JP2005294293A - 半導体装置樹脂封止用金型 - Google Patents

半導体装置樹脂封止用金型 Download PDF

Info

Publication number
JP2005294293A
JP2005294293A JP2004102445A JP2004102445A JP2005294293A JP 2005294293 A JP2005294293 A JP 2005294293A JP 2004102445 A JP2004102445 A JP 2004102445A JP 2004102445 A JP2004102445 A JP 2004102445A JP 2005294293 A JP2005294293 A JP 2005294293A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
mold
carrier
semiconductor device
sealing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004102445A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisayuki Tsuruta
久幸 鶴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Electronics Corp
Original Assignee
NEC Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Electronics Corp filed Critical NEC Electronics Corp
Priority to JP2004102445A priority Critical patent/JP2005294293A/ja
Publication of JP2005294293A publication Critical patent/JP2005294293A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】 樹脂封止のためのトランスファ成型時の不具合を確実に抑制することを可能にする。
【解決手段】 一対の型と、当該型の内部に、半導体素子が載置され、トランスファ成型が行われる空間を提供するキャビティ3およびキャビティ3に樹脂を供給するためのランナ7とを備える金型であって、キャビティ3に沿って前記型が対向する部分であってキャリア23を直接クランプするクランプ領域9と、クランプ領域9でキャリア23をクランプしたときに、キャビティ3の端部に沿って、前記両方の型のクランプ領域9にそれぞれ形成される凸部11およびこれに対応する凹部からなる変形付与部と、を含むことを特徴とする。
【選択図】 図5

