JP2005294485A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】 電流狭窄構造が隣接層に加える応力を低減できる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体発光素子10は、例えばn型GaAs基板1上に設けられたp型半導体層2とn型半導体層4とを備える。p型半導体層2とn型半導体層4との間には、活性層5と、酸素元素が添加された半導体からなる電流閉じ込め層9とが設けられている。電流閉じ込め層9は、活性層5に電流を閉じ込めるために設けられており、開口9hを有している。開口9hには、p型半導体層11が設けられている。酸素元素が添加された半導体からなる層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。よって、半導体発光素子10の電流狭窄構造では、電流閉じ込め層9が活性層5及びp型半導体層2といった隣接層に加える応力を低減できる。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明の半導体発光素子10は、例えばn型GaAs基板1上に設けられたp型半導体層2とn型半導体層4とを備える。p型半導体層2とn型半導体層4との間には、活性層5と、酸素元素が添加された半導体からなる電流閉じ込め層9とが設けられている。電流閉じ込め層9は、活性層5に電流を閉じ込めるために設けられており、開口9hを有している。開口9hには、p型半導体層11が設けられている。酸素元素が添加された半導体からなる層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。よって、半導体発光素子10の電流狭窄構造では、電流閉じ込め層9が活性層5及びp型半導体層2といった隣接層に加える応力を低減できる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体発光素子に関する。
特許文献1には、垂直共振器型の面発光半導体レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)が記載されている。この面発光半導体レーザは、断面が円形をしたビーム光を発生できる。これに加えて、単一基板上にアレイ状に配列された複数の発光素子によって、集積半導体光デバイスが構成される。
面発光半導体レーザは、GaAs基板上に設けられた下部ミラー及び上部ミラーを有している。下部ミラーと上部ミラーとの間には活性層が設けられている。上部ミラー及び下部ミラーの各々は、交互に配列されたAlAs層及びGaAs層を有しており、分布ブラッグ反射器(DBR:Distributed Bragg Reflector)として機能する。
上述の面発光半導体レーザでは、AlAs層の一部を選択的に酸化することにより形成されたAlxOy層が電流狭窄構造を形成している。このAlxOy層によって電流が活性層に閉じ込められる。
特開平10−125999号公報
ここで、AlxOy層とGaAs層との間の応力は、AlAs層とGaAs層との間の応力よりも大きい。このため、上記面発光半導体レーザでは、AlxOy層とGaAs層との間の応力により、これらの密着性が低下するおそれがある。
そこで本発明は、電流狭窄構造が隣接層に加える応力を低減できる半導体発光素子を提供することを目的とする。
上述の課題を解決するため、本発明の半導体発光素子は、第1導電型半導体層と、第2導電型半導体層と、第1導電型半導体層と第2導電型半導体層との間に設けられた活性層と、第1導電型半導体層と第2導電型半導体層との間に設けられており、酸素元素が添加された半導体からなり前記活性層に電流を閉じ込める電流閉じ込め層と、を備える。
この半導体発光素子では、酸素元素を半導体に添加することにより、高抵抗の電流閉じ込め層が形成される。このような電流閉じ込め層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。よって、この半導体発光素子の電流狭窄構造では、電流閉じ込め層が隣接層に加える応力を低減できる。
また、本発明の半導体発光素子は、交互に配列された第1DBR半導体層及び第2DBR半導体層を含む第1DBR部と、交互に配列された第3DBR半導体層及び第4DBR半導体層を含む第2DBR部と、第1DBR部と第2DBR部との間に設けられた活性層と、第1DBR部と活性層との間に設けられており、酸素元素が添加された半導体からなる層と、を備える。
この半導体発光素子は、酸素元素が添加された半導体からなり高抵抗の層を有している。酸素元素が添加された半導体からなる層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。よって、この半導体発光素子の電流狭窄構造では、酸素元素が添加された半導体からなる層が隣接層に加える応力を低減できる。
