7は図5の工程(c)における電鋳メッキを行う時の説明図を示したものである。また、図8は導電性基材を緊張させる方法の他の実施形態の緊張させる方法を説明する説明図を示したものである。尚、背景技術で説明した構成部品と同一部品には同一符号を付して説明する。   Next, the best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to FIGS. Here, the illustration will be briefly described. 1, 2, and 3 illustrate a timepiece index manufacturing method according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1A is used for the index manufacturing method according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1B is a cross-sectional view of another embodiment, FIG. 2 is a manufacturing process diagram in the index manufacturing method of the present invention, and FIG. 3 is a step (d) of FIG. It is a principal part cross-sectional perspective view of the intermediate product in. FIG. 4 shows a plan view when an index is formed on the surface of the conductive substrate in the second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a process diagram illustrating a manufacturing process according to the second embodiment of the index manufacturing method of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional perspective view of the main part of the intermediate product in the process (d) of FIG. . FIG. 7 shows an explanatory diagram when performing electroforming plating in the step (c) of FIG. FIG. 8 shows an explanatory view for explaining a method of tensioning another embodiment of a method of tensioning a conductive substrate. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the same component as the component demonstrated by background art.

最初に、本発明の第1実施形態に係る指標の製造方法を図1〜図3を用いて説明する。図1(a)に示したように、本発明の指標製造方法に用いる導電性基材110は樹脂基板111と金属シート112と、その間を連結する仮接着剤層113から構成されている。その詳細な説明は後述することにして、本発明の導電性基材110を用いた時計用指標の製造方法を先に説明する。   Initially, the manufacturing method of the parameter | index which concerns on 1st Embodiment of this invention is demonstrated using FIGS. 1-3. As shown in FIG. 1A, the conductive base material 110 used in the index manufacturing method of the present invention is composed of a resin substrate 111, a metal sheet 112, and a temporary adhesive layer 113 that connects between the resin substrate 111 and the metal sheet 112. A detailed description thereof will be described later, and a method for manufacturing a timepiece index using the conductive substrate 110 of the present invention will be described first.

先ず、工程(a)において、導電性基材110の表面にフォトレジスト22を印刷などの方法で形成し、その上から指標2像と、捨て電3像を印刷や写真で作製したマスクフィルム23でおおってから、フォトレジスト22上に露光4を照射する。ここでの捨て電3は、背景技術で述べたように、指標2の周囲に形成する線状電着5と最終工程で文字板1に指標2を転写・接着する際に用いるガイド用電着6とで構成しているものである。
次に、工程(b)において、露光後の現像を経て、フォトレジスト22の露光されなかった部分だけを除去してから、導電性基材110の露出部(フォトレジスト22被覆の無い部分)に離型処理を施す。
次に、工程(c)において、電鋳メッキ法を用いてメッキを施し、メッキ金属からなる指標2と捨て電3を形成する。図中においては、捨て電3の内の線状電着5のみを示してある。
次に、工程(d)において、続いて剥離液に浸漬して露光されたフォトレジスト22を除去する。
以上の工程を経ると、図3に示したように導電性基材110の上にメッキ金属からなる指標2と捨て電3(図3中には捨て電3の1つである線状電着5のみが描かれている)が形成された中間製品120を得る。
First, in step (a), a photoresist film 22 is formed on the surface of the conductive substrate 110 by a method such as printing, and a mask film 23 in which two images of indicators and three discarded images are printed or photographed from above. Then, the exposure 4 is irradiated on the photoresist 22. As described in the background art, the discarded power 3 here is a linear electrodeposition 5 formed around the index 2 and a guide electrodeposition used when the index 2 is transferred and adhered to the dial 1 in the final step. 6.
Next, in step (b), after the development after exposure, only the unexposed portion of the photoresist 22 is removed, and then the exposed portion of the conductive substrate 110 (the portion without the photoresist 22 coating) is removed. Perform mold release treatment.
Next, in step (c), plating is performed using an electroforming plating method to form the indicator 2 made of plated metal and the discarded electricity 3. In the figure, only the linear electrodeposition 5 of the discarded power 3 is shown.
Next, in the step (d), the exposed photoresist 22 is subsequently removed by immersion in a stripping solution.
After the above steps, as shown in FIG. 3, the indicator 2 made of plated metal and the discarded electric power 3 (linear electrodeposition which is one of the discarded electric power 3 in FIG. 3) are formed on the conductive substrate 110. An intermediate product 120 is obtained in which only 5 is drawn.

次に、この中間製品120を文字板1に取付ける迄の工程を、図2(e)〜図2(i)を用いて説明する。
工程(e)において、指標2及び捨て電3を、感圧接着剤から成る感圧接着剤層24を介してフィルム状の支持基材25上に一旦転写する。そして、金属シート112は指標2、及び捨て電3(図中においては、捨て電3の内の1つである線状電着5のみを示してある)側に接着したままで、樹脂基板111側からは分離する。
次に、工程(f)において、金属シート112を指標2及び捨て電3(図中においては、捨て電3の内の1つである線状電着5のみを示してある)側から剥離除去する。
次に、工程(g)において、指標2及び捨て電3(図中においては、捨て電3の内の1つである線状電着5のみを示してある)の固着面に印刷などの方法で固定用接着剤層28を設ける。
次に、工程(h)において、捨て電3の内の1つである線状電着5を剥離除去する。
次に、工程(i)において、感圧接着剤層24の接着力を弱めておいてから、ガイドピン27にガイド用電着6のガイド孔を差し込んで位置出しながら、指標2が付いた支持基材25をジグ26上に固定してある文字板1に押圧して、指標2を支持基材25及び感圧接着剤層24から剥離し、時計用文字板1に固着用接着剤層28を介して貼付ける。以上の工程を経ることによって指標2を形成し、そして、時計用文字板1上に指標2を貼付ける。
Next, a process until the intermediate product 120 is attached to the dial 1 will be described with reference to FIGS. 2 (e) to 2 (i).
In the step (e), the index 2 and the discarded electricity 3 are once transferred onto the film-like support base material 25 through the pressure-sensitive adhesive layer 24 made of a pressure-sensitive adhesive. The metal sheet 112 is adhered to the side of the index 2 and the discarded electric power 3 (in the drawing, only the linear electrodeposition 5 that is one of the discarded electric power 3 is shown), and the resin substrate 111 is adhered. Separate from the side.
Next, in the step (f), the metal sheet 112 is peeled and removed from the side of the index 2 and the discarded power 3 (in the figure, only the linear electrodeposition 5 which is one of the discarded power 3 is shown). To do.
Next, in the step (g), a method such as printing on the fixing surface of the index 2 and the discarded electricity 3 (in the figure, only the linear electrodeposition 5 which is one of the discarded electricity 3 is shown) The fixing adhesive layer 28 is provided.
Next, in the step (h), the linear electrodeposition 5 which is one of the discarded power 3 is peeled and removed.
Next, in step (i), after the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 24 is weakened, the guide hole of the electrodeposition guide 6 is inserted into the guide pin 27 and positioned to support the index 2 The base material 25 is pressed against the dial 1 fixed on the jig 26, the index 2 is peeled off from the support base 25 and the pressure sensitive adhesive layer 24, and the adhesive plate 28 for fixing to the timepiece dial 1. Paste through. The index 2 is formed through the above steps, and the index 2 is pasted on the timepiece dial 1.

