JP2005285721A - 真空管およびその製造装置と真空管の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】減圧容器内に残留する水分子数、有機物ガス分子数、及び、酸素分子数を放電に寄与するガスの分子数と関連して選択することによって、残留ガスによる悪影響を軽減できる。具体的には、放電用ガス分子数を残留ガスの分子数よりも10倍程度以上多くすることによって、残留ガスによる悪影響を軽減できる。
【選択図】 図6
Description
Claims (36)
- 減圧容器内に少なくとも放電を行うための放電用ガスを封入してなる真空管であって、該減圧容器内部に残留する有機物ガス分子数と水分子数および酸素分子数の総和は、前記放電用ガス分子数に比べ小さいことを特徴とする真空管。
- 請求項1に記載の真空管において、前記有機物ガス分子数と水分子数の総和に対する前記放電用ガス分子数の比は10倍以上であることを特徴とする真空管。
- 減圧容器内に少なくとも放電を行うための放電用ガスを封入してなる真空管であって、該減圧容器内壁に吸着する水分子数は1×10-16 分子/cm2以下であることを特徴とする真空管。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管を用いた蛍光管。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管を用いた冷陰極管。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管を用いた重水素放電管。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管を用いた電子線管。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管を用いたX線発生管。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管を用いた紫外線発生装置。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管を用いた静電気中和装置。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管において、前記放電ガスはHe, Ne, Ar, Kr, Xe, H2, D2からなる群から選ばれるガスを単独乃至は混合して用いることを特徴とする真空管。
- 請求項1から3のいずれかに記載の真空管において、前記減圧容器は酸化ケイ素を主成分とすることを特徴とする真空管。
- 減圧容器接続部と、該減圧容器接続部に接続されたガス排気機構と、前記減圧容器接続部に接続されたガス供給機構とを有する真空管の製造装置であって、ガス排気機構の減圧容器側には不活性ガス供給機構が配置されていることを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13に記載の真空管製造装置において、前記ガス排気機構は排気ポンプであって、該排気ポンプの排気側には不活性ガス供給機構が配置されていることを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13に記載の真空管製造装置において、前記ガス排気機構は、減圧排気機構と充填用排気機構から構成されることを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項15に記載の真空管製造装置において、前記減圧容器接続部の前記ガス供給機構側には第1のガス流制御機構を有し、前記充填用排気機構は第2のガス流制御機構からなることを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項16に記載の真空管製造装置において、前記第1のガス流制御機構は少なくともオリフィスを含むことを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項16又は17に記載の真空管製造装置において、前記第2のガス流制御機構は少なくともオリフィスを含むことを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13から18のいずれかに記載の真空管製造装置において、前記ガス供給機構は、前記減圧容器内部の圧力を制御する圧力制御機構を少なくとも有することを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13から19のいずれかに記載の真空管製造装置において、前記ガス供給機構は、前記減圧容器接続部を流れるガスの流量を制御する流量制御機構を少なくとも有することを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13から20のいずれかに記載の真空管製造装置において、前記減圧容器接続部とは異なる第2の減圧容器接続部ならびに、該第2の減圧容器接続部に接続された不活性ガス供給機構と、前記第2の減圧容器接続部に接続された逆拡散抑止機構を有することを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13から21のいずれかに記載の真空管製造装置において、前記逆拡散抑止機構は配管またはオリフィスであることを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項22に記載の真空管製造装置において、前記配管を流通するガス流量は、前記減圧容器接続部からガス供給機構およびガス供給機構への水分の侵入を抑止できる流量であることを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項22又は23に記載の真空管製造装置において、前記配管内を流れるガスの流量は、減圧容器未接続時に1SCCMから1000SCCMの範囲であることを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13から24のいずれかに記載の真空管製造装置において、第1の減圧容器接続部で測定した水分濃度が、1ppm以下であることを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13から25のいずれかに記載の真空管製造装置において、ガスが接触する表面は酸化クロムあるいは酸化アルミニウムを主成分とする金属酸化物を含むことを特徴とする真空管製造装置。
- 請求項13から26のいずれかに記載の真空管製造装置を用いて製造された蛍光管。
- 請求項13から26のいずれかに記載の真空管製造装置を用いて製造された冷陰極管。
- 請求項13から26のいずれかに記載の真空管製造装置を用いて製造された重水素放電管。
- 請求項13から26のいずれかに記載の真空管製造装置を用いて製造された電子線管。
- 請求項13から26のいずれかに記載の真空管製造装置を用いて製造されたX線発生管。
- 請求項13から26のいずれかに記載の真空管製造装置を用いて製造された紫外線発生装置。
- 請求項13から26のいずれかに記載の真空管製造装置を用いて製造された静電気中和装置。
- 真空管製造装置に減圧容器を取り付ける工程と、該減圧容器内のガスを排気する工程と、該減圧容器内に少なくとも放電ガスを充填する工程と、前記放電ガスが充填された減圧容器を該真空管製造装置から分離する工程とを有する真空管の製造方法であって、該減圧容器が取り付けられる前の真空管製造装置における減圧容器接続部には、乾燥不活性ガスが流通されていることを特徴とする真空管の製造方法。
- 真空管製造装置に減圧容器を取り付ける工程と、該減圧容器内のガスを排気する工程と、該減圧容器内に少なくとも放電ガスを充填する工程と、前記放電ガスが充填された減圧容器を該真空管製造装置から分離する工程とを有する真空管の製造方法であって、該減圧容器内のガスを排気する工程は、乾燥ガスの充填と排気の組み合わせを複数回行うことを特徴とする真空管の製造方法。
- 請求項35に記載の真空管の製造方法であって、前記減圧容器内のガスを排気する工程は、減圧容器を室温に比べ高い温度に昇温して行われることを特徴とする真空管の製造方法。
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