また、本発明の半導体発光素子は、交互に配列された第1DBR半導体層及び第2DBR半導体層を含む第1DBR部と、交互に配列された第3DBR半導体層及び第4DBR半導体層を含む第2DBR部と、第1DBR部と第2DBR部との間に設けられた活性層と、第1DBR部は、酸素元素が添加された半導体からなる層を含んでおり、酸素元素が添加された半導体からなる層は開口を有しており、第1DBR半導体層の少なくとも一層は、酸素元素が添加された半導体からなる層の開口に設けられている。
この半導体発光素子は、酸素元素が添加された半導体からなり高抵抗の層を有している。酸素元素が添加された半導体からなる層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。よって、この半導体発光素子の電流狭窄構造では、酸素元素が添加された半導体からなる層が隣接層に加える応力を低減できる。
また、第2DBR半導体層の少なくとも一層は、酸素元素が添加された半導体からなる層の開口に設けられていると好ましい。
また、本発明の半導体発光素子は、交互に配列された第1DBR半導体層及び第2DBR半導体層を含む第1DBR部と、交互に配列された第3DBR半導体層及び第4DBR半導体層を含む第2DBR部と、第1DBR部と第2DBR部との間に設けられた活性層と、活性層の側面上に設けられており、酸素元素が添加された半導体からなる層と、を備える。
この半導体発光素子は、酸素元素が添加された半導体からなり高抵抗の層を有している。酸素元素が添加された半導体からなる層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。よって、この半導体発光素子の電流狭窄構造では、酸素元素が添加された半導体からなる層が隣接層に加える応力を低減できる。
また、活性層に電流狭窄構造が形成されているので、電流狭窄機能が向上する。
また、酸素元素が添加された半導体からなる層は、AlAs、AlGaAs、AlInP及びAlGaInPのうち少なくとも一つの半導体材料からなると好ましい。
この場合、酸素元素が添加された半導体からなる層を構成する半導体材料にAlが含まれているので、当該層の酸素濃度を高くすることができる。
また、酸素元素が添加された半導体からなる層の酸素濃度は、5×1015cm−3以上であると好ましい。
この場合、酸素元素が添加された半導体からなる層は、電流閉じ込め層として好適に機能する抵抗を有する。
本発明によれば、電流狭窄構造が隣接層に加える応力を低減できる半導体発光素子を提供することができる。
以下、図面とともに本発明の実施形態に係る半導体発光素子について説明する。なお、図面の説明においては、同一又は同等の要素には同一符号を用い、重複する説明を省略する。
(第1実施形態)
図1(A)及び図1(B)は、第1実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図1(A)には、半導体発光素子10が示されている。半導体発光素子10は、例えばn型GaAs基板1上に設けられたp型半導体層2といった第1導電型半導体層と、n型半導体層4といった第2導電型半導体層とを備える。p型半導体層2とn型半導体層4との間には、活性層5及び高抵抗の電流閉じ込め層9が設けられている。p型半導体層2上にはp型電極15が設けられており、n型GaAs基板1の裏面にはn型電極17が設けられている。
図1(A)及び図1(B)は、第1実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図1(A)には、半導体発光素子10が示されている。半導体発光素子10は、例えばn型GaAs基板1上に設けられたp型半導体層2といった第1導電型半導体層と、n型半導体層4といった第2導電型半導体層とを備える。p型半導体層2とn型半導体層4との間には、活性層5及び高抵抗の電流閉じ込め層9が設けられている。p型半導体層2上にはp型電極15が設けられており、n型GaAs基板1の裏面にはn型電極17が設けられている。
電流閉じ込め層9は、酸素元素が添加された半導体からなり、活性層5に電流を閉じ込めるために設けられている。電流閉じ込め層9は開口9hを有しており、この開口9hにはp型半導体層11が設けられている。電流は、このp型半導体層11を流れる。
酸素元素が添加された半導体からなる層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。よって、半導体発光素子10の電流狭窄構造では、電流閉じ込め層9が活性層5及びp型半導体層2といった隣接層に加える応力を低減できる。
図1(B)には、半導体発光素子10aが示されている。半導体発光素子10aは、例えばn型GaAs基板1上に設けられたp型半導体層2と、n型半導体層4とを備える。p型半導体層2とn型半導体層4との間には、活性層5A及び高抵抗の電流閉じ込め層9Aが設けられている。p型半導体層2上にはp型電極15が設けられており、n型GaAs基板1の裏面にはn型電極17が設けられている。
電流閉じ込め層9Aは、酸素元素が添加された半導体からなり、活性層5に電流を閉じ込めるために設けられている。電流閉じ込め層9Aは開口9Ahを有しており、この開口9Ahには活性層5Aが設けられている。すなわち、電流閉じ込め層9Aは活性層5Aの側面上に設けられている。