本発明では導電性基材として、樹脂基板111の上に仮接着剤層113を介して金属シート112を貼付けている。仮接着剤層113を成す仮接着剤は、加熱等の物理化学処理を施すことにより接着力が変化する接着剤であり、指標2を支持基材25側に転写する際には樹脂基板111と金属シート112の間で剥離する。この導電性基材110を構成する樹脂基板111は、時計用指標の生産においてはリサイクルして用いるので、以下、導電性基材110の各構成部品を個々に説明していく。   In the present invention, the metal sheet 112 is pasted on the resin substrate 111 via the temporary adhesive layer 113 as the conductive base material. The temporary adhesive forming the temporary adhesive layer 113 is an adhesive whose adhesive force is changed by performing a physicochemical treatment such as heating. When the index 2 is transferred to the support base material 25 side, Peel between the metal sheets 112. Since the resin substrate 111 constituting the conductive base material 110 is recycled and used in the production of the timepiece index, each component of the conductive base material 110 will be individually described below.

樹脂基板111は導電性基材110の基板を成し、この表面に設ける薄い金属シート112を支える構造材としての機能を有する。従って、或る程度の剛性が必要である一方で、適度な柔軟性を有し剥離作業がやり易くすることが求められる。これらの要望を満たすものとしてベークライト系樹脂が適当である。   The resin substrate 111 forms a substrate of the conductive base 110 and has a function as a structural material that supports the thin metal sheet 112 provided on the surface. Therefore, while a certain degree of rigidity is required, it is required to have an appropriate flexibility and facilitate the peeling operation. A bakelite resin is suitable for satisfying these demands.

導電性基材110の表面に電鋳手法で指標2を形成する場合、電鋳メッキで形成する指標の表面に光沢を出させるため、また、後工程での剥離性を良くするため、導電性基材110の表面は導電性と同時に鏡面状態にしておく必要がある。また、指標2を支持基材25に転写する際には、指標2の位置を保持しながら指標2と一緒に転写することで指標2が飛散するのを防止する必要がある。これらの条件を実現する方法として、本発明では、金属シート112を用いた。この金属シート112は表面に金属箔を有するラミネートフィルムであり、接着剤を用いないラミネートフィルムとして2層CCL(無接着剤銅張積層板)がある。2層CCLとしては銅箔上にポリイミド前駆体溶液を塗布、乾燥硬化させるキャスティング法で生産したものを用いた(新日鐵化学株式会社のエスパネックス)。   In the case where the index 2 is formed on the surface of the conductive substrate 110 by electroforming, in order to make the surface of the index formed by electroforming plating gloss, and in order to improve the peelability in the subsequent process, the conductivity is increased. The surface of the substrate 110 needs to be in a mirror state as well as the conductivity. Further, when the index 2 is transferred to the support base 25, it is necessary to prevent the index 2 from being scattered by transferring the index 2 together with the index 2 while maintaining the position of the index 2. As a method for realizing these conditions, the metal sheet 112 is used in the present invention. This metal sheet 112 is a laminate film having a metal foil on the surface, and there is a two-layer CCL (non-adhesive copper-clad laminate) as a laminate film not using an adhesive. As the two-layer CCL, one produced by a casting method in which a polyimide precursor solution is applied on a copper foil and dried and cured (Espanex of Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was used.

仮接着剤層113に用いる接着剤等には、しっかりした接着力と同時に簡単に剥離することも求められる。これらの条件を満たすものとして、本実施形態では、粘着テープ(日東電工株式会社のリバルファ)を用いた。これは、ポリエステルフィルム基材上に粘着層を設けた熱剥離粘着テープである。粘着剤中に熱膨張性マイクロカプセルが混入されており、加熱発泡させることで粘着剤表面に凹凸を作り、被着体との接着面積を小さくする。 熱剥離温度は製品タイプによって異なるが90°C〜170°Cで加熱すれば短時間で接着力がゼロになる。   The adhesive or the like used for the temporary adhesive layer 113 is also required to be easily peeled at the same time as a firm adhesive force. In order to satisfy these conditions, an adhesive tape (Rivalfa from Nitto Denko Corporation) was used in this embodiment. This is a heat-peeling adhesive tape in which an adhesive layer is provided on a polyester film substrate. Thermally expandable microcapsules are mixed in the pressure-sensitive adhesive, and the surface of the pressure-sensitive adhesive is made uneven by heating and foaming, thereby reducing the adhesion area with the adherend. Although the thermal peeling temperature varies depending on the product type, the adhesive strength becomes zero in a short time when heated at 90 ° C. to 170 ° C.