Description

本発明は、半導体装置樹脂封止用金型に関し、特にキャリアに半導体素子が搭載される半導体装置をトランスファ成型法により樹脂封止するに際して用いられる金型に関する。
従来より、半導体素子が搭載されるキャリアの半導体素子の部分を樹脂封止する際に、金型でキャリアをクランプするが、樹脂注入時に金型を加熱すると金型の内部においてキャリアが変形して弛みが生じることがある。この弛みが生じたままで樹脂を注入すると、弛み部分でバリが出るなどして成型時の不具合が生じてしまう。
特許文献1には、予め弛みが生じると予測される金型内の位置に突起やくぼみを設けることで、この弛みが引き起こす成型時の不具合を解消する技術が記載されている。
特開平5−102215号公報
ところで、近年、半導体装置の薄層化が求められており、これに伴って薄層化されたキャリアでは、樹脂封止時に金型でクランプしたときの変形が予測できなくなっており、特許文献1に記載の技術では不十分になっている。
一方で、このような予測できない変形に対処するために、一方の金型をバネ付勢して、樹脂封止時に金型でクランプしたときのキャリアの変形に追従しようとしているが、より高度に薄層化を進めたキャリアでは、その変形に追従できなくなってきている。
さらに、高度に薄層化されたキャリアにおいては、金型内の樹脂供給路110を挟んだクランプ位置114においてキャリア112にかかるクランプ圧力により、図10に示したように樹脂供給路110の中でキャリアが変形して盛り上がってしまうことがあった。さらに、キャリア112が樹脂供給路110の中で変形したままで樹脂を注入すると、樹脂は紙面垂直な方向から導入されるため、樹脂封止しようとする面の裏側の空間115にも樹脂が回りこんでしまい、図11に示したように、キャリア112の裏側のクランプ位置114の間に樹脂漏れ部分116が生じることが問題となっている。
そこで、本発明は上述した実情に鑑みてなされたものであり、樹脂封止のためのトランスファ成型時の不具合を確実に抑制することを可能とする半導体装置樹脂封止用金型を提供することを目的としている。
本発明に係る半導体装置樹脂封止用金型は、上述した課題を解決するために、キャリアに半導体素子が搭載される半導体装置をトランスファ成型法により樹脂封止するに際して用いられ、一対の型と、当該型の内部に、前記半導体素子が載置され、トランスファ成型が行われる空間を提供するキャビティおよび当該キャビティに樹脂を供給するためのランナとを備える金型であって、前記キャビティに沿って前記型が対向する部分であって前記キャリアを直接クランプするクランプ領域と、前記クランプ領域で前記キャリアをクランプしたときに、前記キャビティの端部に沿って、前記両方の型のクランプ領域にそれぞれ形成される凸部およびこれに対応する凹部からなる変形付与部と、を含むことを特徴としている。
前記半導体装置樹脂封止用金型において、前記変形付与部が、前記キャビティへの樹脂の導入方向に対して略垂直に形成されていることが好ましい。
また、前記半導体装置樹脂封止用金型において、前記変形付与部が、前記キャビティの端部に沿って各型に線状に形成される凹部および凸部で構成されることが好ましい。
本発明によれば、キャリアに搭載された半導体素子は型の成型面に設けられたキャビティに載置され、当該キャリアがクランプ領域にてクランプされた後、ランナより供給される樹脂によりトランスファ成型されて封止される。
このとき、クランプ領域に設けられた変形付与部により、クランプ領域においてキャリアに凹凸が付与される。これに追従して、ランナ部分においてもキャリアは変形して、樹脂のキャビティへの導入方向に沿って折れ目、くぼみなどが生じることのないようにすることができる。これにより、樹脂封止のためのトランスファ成型時の不具合を確実に抑制することが可能になる。
本発明によれば、樹脂封止のためのトランスファ成型時の不具合を確実に抑制することが可能になる。
以下、本発明に係る半導体装置樹脂封止用金型の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
なお、図面の説明においては、同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
図1は、前記半導体装置樹脂封止用金型を用いて得られる成型品の一例の概略図である。
図1によれば、半導体素子を備える回路が形成された基板であるキャリア23上に形成した回路を封止するように封止樹脂33が成型され、成型時に樹脂を充填させるための後述するランナの成型部分37およびカルの成型部分35が、キャリア23の端側に連続して形成されている。
また、図1には、カルの一方の端面にランナを設けた金型を用いて成型を行って得られる成型品が示されているが、他方の端面にもランナを設けて、この他端側でもキャリアの樹脂封止を行う、すなわちカルの両端でキャリアの樹脂封止を同時に行うようにすることもできる。
ここで、キャリアは、0.1mm程度の薄基板やテープ状の基板などであり、例えばエポキシ樹脂、BT(ビスマレイミド・トリアジン)レジンなどの樹脂材料から形成することができる。
図2は、この成型品の要部の拡大図である。
図2によれば、キャリア23の上であって、ランナの成型部分37が形成されている側の端部39には、後述するクランプ時に前記半導体装置樹脂封止用金型により変形付与された変形部分30が端面に沿って線状に生じている。
本発明の実施形態に係る半導体装置樹脂封止用金型は、このような成型品を得るためのものであって、以下に詳細に説明する。
図3は、樹脂封止時に上金型と下金型とで前記キャリア23をクランプした所定の位置の一例、すなわち図2のB−B’に相当する部分を示し、図4はこの状態の要部を拡大した図である。