半導体発光素子10aの電流狭窄構造では、電流閉じ込め層9Aがp型半導体層2及びn型半導体層4といった隣接層に加える応力を低減できる。
また、半導体発光素子10,10aの静電容量は、電流狭窄構造としてpn接合埋め込み構造を有する半導体発光素子の静電容量よりも小さくなる。このため、半導体発光素子10,10aは高速動作に適している。このような半導体発光素子10,10aとしては、面発光半導体レーザ素子、半導体光増幅素子、光変調器、端面発光型半導体レーザ等が挙げられる。
(第2実施形態)
図2は、第2実施形態に係る半導体発光素子を示す斜視図である。図3は、図2に示されたIII−III線に沿った断面図である。
図2は、第2実施形態に係る半導体発光素子を示す斜視図である。図3は、図2に示されたIII−III線に沿った断面図である。
図2及び図3には、面発光半導体レーザ素子100が示されている。面発光半導体レーザ素子100は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部7を備える。下部DBR部3と上部DBR部7との間には、活性層5が設けられている。
活性層5と下部DBR部3との間には、第1AlGaAs層25が設けられていると好ましく、活性層5と上部DBR部7との間には、第2AlGaAs層27が設けられていると好ましい。第1AlGaAs層25、活性層5及び第2AlGaAs層27によって、λ共振器が構成される。
上部DBR部7と活性層5との間には、酸素元素が添加された半導体からなり、高抵抗の電流閉じ込め層9が設けられている。電流閉じ込め層9は電流を閉じ込めるために設けられており、これにより電流狭窄構造が得られる。また、電流閉じ込め層9は開口9hを有しており、その開口9hにはp型半導体層11が設けられている。電流は、このp型半導体層11を流れる。一実施例では、第2AlGaAs層27上に電流閉じ込め層9及びp型半導体層11が設けられている。
電流閉じ込め層9は、Alを含むIII−V族化合物半導体からなると好ましい。例えば、電流閉じ込め層9は、AlAs、AlGaAs、AlInP及びAlGaInPのうち少なくとも一つの半導体材料からなると更に好ましい。この場合、電流閉じ込め層9を構成する材料にAlが含まれているので、電流閉じ込め層9の酸素濃度を高くすることができる。Alの組成比が大きいと酸素元素が半導体材料中に添加され易くなるが、Alの組成比は電流閉じ込め層9の結晶性を損なわない程度であると好ましい。
また、電流閉じ込め層9の酸素濃度は、5×1015cm−3以上であると好ましい。電流閉じ込め層9の酸素濃度が大きくなると、電流閉じ込め層9の抵抗率も大きくなる。よって、電流閉じ込め層9の酸素濃度が5×1015cm−3以上であると、電流閉じ込め層9は電流狭窄構造として好適に機能する。また、電流閉じ込め層9の酸素濃度は、電流閉じ込め層9の結晶性を損なわない程度であると好ましく、1×1019cm−3以下であると好ましい。
電流閉じ込め層9の厚さは、発光波長λ及び酸素元素が添加されたAlGaAsの実効屈折率nr8を用いて表すとき、λ/4nr8であることが好ましい。この場合、電流閉じ込め層9がDBR部の一部を構成することができる。また、電流閉じ込め層9の厚さが厚いと、電流閉じ込め層9の抵抗率が大きくなる。一方、電流閉じ込め層9の厚さが薄いと、電流閉じ込め層9の表面平坦性が向上する。
上述のように、電流閉じ込め層9の抵抗率は、Alの組成比、酸素濃度及び層の厚さに依存する。
電流閉じ込め層9の開口9hの形状は、例えば5μm×5μmの矩形、直径5μmの円形等であると好ましい。電流閉じ込め層9は選択酸化プロセスにより形成されておらず、フォトリソグラフィー技術を用いて形成されているので、開口9hの形状及びサイズは高精度に制御されている。
p型半導体層11は開口9hに埋め込まれており、例えばp型AlGaAsからなる。p型半導体層11の厚さは、発光波長λ及びp型AlGaAsの実効屈折率nr3を用いて表すとき、λ/4nr3であることが好ましい。この場合、p型半導体層11がDBR部の一部を構成することができる。
電流閉じ込め層9と上部DBR部7との間には、p型GaAs層13が設けられていると好ましい。p型GaAs層13の厚さは、発光波長λ及びp型GaAsの実効屈折率nr4を用いて表すとき、λ/4nr4であることが好ましい。p型GaAs層13の表面は、第1領域12と第1領域12を取り囲む第2領域14とを有している。第1領域12上には上部DBR部7が設けられており、第2領域14上にはp型電極15が設けられていると好ましい。上部DBR部7と活性層5との間にはp型半導体層11が位置する。また、n型GaAs基板1の裏面には、n型電極17が設けられている。p型電極15及びn型電極17に電圧を印加すると、活性層5に電流が供給される。これにより、レーザ光L1が上部DBR部7を透過して外部に放出される。