本発明の実施形態では、導電性基材110として、上記の樹脂基板111の上に上記の仮接着剤を用いて上記の金属シート112を貼付けて構成した。この導電性基材110を用いて、図2に示した製造工程で指標2を製作した。また生産サイクルの中で金属シート112は使い捨てにするが、樹脂基板111はリサイクルして使用する。   In the embodiment of the present invention, the conductive sheet 110 is configured by pasting the metal sheet 112 on the resin substrate 111 using the temporary adhesive. Using this conductive substrate 110, the index 2 was manufactured in the manufacturing process shown in FIG. Further, the metal sheet 112 is made disposable during the production cycle, but the resin substrate 111 is recycled and used.

導電性基材110の表面は鏡面にする必要があるので、従来は、リサイクルの都度に長時間掛けてステンレス板の上に全面メッキを施していたが、本発明の製造方法を用いるとメッキ工程を廃止できる。本発明で用いる金属シート112は鏡面で、導通性が良いのでメッキがのり易く、しかも安価な市販品が容易に手に入る。また本発明に用いる樹脂基板111は、基板としての剛性が適度にあり、弾性があり剥がし易く、リサイクルの場合、不導体が付着しないのでステンレス板の時のように磨く必要がない。また一度反っても簡単に修正できる。これらの諸メリット結果、時計用指標の生産工数が削減できる。   Since the surface of the conductive substrate 110 needs to be a mirror surface, conventionally, the entire surface is plated on the stainless steel plate for a long time every recycling. However, when the manufacturing method of the present invention is used, a plating process is performed. Can be abolished. The metal sheet 112 used in the present invention is a mirror surface and has good conductivity, so that it is easy to plate and a commercially available product can be easily obtained. In addition, the resin substrate 111 used in the present invention has a moderate rigidity as a substrate, is elastic and easily peeled off, and does not need to be polished as in the case of a stainless steel plate because non-conductor does not adhere in the case of recycling. It can be easily corrected even if it warps once. As a result of these merits, it is possible to reduce the number of man-hours for producing timepiece indicators.

樹脂基板111の素材には実施形態で用いたベークライト系樹脂のほかに、アクリル系樹脂を用いてもよい。アクリル系樹脂も生産工程において剥がし易く、又、リサイクルにおいて反った基板を簡単に修正できる。   In addition to the bakelite resin used in the embodiment, an acrylic resin may be used as the material of the resin substrate 111. Acrylic resins can also be easily peeled off during the production process, and substrates that have warped during recycling can be easily corrected.

金属シート112はスパッタ・メッキ法で生産した2層CCLでもよい。また接着剤を用いた銅張りシートとして、銅箔とポリエステルフィルを張り合わせた複合材も市販されており、これも使用可能である。これらの金属シート112を用いることで、実施形態同様に、生産工程において、長時間掛かったメッキ工程を廃止し、またステンレス板のように磨く必要が無い効果が得られる。   The metal sheet 112 may be a two-layer CCL produced by a sputtering / plating method. Moreover, as a copper-clad sheet using an adhesive, a composite material in which a copper foil and a polyester film are laminated is also commercially available, and this can be used. By using these metal sheets 112, as in the embodiment, it is possible to eliminate the plating process which took a long time in the production process and to eliminate the need for polishing like a stainless steel plate.

仮接着剤層113に用いる接着剤には、実施形態で説明した粘着テープの他に、下記のような種類の接着剤を使用することも可能である。
熱硬化型接着剤;剥がす場合は、加熱を施すことで接着力を弱めることができる。
光硬化型接着剤;例えば、株式会社アーデルの光硬化型接着剤は、液状を成し、塗布後、Kシリーズは可視光や紫外線を照射することで硬化し、KMシリーズ、KRシリーズは、可視光照射や加熱処理で硬化する。剥離時には水またはエタノール水溶液から成る剥離液を用いる。錆が発生する場合は、防錆剤を添加する。
これらの接着剤も本発明の導電性基材110の構成品として仮接着の効果を発揮できる。更にまた、金属シート112を仮接着剤層113を介して樹脂基板111に貼付ける際に、金属シート112をしわ等が発生しないよう緊張状態にして貼付ける。これにより、電鋳メッキで形成する指標の形状も滑らかな表面形状に仕上げられる。
As the adhesive used for the temporary adhesive layer 113, the following types of adhesives can be used in addition to the adhesive tape described in the embodiment.
Thermosetting adhesive; When peeling off, the adhesive strength can be weakened by heating.
Photo-curable adhesive; for example, Adel Co., Ltd.'s photo-curable adhesive is in liquid form, and after application, the K series is cured by irradiation with visible light or ultraviolet light. The KM and KR series are visible. Cured by light irradiation or heat treatment. For stripping, a stripping solution made of water or an aqueous ethanol solution is used. If rust occurs, add a rust inhibitor.
These adhesives can also exhibit the effect of temporary adhesion as a component of the conductive substrate 110 of the present invention. Furthermore, when the metal sheet 112 is attached to the resin substrate 111 via the temporary adhesive layer 113, the metal sheet 112 is attached in a tensioned state so as not to cause wrinkles or the like. Thereby, the shape of the index formed by electroforming plating is also finished to a smooth surface shape.

本実施形態において、図1(a)で示した導電性基材110の断面形状と異なる形状を取る他の実施例を図1(b)に示す。図1(b)に示す実施例では、樹脂基板131の外縁部134にのみ仮接着剤層133を設けてある。樹脂基板131の外縁部134にのみ仮接着剤層133を設けた導電性基材130を用いることで、樹脂基板131と金属シート112の接着・剥離作業が一層やり易くなり、樹脂基板131の材質や、仮接着剤層133をなす接着剤の種類を選定するときの自由度が増す効果を生じる。尚、図1(b)の構成では、仮接着剤層133の収まりが良くするため、外縁部134を一段低くして、更に内側部135と外縁部134の間に溝136を設けている。この様な構成を取っても十分金属シートを緊張した状態で貼付けられる。   FIG. 1B shows another example in which the present embodiment takes a shape different from the cross-sectional shape of the conductive substrate 110 shown in FIG. In the embodiment shown in FIG. 1B, the temporary adhesive layer 133 is provided only on the outer edge portion 134 of the resin substrate 131. By using the conductive base material 130 in which the temporary adhesive layer 133 is provided only on the outer edge portion 134 of the resin substrate 131, it becomes easier to perform the bonding / peeling operation between the resin substrate 131 and the metal sheet 112. In addition, there is an effect of increasing the degree of freedom when selecting the type of adhesive forming the temporary adhesive layer 133. In the configuration of FIG. 1B, the outer edge portion 134 is lowered one step further and a groove 136 is provided between the inner side portion 135 and the outer edge portion 134 in order to improve the fit of the temporary adhesive layer 133. Even if it takes such a structure, a metal sheet can be stuck in a sufficiently tensioned state.