図3では、図2に示したように樹脂供給路を含まないB−B’での断面図が示されており、上金型21と下金型1とでキャリア23をクランプした状態が示される。前記ランナを含まない部分での断面であるため、上金型1の成型面には、半導体素子が載置され、トランスファ成型が行われる空間を提供し、図1の前記封止樹脂33を成型するためのキャビティ3が現れているのみである。
また、図4によれば、下金型1には前記変形部分30を付与するための凸部11が設けられているとともに、上金型23には凸部11に対向するように凹部31が設けられているため、キャリア23は上金型21および下金型1にクランプされると、この凸部11に沿って確実に変形するようになっている。
図5は樹脂封止時に上金型と下金型とで前記キャリア23をクランプした別の位置の一例、すなわち図2のA−A’に相当する部分を示し、図6はランナ7にかかる位置でも凸部11を設けたこの状態の要部を拡大した図である。
図5では、図2に示したように樹脂供給路を含むA−A’での断面図が示されており、図3と同様に、上金型21と下金型1とでキャリア23をクランプした状態が示される。上金型1の成型面には、前記キャビティ3、当該キャビティ3に樹脂を供給するためのランナ7およびカル25が現れている。
また、下金型1には、ポット28が現れており、このポット28内には樹脂27をプランジャ29が設けられるとともに、ポット28内であってプランジャ29の押し出し面には封止用樹脂27が装入されている。また、カル25、ポット28およびプランジャ29により樹脂供給部5が構成される。
ここで、プランジャ29は、ポット28から樹脂27を射出する機能を有し、鋼などから構成することができる。また、ポット28に装入される封止用樹脂27としては、熱軟化性樹脂、例えばBステージ化するエポキシ樹脂などを用いることができる。
また、図6によれば、下金型1のこの部分にも凸部11が設けられているため、キャリア23は上金型21および下金型1にクランプされると、図4に示したような変形に追従して、この凸部11に沿った変形がより確実になる。
なお、ランナ7が設けられている部分において、凸部が設けられている例を示したが、この部分に凸部が設けられていなくても、ランナ7が設けられている部分以外の前記クランプ領域9で凸部が設けられていれば、クランプ領域9で付与される変形に追従してキャリア23のランナ7内部にかかる部分も同様の変形が生じるようになる。このため、凸部11は、下金型1のランナ7にかかる位置では設けても設けなくても差し支えない。
ここで、変形付与部について説明する。
キャリア23のクランプ時に、ランナ7内でキャリア23が変形してキャリア23の裏側に樹脂が回りこむことがないように、キャリア23のクランプされた部分を凹凸に変形させて、この変形に追従してランナ7の中では樹脂の導入方向Xに沿った変形を妨げるようにキャリア23を変形させることが重要である。
例えば、図4に示したような少なくとも下金型1にキャビティ3の端部に沿って線状に設けた凸部11が挙げられる。このほかに、変形付与部を、図7に示したようにキャリア23が波型に変形するように設けてもよいし、図8に示したように図6の凹凸を逆にした形状にキャリア23が変形するように設けてもよいし、図9に示したようにキャリア23が単に折れ込む形状に変形するように設けてもよい。また、凹凸は、一対であっても、それ以上の対であってもよい。
本実施形態によれば、半導体素子を実装したキャリアが所定の温度、例えば175℃に加熱された本実施形態の金型に搬送され、当該金型内に設けられたキャビティに載置されると、上金型21および下金型1によりクランプされる。続いて、プランジャ29が上昇し、樹脂27がカル25に押し出され、ランナ7を通ってキャビティ3に到達して、前記半導体素子は封止される。
このとき、クランプ領域9に設けられた凸部11により、クランプ領域9においてキャリア3に凹凸が付与され、樹脂の導入方向Xに沿って折れ目、くぼみなどが生じることのないようにすることができる。これにより、樹脂封止のためのトランスファ成型時の不具合、例えばキャリア23の裏側に樹脂が回ったり、樹脂が金型から漏れたりといった不具合を確実に抑制することが可能になる。
以上、半導体装置樹脂封止用金型の実施形態について説明したが、これに限定されることはなく、本発明の目的を逸脱しない範囲で適宜変更可能なことは言うまでもない。
例えば、下金型の成型面であって上金型側に、キャビティ、ランナ、カルなどを設けた例を説明したが、これら全部または一部を下金型側に設けてもよい。同様に、樹脂供給部を下金型に設けた例を示したが、上金型に設けても差し支えない。
前記半導体装置樹脂封止用金型を用いて得られる成型品の一例の概略図である。 前記成型品の要部の拡大図である。 樹脂封止時に上金型と下金型とでキャリアをクランプした別の位置での状態の一例を示す図である。 図3に示した状態の要部を拡大した図である。 樹脂封止時に上金型と下金型とでキャリアをクランプした所定の位置での状態の一例を示す図である。 図5に示した状態の要部を拡大した図である。 変形誘導部材により変形されるキャリア23の形状の別の例を示す図である。 変形誘導部材により変形されるキャリア23の形状の別の例を示す図である。 変形誘導部材により変形されるキャリア23の形状の別の例を示す図である。 従来金型におけるクランプ時のランナ周囲のキャリア状態を示す図である。 図10の状態で成型を行って樹脂漏れを起こした状態を示す図である。
符号の説明
1 下金型
3 キャビティ
5 樹脂供給部
7 ランナ
9 クランプ領域
11 凸部
21 上金型
23 キャリア