活性層5は、例えば、多重量子井戸構造(MQW)又は単一量子井戸構造(SQW)等の量子井戸構造(QW)を有する。活性層5は、例えば、GaInNAs層及びGaAs層からなる量子井戸構造、InGaAs層及びGaAs層からなる量子井戸構造等を有するとしてもよく、好適にはGaInNAs層及びGaAs層からなる多重量子井戸構造を有する。
上部DBR部7は、GaAs層31といった第1DBR半導体層とAlGaAs層33といった第2DBR半導体層とを有する。一実施例では、例えば、25層のAlGaAs層33と、25層のGaAs層31とが交互に積層される。上部DBR部7の最上層はGaAs層31であり、最下層はAlGaAs層33である。
GaAs層31は、例えばノンドープGaAsからなる。GaAs層31の厚さは、発光波長λ及びGaAsの実効屈折率nr6を用いて表すとき、λ/4nr6であることが好ましい。AlGaAs層33は、例えばノンドープAlGaAsからなる。AlGaAs層33の厚さは、発光波長λ及びAlGaAsの実効屈折率nr7を用いて表すとき、λ/4nr7であることが好ましい。
下部DBR部3は、n型AlGaAs層19といった第3DBR半導体層とn型GaAs層21といった第4DBR半導体層とが交互に配列されている。n型AlGaAs層19は、例えばSiドープされている。n型GaAs層21は、例えばSiドープされている。一実施例では、例えば、23層のn型AlGaAs層19と、22層のn型GaAs層21とが交互に積層される。下部DBR部3の最上層及び最下層はn型AlGaAs層19となる。n型AlGaAs層19及びn型GaAs層21からなるペアが22ペア形成され、さらにn型AlGaAs層19が1層形成される。
n型AlGaAs層19の厚さは、発光波長λ及びn型AlGaAsの実効屈折率nr1を用いて表すとき、λ/4nr1であることが好ましい。n型GaAs層21の厚さは、発光波長をλ、n型GaAsの実効屈折率をnr2としたときに、λ/4nr2であることが好ましい。
以上説明したように、面発光半導体レーザ素子100の電流狭窄構造では、酸素元素が添加された半導体からなる電流閉じ込め層9が形成されている。酸素元素が添加された半導体からなる層と半導体層との間の応力は、酸化物層と半導体層との間の応力に比べて小さい。よって、面発光半導体レーザ素子100では、電流閉じ込め層9が、例えば第2AlGaAs層27及びp型GaAs層13等の隣接層に加える応力を低減できる。
(面発光半導体レーザ素子の製造方法)
続いて、図3、図4(A)〜図4(C)、図5(A)及び図5(B)を参照して、面発光半導体レーザ素子100の製造方法について説明する。図4(A)〜図4(C)、図5(A)及び図5(B)は、面発光半導体レーザ素子100の製造方法における一工程を模式的に示す工程断面図である。
続いて、図3、図4(A)〜図4(C)、図5(A)及び図5(B)を参照して、面発光半導体レーザ素子100の製造方法について説明する。図4(A)〜図4(C)、図5(A)及び図5(B)は、面発光半導体レーザ素子100の製造方法における一工程を模式的に示す工程断面図である。
(下部DBR膜形成工程)
まず、図4(A)に示されるように、例えば、n型GaAs基板1a上に、MOCVD法により複数のn型AlGaAs膜19a及び複数のn型GaAs膜21aを交互に積層する。例えば、n型AlGaAs膜19aは23層であり、n型GaAs膜21aは22層である。
まず、図4(A)に示されるように、例えば、n型GaAs基板1a上に、MOCVD法により複数のn型AlGaAs膜19a及び複数のn型GaAs膜21aを交互に積層する。例えば、n型AlGaAs膜19aは23層であり、n型GaAs膜21aは22層である。
n型AlGaAs膜19aの厚さは、発光波長λ及びn型AlGaAsの実効屈折率nr1を用いて表すとき、λ/4nr1であることが好ましい。n型GaAs膜21aの厚さは、発光波長λ及びn型GaAsの実効屈折率nr2を用いて表すとき、λ/4nr2であることが好ましい。
(活性膜形成工程)
次に、下部DBR膜3a上に、例えば、第1AlGaAs膜25aと、活性膜5aと、第2AlGaAs膜27aと、p型半導体膜11aとを順にMOCVD法により形成する。続いて、p型半導体膜11aの表面上にSiN等からなるマスク11bを形成する。
次に、下部DBR膜3a上に、例えば、第1AlGaAs膜25aと、活性膜5aと、第2AlGaAs膜27aと、p型半導体膜11aとを順にMOCVD法により形成する。続いて、p型半導体膜11aの表面上にSiN等からなるマスク11bを形成する。
(電流狭窄構造工程)
次に、マスク11bを用いてp型半導体膜11aをエッチングすることにより、図4(B)に示されるように、p型半導体層11を形成する。p型半導体層11は、例えばp型AlGaAsからなり、第2AlGaAs膜27aの表面における第1領域27b上に形成される。p型半導体層11の厚さは、発光波長λ及びp型AlGaAsの実効屈折率nr3を用いて表すとき、λ/4nr3であることが好ましい。