次に、本発明の第2実施形態に係る時計用指標の製造方法を図4〜図8を用いて説明する。ここで、図4は、本発明の第2形態における、導電性基材の表面上に指標を形成したときの平面図を示したもので、以降、第1実施形態と同様に中間製品と称して説明する。図5は本発明の指標製造方法の第2実施形態に係る製造工程を説明する工程図で、図6は図5で示した中間製品の要部断面斜視図を示したものである。   Next, a timepiece index manufacturing method according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 4 shows a plan view when an index is formed on the surface of the conductive substrate in the second embodiment of the present invention, and hereinafter referred to as an intermediate product as in the first embodiment. I will explain. FIG. 5 is a process diagram illustrating a manufacturing process according to the second embodiment of the index manufacturing method of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional perspective view of the main part of the intermediate product shown in FIG.

図4に示すように、中間製品150は、長尺状の導電性基材140に文字板複数個分の指標2と捨て電43とが並んで設けられたものから形成されている。ここでの捨て電43は、指標2を島状にして中に包み込んだような形状を持って面状に形成した面状電着45と、面状電着45を囲んで対向するようにして形成した一対のガイド用電着46とから成っているもので、面状電着45は指標に過剰電流が流れての過剰電着を防止する目的で設けている。また、この面状電着45は相隣り合う面状電着と接続しており、面状電着45の剥離工程で一度に全部の面状電着が剥離できるように作業性を改善した設計になっている。また、一対のガイド用電着46は位置決め用のガイド孔46aを設けており、文字板に指標を貼付ける時の位置決めに用いる目的で設けている。面状電着45、及びガイド電着46は指標2を文字板に貼付ける前の工程、並びに、貼付けた後の工程で捨て去る(取り去る)ものなので捨て電43と呼称する。指標2、面状電着45、及びガイド電着46は何れも電鋳メッキ手法、即ち、長時間メッキ浴液に浸漬して電解メッキ方法で形成する。メッキの厚みはメッキ時間によって任意に設定できるものではあるが、好ましくは15〜50μmの範囲が望ましい。   As shown in FIG. 4, the intermediate product 150 is formed from a long conductive base material 140 in which indicators 2 for a plurality of dials and discarded electricity 43 are provided side by side. Here, the discarded electrode 43 is formed so as to face the sheet electrodeposition 45 formed in a sheet shape with the shape of the index 2 wrapped in an island shape and surrounding the sheet electrodeposition 45. It consists of a pair of guide electrodepositions 46 formed, and the planar electrodeposition 45 is provided for the purpose of preventing excessive electrodeposition due to excess current flowing through the index. Further, the planar electrodeposition 45 is connected to adjacent planar electrodepositions, and the workability is improved so that all the planar electrodepositions can be peeled at once in the peeling process of the planar electrodeposition 45. It has become. The pair of guide electrodepositions 46 are provided with positioning guide holes 46a for the purpose of positioning when an index is attached to the dial. The sheet electrodeposition 45 and the guide electrodeposition 46 are called discard electricity 43 because they are discarded (removed) in the process before and after the index 2 is pasted on the dial. The index 2, the surface electrodeposition 45, and the guide electrodeposition 46 are all formed by an electroforming plating method, that is, an electrolytic plating method that is immersed in a plating bath solution for a long time. The thickness of the plating can be arbitrarily set depending on the plating time, but is preferably in the range of 15 to 50 μm.

ここで、導電性基材140は、非導電性シート上面に導電性薄膜を設けたものから成っている。即ち、図5(a)の工程図や図6に示したように、非導電性シート141と、この非導電性シート141上に設けた導電性薄膜142とでもって導電性基材140を構成している。非道電性シート141としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリイミドフィルムなどのように、耐熱性、耐水性、耐衝撃性、耐薬品性に強いものが好適に選択することができる。また、多少の剛性も必要とするので、厚みが100〜300μmの範囲のものを用いるのが好ましい。導電性薄膜142は導電性を有して光沢面を持った金属薄膜で、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法などで形成した薄い金属膜や、光沢のある薄い金属箔からなる金属箔膜などが選ばれる。金属膜の材料としては、ニッケル、銅、銀、金、ステンレスなどの金属材料を選択することができるが、特に、SUS304、SUS310、SUS316などのステンレス金属を用いるのが好まい。これらのステンレス材はメッキ金属との離型性が良いことから離型剤を用いないで済む。ステンレス材以外の金属の金属膜を形成した場合には離型剤を用いての離型処理を施すことが必要とされる。導電性基材140は、上述したように、樹脂フィルム上に金属薄膜を形成したものからなるので可撓性を有している。このような導電性基材140としては、SUS310の金属蒸着膜を設けた樹脂フィルム、金属箔膜をラミネートした樹脂フィルムなどが既に市販されているので、これらの市販のものを直に利用することもできる。尚、導電性薄膜142は上記した金属に限るものではない。例えば、ITO蒸着膜でも良く、導電性の有する薄膜であれば本発明の効果が十分現れるものである。   Here, the electroconductive base material 140 consists of what provided the electroconductive thin film on the nonelectroconductive sheet upper surface. That is, as shown in the process diagram of FIG. 5A and FIG. 6, the conductive base material 140 is constituted by the non-conductive sheet 141 and the conductive thin film 142 provided on the non-conductive sheet 141. doing. As the non-conductive sheet 141, a sheet having high heat resistance, water resistance, impact resistance, and chemical resistance, such as a polyethylene terephthalate film and a polyimide film, can be suitably selected. Moreover, since some rigidity is required, it is preferable to use the one having a thickness in the range of 100 to 300 μm. The conductive thin film 142 is a metal thin film having conductivity and a glossy surface. For example, a thin metal film formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, or a metal foil film made of a glossy thin metal foil is used. To be elected. As a material for the metal film, a metal material such as nickel, copper, silver, gold, and stainless steel can be selected. In particular, it is preferable to use a stainless metal such as SUS304, SUS310, and SUS316. Since these stainless materials have good releasability from the plated metal, it is not necessary to use a release agent. When a metal film of a metal other than stainless steel is formed, it is necessary to perform a mold release treatment using a mold release agent. As described above, the conductive substrate 140 is made of a resin film having a metal thin film formed thereon, and thus has flexibility. As such a conductive substrate 140, a resin film provided with a metal vapor deposition film of SUS310, a resin film laminated with a metal foil film, and the like are already on the market, and these commercially available ones should be used directly. You can also. The conductive thin film 142 is not limited to the metal described above. For example, an ITO vapor-deposited film may be used, and the effect of the present invention will be sufficiently exhibited if it is a conductive thin film.