Claims (3)

  1. キャリアに半導体素子が搭載される半導体装置をトランスファ成型法により樹脂封止するに際して用いられ、一対の型と、当該型の内部に、前記半導体素子が載置され、トランスファ成型が行われる空間を提供するキャビティおよび当該キャビティに樹脂を供給するためのランナとを備える金型であって、
    前記キャビティに沿って前記型が対向する部分であって前記キャリアを直接クランプするクランプ領域と、
    前記クランプ領域で前記キャリアをクランプしたときに、前記キャビティの端部に沿って、前記両方の型のクランプ領域にそれぞれ形成される凸部およびこれに対応する凹部からなる変形付与部と、
    を含むことを特徴とする半導体装置樹脂封止用金型。
  2. 請求項1に記載の半導体装置樹脂封止用金型において、
    前記変形付与部が、前記キャビティへの樹脂の導入方向に対して略垂直に形成されていることを特徴とする半導体装置樹脂封止用金型。
  3. 請求項1に記載の半導体装置樹脂封止用金型において、
    前記変形付与部が、前記キャビティの端部に沿って各型に線状に形成される凹部および凸部で構成されることを特徴とする半導体装置樹脂封止用金型。
JP2004102445A 2004-03-31 2004-03-31 半導体装置樹脂封止用金型 Pending JP2005294293A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004102445A JP2005294293A (ja) 2004-03-31 2004-03-31 半導体装置樹脂封止用金型

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004102445A JP2005294293A (ja) 2004-03-31 2004-03-31 半導体装置樹脂封止用金型

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005294293A true JP2005294293A (ja) 2005-10-20

Family

ID=35326933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004102445A Pending JP2005294293A (ja) 2004-03-31 2004-03-31 半導体装置樹脂封止用金型

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005294293A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100198685B1 (ko) 반도체 장치 제조방법 및 그 몰드 어셈블리
KR950000512B1 (ko) 수지봉지금형(樹脂封止金型)
US20020017738A1 (en) Resin sealing method and resin sealing apparatus
JP5892683B2 (ja) 樹脂封止方法
US8163220B2 (en) Method of packaging integrated circuits
JP2005294293A (ja) 半導体装置樹脂封止用金型
JP2002343819A (ja) 樹脂封止方法及び基板クランプ機構
CN100536100C (zh) 电子元件的树脂密封成形装置
JP4563426B2 (ja) 樹脂モールド金型
JP5234884B2 (ja) 樹脂封止金型
WO2014029176A1 (zh) 用于减小塑封体弯曲的夹具及其方法
KR100646905B1 (ko) 수지 밀봉 형
JP5903785B2 (ja) 半導体装置製造方法
KR0162887B1 (ko) 반도체패키지의 몰딩방법 및 몰드금형장치
US5134458A (en) Long size lead frame for semiconductor elements
KR20170048466A (ko) 리드 프레임, 반도체 장치의 제조 방법
JP2016076640A (ja) 半導体冷却構造
JP2761193B2 (ja) 外部リードを固定したリードフレーム及びこれを利用した半導体装置並びにその製造方法
JP4606126B2 (ja) 成型装置及び樹脂モールド方法
JPH04341812A (ja) 射出成形方法
JP5625673B2 (ja) 射出成形方法及び装置
JP2570157B2 (ja) 樹脂封止用金型
JPS63181438A (ja) 半導体装置の樹脂封止用金型
JP2005158873A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH04152109A (ja) 樹脂成形金型

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20070112

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080818

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20090811

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20091013

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Effective date: 20091104

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02