次に、マスク11bを用いてp型半導体膜11aをエッチングすることにより、図4(B)に示されるように、p型半導体層11を形成する。p型半導体層11は、例えばp型AlGaAsからなり、第2AlGaAs膜27aの表面における第1領域27b上に形成される。p型半導体層11の厚さは、発光波長λ及びp型AlGaAsの実効屈折率nr3を用いて表すとき、λ/4nr3であることが好ましい。
次に、図4(C)に示されるように、第2AlGaAs膜27aの表面における第1領域27bを取り囲む第2領域27c上に、酸素元素が添加されたAlGaAs等の半導体からなる電流閉じ込め膜9aを選択的に形成する。電流閉じ込め膜9aは、例えば、酸素元素を含む原料を用いてMOCVD法により形成される。具体的には、Al元素を含む有機金属原料及び酸素を含む有機金属原料を用いて電流閉じ込め膜9aを形成すると好ましい。Al元素を含む有機金属原料としては、トリメチルアルミニウム(TMA)が挙げられ、酸素元素を含む有機金属原料としては、メトキシアルミニウム(AlO(CH3)3)が挙げられる。電流閉じ込め膜9aの厚さは、発光波長λ及び酸素元素が添加されたAlGaAsの実効屈折率nr8を用いて表すとき、λ/4nr8であることが好ましい。
(上部DBR膜形成工程)
次に、マスク11bを除去し、図5(A)に示されるように、電流閉じ込め膜9a及びp型半導体層11上に、p型GaAs膜13aを例えばエピタキシャル成長法により形成する。p型GaAs膜13aの厚さは、発光波長λ及びp型GaAsの実効屈折率nr4を用いて表すとき、λ/4nr4であることが好ましい。
次に、マスク11bを除去し、図5(A)に示されるように、電流閉じ込め膜9a及びp型半導体層11上に、p型GaAs膜13aを例えばエピタキシャル成長法により形成する。p型GaAs膜13aの厚さは、発光波長λ及びp型GaAsの実効屈折率nr4を用いて表すとき、λ/4nr4であることが好ましい。
続いて、p型GaAs膜13a上に、例えばエピタキシャル成長法により、交互に積層されたAlGaAs膜33a及びGaAs膜31aを含む上部DBR膜7aを形成する。AlGaAs膜33aは、例えばノンドープのAlGaAsからなり、GaAs膜31aは、例えばノンドープGaAsからなる。一例を挙げると、AlGaAs膜33a及びGaAs膜31aは各々25層形成される。
GaAs膜31aの厚さは、発光波長λ及びGaAsの実効屈折率nr6を用いたとき、λ/4nr6であることが好ましい。AlGaAs膜33aの厚さは、発光波長λ及びAlGaAsの実効屈折率nr5を用いたとき、λ/4nr5であることが好ましい。
(エッチング工程)
次に、図5(B)に示されるように、レーザポストの形状が例えば10μm×10μmの矩形となる上部DBR部7を形成する。具体的には、まず、図5(A)に示される上部DBR膜7a上にマスク(図示せず)を形成し、このマスクを用いて上部DBR膜7aをRIE等のドライエッチングによりエッチングする。これにより、メサ形状のレーザポストとしての上部DBR部7が形成され、p型GaAs膜13aの表面の一部が露出する。上部DBR部7は、交互に積層されたAlGaAs層33及びGaAs層31を含む。レーザポストの形状は特に限定されず、例えば直径10μmの円形であるとしてもよい。
次に、図5(B)に示されるように、レーザポストの形状が例えば10μm×10μmの矩形となる上部DBR部7を形成する。具体的には、まず、図5(A)に示される上部DBR膜7a上にマスク(図示せず)を形成し、このマスクを用いて上部DBR膜7aをRIE等のドライエッチングによりエッチングする。これにより、メサ形状のレーザポストとしての上部DBR部7が形成され、p型GaAs膜13aの表面の一部が露出する。上部DBR部7は、交互に積層されたAlGaAs層33及びGaAs層31を含む。レーザポストの形状は特に限定されず、例えば直径10μmの円形であるとしてもよい。
(電極形成工程)
次に、図3に示されるように、p型GaAs層13の表面における第2領域14上にp型電極15を形成する。また、n型GaAs基板1の裏面にn型電極17を形成する。
次に、図3に示されるように、p型GaAs層13の表面における第2領域14上にp型電極15を形成する。また、n型GaAs基板1の裏面にn型電極17を形成する。
以上の工程を経ることにより、図3に示される面発光半導体レーザ素子100が得られる。
(第3実施形態)
図6は、第3実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図6には、面発光半導体レーザ素子200が示されている。面発光半導体レーザ素子200は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部207を備える。下部DBR部3と上部DBR部207との間には、活性層205が設けられている。
図6は、第3実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図6には、面発光半導体レーザ素子200が示されている。面発光半導体レーザ素子200は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部207を備える。下部DBR部3と上部DBR部207との間には、活性層205が設けられている。