この可撓性を有する導電性基材140を使っての指標の製造方法を図5に示す工程図を用いて説明する。
先ず、図5に示す工程(a)において、導電性基材140の表面にホトレジスト22を印刷などの方法で形成する。そして、その上から指標2像と捨て電43像を印刷や写真で作製したマスクフィルム123でおおってから、フォトレジスト22上に露光4を照射する。ここでの捨て電43の像は、前述したように、面状電着45とガイド用電着46とで構成されている像である。
次に、工程(b)において、露光後の現像を経て、フォトレジスト22の露光されなかった部分を除去する。更に、導電性基材140の導電性薄膜142をSUS304、SUS310、SUS316などのステンレス金属以外の金属材料で形成した場合には、露出部(フォトレジスト22被覆の無い部分)に酸化クロムの離型剤塗布による離型処理を施す。尚、前述したように、導電性基材140にSUS304、SUS310、SUS316などのステンレス金属薄膜を形成したものを用いた場合は離型処理を施さなくても良い。
次に、工程(c)において、電鋳メッキ法を用いてニッケルメッキなどを施し、メッキ金属からなる指標2と捨て電43を形成する(工程図中においては、面状電着45の捨て電のみを示してある)。ここで、導電性基材140が可撓性などを有することから、導電性基材140を緊張した状態にしてメッキを行う。メッキ方法は図7に示す方法で行うが、このメッキ方法は後から詳しく説明する。
次に、工程(d)において、続いて剥離液に浸漬して露光されたフォトレジスト22を除去する。
以上の工程を経ると、図4、並びに、図6に示した導電性基材140の上にメッキ金属からなる指標2と捨て電43が形成された中間製品150を得る。
A method for manufacturing an index using the flexible conductive substrate 140 will be described with reference to the process chart shown in FIG.
First, in step (a) shown in FIG. 5, a photoresist 22 is formed on the surface of the conductive substrate 140 by a method such as printing. Then, the index 2 image and the discarded electric power 43 image are covered with a mask film 123 produced by printing or photography from above, and then exposure 4 is irradiated onto the photoresist 22. Here, the image of the discarded power 43 is an image composed of the planar electrodeposition 45 and the guide electrodeposition 46 as described above.
Next, in step (b), the unexposed portion of the photoresist 22 is removed through development after exposure. Further, when the conductive thin film 142 of the conductive substrate 140 is formed of a metal material other than stainless steel such as SUS304, SUS310, or SUS316, the release of chromium oxide on the exposed portion (portion where the photoresist 22 is not covered). A mold release process is performed by applying an agent. As described above, when the conductive base material 140 is formed with a stainless metal thin film such as SUS304, SUS310, or SUS316, the mold release process may not be performed.
Next, in step (c), nickel plating or the like is performed using an electroforming plating method to form the indicator 2 made of plated metal and the discarding electrode 43 (in the process diagram, the discarding electricity of the planar electrodeposition 45 is formed. Only shown). Here, since the conductive base material 140 has flexibility and the like, plating is performed with the conductive base material 140 in a tensioned state. The plating method is performed by the method shown in FIG. 7, and this plating method will be described in detail later.
Next, in the step (d), the exposed photoresist 22 is subsequently removed by immersion in a stripping solution.
Through the above steps, an intermediate product 150 is obtained in which the indicator 2 made of plated metal and the discarded electricity 43 are formed on the conductive substrate 140 shown in FIGS. 4 and 6.

次に、この中間製品150を文字板1に取付ける迄の工程を、図5(e)〜図2(i)を用いて説明する。
工程(e)において、指標2及び捨て電43(工程図中においては、面状電着45の捨て電のみを示してある)の上面に、感圧接着剤から成る感圧接着剤層24を設けたフィルム状の支持基材25を貼付ける。
そして、工程(f)において、指標2、及び捨て電43(工程図中においては、面状電着45の捨て電のみを示してある)から導電性基材140を剥がす。
次に、工程(g)において、指標2及び面状電着45の固着面に印刷などの方法で固定用接着剤層28を設ける。
次に、工程(h)において、捨て電43の1つである面状電着45を剥離除去する。
次に、工程(i)において、感圧接着剤層24の接着力を弱めておいてから、ガイドピン27にガイド用電着46のガイド孔を差し込んで位置出しながら、指標2が付いた支持基材25をジグ26上に固定してある文字板1に押圧して、指標2を支持基材25及び感圧接着剤層24から剥離し、時計用文字板1に固着用接着剤層28を介して貼付ける。
以上の工程を経ることによって指標2を形成し、そして、時計用文字板1上に指標2を貼付ける。
Next, a process until the intermediate product 150 is attached to the dial 1 will be described with reference to FIGS. 5 (e) to 2 (i).
In the step (e), the pressure sensitive adhesive layer 24 made of a pressure sensitive adhesive is formed on the upper surface of the index 2 and the waste electricity 43 (in the process diagram, only the waste electricity of the surface electrodeposition 45 is shown). The provided film-like support base material 25 is affixed.
Then, in the step (f), the conductive substrate 140 is peeled off from the index 2 and the discarded electricity 43 (in the process diagram, only the discarded electricity of the planar electrodeposition 45 is shown).
Next, in the step (g), the fixing adhesive layer 28 is provided on the fixing surface of the index 2 and the surface electrodeposition 45 by a method such as printing.
Next, in the step (h), the planar electrodeposition 45, which is one of the discarded electricity 43, is peeled and removed.
Next, in step (i), after the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 24 is weakened, the guide hole of the guide electrodeposition 46 is inserted into the guide pin 27 and positioned to support the index 2 The base material 25 is pressed against the dial 1 fixed on the jig 26, the index 2 is peeled off from the support base 25 and the pressure sensitive adhesive layer 24, and the adhesive plate 28 for fixing to the timepiece dial 1. Paste through.
The index 2 is formed through the above steps, and the index 2 is pasted on the timepiece dial 1.

図7は図5の工程(c)における電鋳メッキを行う時の説明図を示したものである。導電性基材140は可撓性を有しているので、電着膜を作るとメッキ応力(約6〜10g/mm)が発生して電着膜が凸状に反る現象が起きる。このことにより、電着で形成した指標は凸状の反りが発生し、文字板に貼付けたときに接着強度不足などが起きて剥がれ易くなる。この凸状の反りを発生させないために導電性基材140に張力をかけて緊張状態にしてメッキを行う必要がある。本実施形態における電鋳メッキ方法は、図7に示すように、メッキ浴槽200の上に長尺の導電性基材140を配置し、導電性基材140の両側を支持ローラ221で支えると共に、導電性基材140の両端に張力Qをかけて緊張させる。そして、一定の距離を保って設けた2個の押圧ローラ220でもって導電性基材140を上方から押圧してメッキ浴層200のメッキ浴液210の中に入れて更に導電性基材140を緊張させ。押圧ローラ220にかける圧力Pと導電性基材140の両端にかける引張力Qは、導電性基材140が程良い緊張が得られるようそれぞれ調整した力に設定している。そして、この緊張させた状態で長時間かけて電鋳メッキを行う。所定の時間メッキを施して所定の厚みが得られれば、2個の押圧ローラ220を上方に持ち上げて、導電性基材140をメッキ浴液210から外に出し、導電性基材140の片方を引っ張って位置をずらす。 FIG. 7 shows an explanatory diagram when performing electroforming plating in the step (c) of FIG. Since the conductive base material 140 has flexibility, when an electrodeposition film is formed, a plating stress (about 6 to 10 g / mm 2 ) is generated and the electrodeposition film warps in a convex shape. As a result, the index formed by electrodeposition is convexly warped, and when attached to the dial, the adhesive strength is insufficient and the index is easily peeled off. In order not to generate the convex warp, it is necessary to apply a tension to the conductive substrate 140 to perform plating. In the electroforming plating method according to the present embodiment, as shown in FIG. 7, a long conductive base material 140 is disposed on the plating bath 200 and both sides of the conductive base material 140 are supported by support rollers 221. Tension Q is applied to both ends of the conductive substrate 140 to cause tension. Then, the conductive base material 140 is pressed from above with two pressing rollers 220 provided at a constant distance and placed in the plating bath liquid 210 of the plating bath layer 200, and the conductive base material 140 is further removed. Tension. The pressure P applied to the pressure roller 220 and the tensile force Q applied to both ends of the conductive base material 140 are set to forces adjusted so that the conductive base material 140 can obtain a proper tension. Then, electroforming plating is performed over a long time in this tensioned state. When plating is performed for a predetermined time and a predetermined thickness is obtained, the two pressing rollers 220 are lifted upward, the conductive base material 140 is taken out of the plating bath liquid 210, and one side of the conductive base material 140 is removed. Pull to shift the position.

ここで、2個の押圧ローラ220はメッキが付着しないプラスチック材料で製作し、自在に回動する構造にしてあり、また、ローラ220の表面は導電性基材140に傷が付かないようにするために滑らかな面に仕上げている。また、ローラ220の表面にゴムなどをコーティングしても良い。この2個の押圧ローラ220の配設位置は、図4で示した中間製品の並んでいる製品の製品と製品の間に当たる位置に来るように配設する。また、面状電着45は並んでいる製品全部に接続している。従って、ローラ220の面状電着45の接続部位に当たる部位に切込みの溝を設けいる。この溝を設けることで面状電着45の接続部位に電着メッキが付着できるようにしている。2個の支持ローラ221も、自在に回動できる構造にしてあり、ローラ220の表面は導電性基材140に傷が付かないようにするために滑らかな面に仕上げてある。   Here, the two pressing rollers 220 are made of a plastic material to which plating does not adhere, and are configured to freely rotate, and the surface of the roller 220 prevents the conductive base material 140 from being damaged. In order to achieve a smooth surface. The surface of the roller 220 may be coated with rubber or the like. The two pressing rollers 220 are arranged so as to come to a position where the intermediate products shown in FIG. 4 are in contact with each other. Further, the planar electrodeposition 45 is connected to all the products in line. Accordingly, a notch groove is provided at a portion corresponding to the connection portion of the planar electrodeposition 45 of the roller 220. By providing this groove, the electrodeposition plating can be attached to the connection portion of the planar electrodeposition 45. The two support rollers 221 are also configured to be freely rotatable, and the surface of the roller 220 is finished to be a smooth surface so that the conductive substrate 140 is not damaged.