活性層205と下部DBR部3との間には、第1AlGaAs層225が設けられていると好ましく、活性層205と上部DBR部207との間には、第2AlGaAs層227が設けられていると好ましい。第1AlGaAs層225、活性層205及び第2AlGaAs層227によって、λ共振器が構成される。
上部DBR部207と活性層205との間には、酸素元素が添加された半導体からなり、高抵抗の電流閉じ込め層209が設けられている。電流閉じ込め層209は、電流を閉じ込めるために設けられており、これにより電流狭窄構造が得られる。また、電流閉じ込め層209は開口209hを有しており、その開口209hにはp型半導体層211が設けられている。電流は、このp型半導体層211を流れる。一実施例では、第2AlGaAs層227上に電流閉じ込め層209及びp型半導体層211が設けられている。
レーザポストは、第1AlGaAs層225、活性層205、第2AlGaAs層227、電流閉じ込め層209、p型半導体層211及び上部DBR部207によって構成されている。
上部DBR部207は、交互に配列された複数のp型GaAs層231と複数のp型AlGaAs層233とを有する。このため、電流は上部DBR部207中を通過することができる。本実施形態では、上部DBR部207の最上層及び最下層はいずれもp型GaAs層231である。また、第1AlGaAs層225、活性層205及び第2AlGaAs層227の構造によって、上部DBR部207の層数及び構造は適宜設計される。
上部DBR部207の表面上には、p型電極15が設けられており、n型GaAs基板1の裏面には、n型電極17が設けられている。p型電極15及びn型電極17に電圧を印加すると、活性層205に電流が供給される。これにより、レーザ光L2が上部DBR部207を透過して外部に放出される。
なお、電流閉じ込め層209の材料及び酸素濃度は、例えば、上述の電流閉じ込め層9の材料及び酸素濃度と同一である。p型半導体層211の材料及び酸素濃度は、例えば、上述のp型半導体層11の材料及び酸素濃度と同一である。
(第4実施形態)
図7は、第4実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図7には、面発光半導体レーザ素子300が示されている。面発光半導体レーザ素子300は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部307を備える。下部DBR部3と上部DBR部307との間には、活性層205が設けられている。
図7は、第4実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図7には、面発光半導体レーザ素子300が示されている。面発光半導体レーザ素子300は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部307を備える。下部DBR部3と上部DBR部307との間には、活性層205が設けられている。
活性層205と下部DBR部3との間には、第1AlGaAs層225が設けられていると好ましく、活性層205と上部DBR部207との間には、第2AlGaAs層227が設けられていると好ましい。第1AlGaAs層225、活性層205及び第2AlGaAs層227によって、λ共振器が構成される。
レーザポストは、第1AlGaAs層225、活性層205、第2AlGaAs層227及び上部DBR部307によって構成されている。
上部DBR部307は、交互に配列された複数のp型GaAs層231と複数のp型AlGaAs層233とを有する。このため、電流は上部DBR部307中を通過することができる。上部DBR部307の最上層はp型GaAs層231であり、最下層はp型AlGaAs層233である。
また、上部DBR部307は、酸素元素が添加された半導体からなり、高抵抗の電流閉じ込め層309を最下層として含んでいる。電流閉じ込め層309は、電流を閉じ込めるために設けられており、これにより電流狭窄構造が得られる。電流閉じ込め層309は、開口309hを有しており、p型AlGaAs層233の少なくとも一層が開口309hに設けられている。一実施例では、電流閉じ込め層309及びp型AlGaAs層233上にp型GaAs層231が設けられている。
本実施形態では、電流閉じ込め層309及びp型AlGaAs層233とp型GaAs層231とによって構成される積層体が反射鏡として機能するので、上部DBR部307の反射率が向上する。電流閉じ込め層309の厚さとp型AlGaAs層233の厚さとは、同一であると好ましい。また、電流閉じ込め層309を構成する半導体材料が、p型AlGaAs層233を構成する半導体材料と同一であると好ましい。
上部DBR部307の表面上には、p型電極15が設けられており、n型GaAs基板1の裏面には、n型電極17が設けられている。p型電極15及びn型電極17に電圧を印加すると、活性層205に電流が供給される。これにより、レーザ光L3が上部DBR部307を透過して外部に放出される。