上記のような方法で電鋳メッキを行うと、導電性基材140が緊張した状態でメッキが施されることから、メッキ応力が発生してもそれをうち消して、変形のない形状の整った電着膜が形成される。このようにして、導電性基材140の導電性薄膜142上に指標2と捨て電43を電鋳メッキにて形成する。指標2と捨て電43の厚みは、好ましくは15〜50μmの範囲に設定されるが、導電性薄膜142の表面が光沢面になっていると指標2及び捨て電43の表面も光沢面になって仕上がる。指標2に光沢感が現れると文字板自体に高級感が現れてくる。   When electroforming plating is performed by the above method, plating is performed in a state where the conductive base material 140 is in tension. Therefore, even if plating stress is generated, it is erased and the shape without deformation is prepared. An electrodeposition film is formed. In this manner, the indicator 2 and the discarding electric power 43 are formed on the conductive thin film 142 of the conductive base material 140 by electroforming plating. The thicknesses of the index 2 and the discarded electricity 43 are preferably set in a range of 15 to 50 μm. However, when the surface of the conductive thin film 142 is a glossy surface, the surface of the index 2 and the discarded electricity 43 is also a glossy surface. Finished. When glossiness appears in index 2, a high-class appearance appears on the dial itself.

電鋳メッキとしては、一般に、ニッケルメッキや銅メッキなどが選ばれる。ニッケルの電鋳メッキをした後にフラッシュ程度の厚みの金メッキを施して指標2を仕上げると、指標2に貴金属感が現れる。   As electroforming plating, nickel plating or copper plating is generally selected. When index 2 is finished by applying gold plating with a thickness of about flash after electroforming plating of nickel, a feeling of precious metal appears in index 2.

尚、導電性基材140を緊張させる方法は図7に示した方法に限るものではない。例えは、図8に示すものは他の方法を示したものである。図8に示す緊張方法は緊張枠300を用いる方法で、プラスチックからなる緊張枠300を導電性基材140の上下に配置し、導電性基材140を四方或いは八方に引張力をかけて緊張させ、緊張させた状態で上下の緊張枠300でしっかりと挟持して固定する方法である。このように、緊張枠300で緊張させた状態で電鋳メッキを行っても、図7に示した方法で得た指標と同じ形状の指標が得られる。   Note that the method of tensioning the conductive substrate 140 is not limited to the method shown in FIG. For example, what is shown in FIG. 8 shows another method. The tension method shown in FIG. 8 is a method using a tension frame 300. The tension frames 300 made of plastic are arranged above and below the conductive base material 140, and the conductive base material 140 is tensioned by applying a tensile force in four or eight directions. In this state, the upper and lower tension frames 300 are firmly clamped and fixed in a tensioned state. As described above, even when electroforming plating is performed in a state of being tensioned by the tension frame 300, an index having the same shape as the index obtained by the method shown in FIG. 7 is obtained.

以上述べた本発明の第2実施形態にあっては、第1実施形態で用いた樹脂基板、或いは、背景技術で用いた金属基板なるものは全く使用しない。従って、樹脂基板や金属基板の剥離工程を設ける必要もなく、工程短縮による製造コストの低減効果を生むと共に、樹脂基板や金属基板の製作コストも要らない。また、導電性基材に市販品のものを直接利用するすることもできるので、手番短縮にも効果を生む。   In the second embodiment of the present invention described above, the resin substrate used in the first embodiment or the metal substrate used in the background art is not used at all. Therefore, it is not necessary to provide a resin substrate or metal substrate peeling step, and the manufacturing cost can be reduced by shortening the process, and the manufacturing cost of the resin substrate or metal substrate is not required. Moreover, since a commercially available thing can also be directly used for a conductive base material, it produces an effect also in time reduction.

これまで説明してきた時計用指標製造方法の産業上の利用可能性は、時計用指標に限るものではない。本発明は、基本的には或る一定量まとまって生産し、指標を用いる産業用、民生用のあらゆる機器計測器等においても全く同様にその効果を発揮する。   The industrial applicability of the watch index manufacturing method described so far is not limited to the watch index. The present invention is basically produced in a certain amount and exhibits the same effect in all industrial and consumer instrument measuring instruments using indicators.

図1(a)は本発明の第1実施形態に係る指標製造方法に用いる導電性基材の1実施例の断面図、図1(b)は他の実施例の断面図である。Fig.1 (a) is sectional drawing of 1 Example of the electroconductive base material used for the parameter | index manufacturing method concerning 1st Embodiment of this invention, FIG.1 (b) is sectional drawing of another Example. 本発明の第1実施形態に係る指標製造方法における製造工程図である。It is a manufacturing-process figure in the parameter | index manufacturing method which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図2の工程(d)における中間製品の要部断面斜視図である。It is a principal part cross-sectional perspective view of the intermediate product in the process (d) of FIG. 本発明の第2形態における導電性基材の表面上に指標を形成したときの平面図である。It is a top view when a parameter | index is formed on the surface of the electroconductive base material in the 2nd form of this invention. 本発明の指標製造方法の第2実施形態に係る製造工程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing process which concerns on 2nd Embodiment of the parameter | index manufacturing method of this invention. 図5の工程(d)における中間製品の要部断面斜視図である。It is a principal part cross-sectional perspective view of the intermediate product in the process (d) of FIG. 図5の工程(c)における電鋳メッキを行う時の説明図である。It is explanatory drawing when performing electroforming plating in the process (c) of FIG. 導電性基材を緊張させる方法の他の方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other method of the method of tensioning an electroconductive base material. 背景技術における指標付き時計用文字板の斜視図である。It is a perspective view of the dial for timepieces with an index in the background art. 背景技術で導電性基材の表面上に指標を形成したときの平面図である。It is a top view when a parameter | index is formed on the surface of an electroconductive base material by background art. 背景技術の電鋳手法に用いる導電性基材の断面図である。It is sectional drawing of the electroconductive base material used for the electroforming method of background art. 背景技術の電鋳手法で指標を形成するときの製造工程図である。It is a manufacturing process figure when forming a parameter | index with the electroforming technique of background art. 図12の工程(d)における図10矢視A−A断面での斜視図である。It is a perspective view in the AA cross section of FIG. 10 in the process (d) of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 文字板
2 指標
3、43 捨て電
5 線状電着
6、46 ガイド用電着
22 ホトレジスト
23、123 マスクフィルム
24 感圧接着剤層
25 支持基材
28 固着用接着剤層
45 面状電着
110、130、140 導電性基材
111 樹脂基板
112 金属シート
113 仮接着剤層
141 非導電性シート
142 導電性薄膜
120、150 中間製品
200 メッキ浴槽
210 メッキ浴液
220 押圧ローラ
221 支持ローラ
300 緊張枠
1 Dial 2 Indexes 3 and 43 Discarded electricity 5 Linear electrodeposition 6 and 46 Electrodeposition for guide 22 Photoresist 23 and 123 Mask film 24 Pressure sensitive adhesive layer
25 Support base material 28 Adhesive layer 45 for fixing Planar electrodeposition 110, 130, 140 Conductive base material 111 Resin substrate
112 Metal sheet 113 Temporary adhesive layer 141 Non-conductive sheet 142 Conductive thin film 120, 150 Intermediate product 200 Plating bath 210 Plating bath liquid 220 Press roller 221 Support roller 300 Tension frame