なお、電流閉じ込め層309の材料、酸素濃度及び厚さは、例えば、上述の電流閉じ込め層9の材料、酸素濃度及び厚さと同一である。
(第5実施形態)
図8は、第5実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図8には、面発光半導体レーザ素子400が示されている。面発光半導体レーザ素子400は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部407を備える。下部DBR部3と上部DBR部407との間には、活性層205が設けられている。
図8は、第5実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図8には、面発光半導体レーザ素子400が示されている。面発光半導体レーザ素子400は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部407を備える。下部DBR部3と上部DBR部407との間には、活性層205が設けられている。
活性層205と下部DBR部3との間には、第1AlGaAs層225が設けられていると好ましく、活性層205と上部DBR部407との間には、第2AlGaAs層227が設けられていると好ましい。第1AlGaAs層225、活性層205及び第2AlGaAs層227によって、λ共振器が構成される。
レーザポストは、第1AlGaAs層225、活性層205、第2AlGaAs層227及び上部DBR部407によって構成されている。
上部DBR部407は、交互に配列された複数のp型GaAs層231と複数のp型AlGaAs層233とを有するので、電流は上部DBR部407を介して活性層205に流れる。上部DBR部407の最上層はp型GaAs層231であり、最下層はp型AlGaAs層233である。
また、上部DBR部407は、酸素元素が添加された半導体からなり、高抵抗の電流閉じ込め層409を最下層として含んでいる。電流閉じ込め層409は、電流を閉じ込めるために設けられており、これにより電流狭窄構造が得られる。電流閉じ込め層409は、開口409hを有している。開口409hには、p型GaAs層231の少なくとも一層とp型AlGaAs層233の少なくとも一層とが設けられている。一実施例では、電流閉じ込め層409の開口409hには1層のp型GaAs層231及び1層のp型AlGaAs層233が設けられている。本実施形態では、電流閉じ込め層409の厚さを大きくできるので、更に高抵抗の電流狭窄構造を形成できる。
上部DBR部407の表面上には、p型電極15が設けられており、n型GaAs基板1の裏面には、n型電極17が設けられている。p型電極15及びn型電極17に電圧を印加すると、活性層205に電流が供給される。これにより、レーザ光L4が上部DBR部407を透過して外部に放出される。
なお、電流閉じ込め層409の材料及び酸素濃度は、例えば、上述の電流閉じ込め層9の材料及び酸素濃度と同一である。
(第6実施形態)
図9は、第6実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図9には、面発光半導体レーザ素子500が示されている。面発光半導体レーザ素子500は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部507を備える。下部DBR部3と上部DBR部507との間には、活性層505が設けられている。
図9は、第6実施形態に係る半導体発光素子を模式的に示す断面図である。図9には、面発光半導体レーザ素子500が示されている。面発光半導体レーザ素子500は、n型GaAs基板1上に設けられた下部DBR部3及び上部DBR部507を備える。下部DBR部3と上部DBR部507との間には、活性層505が設けられている。
活性層505と下部DBR部3との間には、第1AlGaAs層525が設けられていると好ましく、活性層505と上部DBR部507との間には、第2AlGaAs層527が設けられていると好ましい。第1AlGaAs層525、活性層505及び第2AlGaAs層527によって、λ共振器が構成される。
上部DBR部507は、交互に配列された複数のp型GaAs層231と複数のp型AlGaAs層233とを有する。このため、電流は上部DBR部207中を通過することができる。上部DBR部207の最上層はp型GaAs層231であり、最下層はp型AlGaAs層233である。
活性層505の側面上には、酸素元素が添加された半導体からなり、高抵抗の電流閉じ込め層509が設けられている。この場合、活性層505に電流狭窄構造が形成されているので、活性層505に電流を閉じ込め易くなり、電流狭窄機能が向上する。電流閉じ込め層509は、電流を閉じ込めるために設けられており、これにより電流狭窄構造が得られる。電流閉じ込め層509は、開口509hを有している。開口509hには、第1AlGaAs層525、活性層505及び第2AlGaAs層527が設けられている。
レーザポストは、第1AlGaAs層525、活性層505、第2AlGaAs層527、上部DBR部507及び電流閉じ込め層509によって構成されている。
なお、電流閉じ込め層509の材料及び酸素濃度は、例えば、上述の電流閉じ込め層9の材料及び酸素濃度と同一である。
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されない。
例えば、下部DBR部、上部DBR部及び活性層は、必ずしもn型GaAs基板1上に設けられていなくてもよい。例えば、n型GaAs基板1上に下部DBR部、活性層及び上部DBR部を形成した後に、これらをn型GaAs基板1から剥離して他の支持体等に貼り付けるとしてもよい。
また、面発光半導体レーザ素子100では、AlGaAs層33に代えてAlAs層を用いるとしてもよい。また、面発光半導体レーザ素子200,300,400,500では、p型AlGaAs層233に代えてp型AlAs層を用いるとしてもよい。
また、活性層はInGaAs/GaAs系の量子ドット構造、又は、GaInNAs/GaAs系の量子ドット構造を有するとしてもよい。このような量子ドット構造としては、光通信において重要な波長帯である1.3μm〜1.55μm帯の発光波長を得ることができる量子ドット構造が好ましい。
以上説明した半導体発光素子は、例えば光通信分野等において好適に用いられる。
2…p型半導体層(第1導電型半導体層)、4…n型半導体層(第2導電型半導体層)、5,5A,205,505…活性層、9,9A,209,309,409,509…電流閉じ込め層、10,10a,100,200,300,400,500…半導体発光素子、31,231…GaAs層(第1DBR半導体層)、33,233…AlGaAs層(第2DBR半導体層)、7,207,307,407,507…上部DBR部、3…下部DBR部、19…n型AlGaAs層(第3DBR半導体層)、21…n型GaAs層(第4DBR半導体層)、9h,9Ah,209h,309h,409h,509h…開口。
Claims (7)
- 第1導電型半導体層と、
第2導電型半導体層と、
前記第1導電型半導体層と前記第2導電型半導体層との間に設けられた活性層と、
前記第1導電型半導体層と前記第2導電型半導体層との間に設けられており、酸素元素が添加された半導体からなり前記活性層に電流を閉じ込める電流閉じ込め層と、
を備える半導体発光素子。 - 交互に配列された第1DBR半導体層及び第2DBR半導体層を含む第1DBR部と、
交互に配列された第3DBR半導体層及び第4DBR半導体層を含む第2DBR部と、
前記第1DBR部と前記第2DBR部との間に設けられた活性層と、
前記第1DBR部と前記活性層との間に設けられており、酸素元素が添加された半導体からなる層と、
を備える半導体発光素子。 - 交互に配列された第1DBR半導体層及び第2DBR半導体層を含む第1DBR部と、
交互に配列された第3DBR半導体層及び第4DBR半導体層を含む第2DBR部と、
前記第1DBR部と前記第2DBR部との間に設けられた活性層と、
前記第1DBR部は、酸素元素が添加された半導体からなる層を含んでおり、
前記酸素元素が添加された半導体からなる層は開口を有しており、
前記第1DBR半導体層の少なくとも一層は、前記酸素元素が添加された半導体からなる層の前記開口に設けられている半導体発光素子。 - 前記第2DBR半導体層の少なくとも一層は、前記酸素元素が添加された半導体からなる層の前記開口に設けられている請求項3に記載の半導体発光素子。
- 交互に配列された第1DBR半導体層及び第2DBR半導体層を含む第1DBR部と、
交互に配列された第3DBR半導体層及び第4DBR半導体層を含む第2DBR部と、
前記第1DBR部と前記第2DBR部との間に設けられた活性層と、
前記活性層の側面上に設けられており、酸素元素が添加された半導体からなる層と、
を備える半導体発光素子。 - 前記酸素元素が添加された半導体からなる層は、AlAs、AlGaAs、AlInP及びAlGaInPのうち少なくとも一つの半導体材料からなる請求項1〜5のいずれか一項に記載の半導体発光素子。
- 前記酸素元素が添加された半導体からなる層の酸素濃度は、5×1015cm−3以上である請求項1〜6のいずれか一項に記載の半導体発光素子。
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CN115986562A (zh) * | 2023-03-20 | 2023-04-18 | 苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司 | 高功率低发散角垂直腔面发射半导体发光器件及制备方法 |
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2004
- 2004-03-31 JP JP2004106669A patent/JP2005294485A/ja active Pending
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