Claims (10)

導電性基材の表面に電鋳メッキ手法で指標を形成し、感圧接着剤層を設けてある支持基材の感圧接着剤層に前記指標を剥離転写し、更に該指標の裏面側に固着用接着剤層を形成し、前記指標を支持基材から剥離しながら固着用接着剤層を介して時計用文字板に貼付ける時計用指標の製造方法において、前記導電性基材は金属シートを樹脂基板上に仮接着剤層を介して貼り合せて構成し、前記樹脂基板は前記金属シートを剥離後にリサイクルして使用することを特徴とする時計用指標の製造方法。 An indicator is formed on the surface of the conductive substrate by electroforming plating method, and the indicator is peeled and transferred to the pressure-sensitive adhesive layer of the supporting substrate on which the pressure-sensitive adhesive layer is provided. In the manufacturing method of a clock indicator, which is formed on a timepiece dial through the fixing adhesive layer while forming the adhesive layer for fixing and peeling the indicator from the supporting base material, the conductive base material is a metal sheet A method for producing an indicator for a watch, wherein the resin substrate is used by recycling the metal sheet after peeling off the metal sheet. 前記金属シートが無接着剤銅張積層板(2層CCL)、または銅箔とポリエステルフィルを張り合わせた複合材からなることを特徴とする請求項1に記載の時計用指標の製造方法。 The method for producing an indicator for a timepiece according to claim 1, wherein the metal sheet is made of a non-adhesive copper-clad laminate (two-layer CCL) or a composite material obtained by bonding a copper foil and a polyester fill. 前記樹脂基板はベークライト系樹脂、またはアクリル系樹脂からなることを特徴とする請求項1又は2に記載の記載の時計用指標の製造方法。 The timepiece index manufacturing method according to claim 1, wherein the resin substrate is made of a bakelite resin or an acrylic resin. 前記仮接着剤層は光硬化型接着剤、または熱硬化型接着剤、熱剥離粘着材からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の時計用指標の製造方法。 4. The timepiece index manufacturing method according to claim 1, wherein the temporary adhesive layer is made of a photo-curing adhesive, a thermosetting adhesive, or a heat-peeling adhesive. 5. 前記仮接着剤層は前記樹脂基板の上面全面又は上面外縁部に設けたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の時計用指標の製造方法。 5. The timepiece index manufacturing method according to claim 1, wherein the temporary adhesive layer is provided on the entire upper surface or the outer edge of the upper surface of the resin substrate. 導電性基材の表面に電鋳メッキ手法で指標を形成し、感圧接着剤層を設けてある支持基材の感圧接着剤層に前記指標を剥離転写し、更に該指標の裏面側に固着用接着剤層を形成し、前記指標を支持基材から剥離しながら固着用接着剤層を介して時計用文字板に貼付ける時計用指標の製造方法において、前記導電性基材は導電性薄膜を形成した非導電性シートで構成すると共に、該導電性基材を緊張の下でメッキ浴液層に浸漬して電鋳メッキ手法で前記導電性薄膜上に指標を形成したことを特徴とする時計用指標の製造方法。 An indicator is formed on the surface of the conductive substrate by electroforming plating method, and the indicator is peeled and transferred to the pressure-sensitive adhesive layer of the supporting substrate on which the pressure-sensitive adhesive layer is provided. In the method for manufacturing a timepiece indicator, which is formed by fixing an adhesive layer for adhesion and affixing to the timepiece dial via the adhesive layer for adhesion while peeling off the indicator from the supporting base material, the conductive base material is electrically conductive It is composed of a non-conductive sheet having a thin film formed thereon, and the conductive substrate is immersed in a plating bath liquid layer under tension, and an indicator is formed on the conductive thin film by an electroforming plating method. A method for manufacturing an indicator for a watch. 前記導電性基材の緊張は、前記導電性基材を四方から引っ張った状態で緊張枠に固定することによって緊張の状態にしたことを特徴とする請求項6に記載の時計用指標の製造方法。 The method for producing a timepiece index according to claim 6, wherein the tension of the conductive base material is set to a tension state by fixing the conductive base material to a tension frame in a state where the conductive base material is pulled from four directions. . 前記導電性基材の緊張は、前記帯状の導電性基材の両端を支えながら、一定の距離を持たせた2つのローラで前記導電性基材に加圧することによって緊張の状態にしたことを特徴とする請求項6に記載の時計用指標の製造方法。 The tension of the conductive base material was determined by pressing the conductive base material with two rollers having a certain distance while supporting both ends of the belt-shaped conductive base material. The method for manufacturing a timepiece index according to claim 6. 前記導電性薄膜は光沢面をなしていることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の時計用指標の製造方法。 9. The timepiece index manufacturing method according to claim 6, wherein the conductive thin film has a glossy surface. 前記導電性薄膜はステンレス金属からなることを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項に記載の時計用指標の製造方法。 The method for manufacturing a timepiece index according to claim 6, wherein the conductive thin film is made of stainless metal.
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CN107219747A (en) * 2015-11-11 2017-09-29 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司 The manufacture method of Metal Substrate part with least one optical illusion pattern

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