JP2005285319A - 光ディスクおよび光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】低密度記録と高密度記録の両方に対応でき、あるいはこれらと中密度記録に全て対応できるようにした、二枚のディスク基板の貼り合わせによる二層または三層式の光ディスク及びこの光ディスクの記録・再生のための光ディスク装置を提供すること。
【解決手段】透明合成樹脂から成る円板状の二枚のディスク基板３１，３２を貼り合わせて、それぞれ半透明の反射膜３４と反射膜３５とで高密度情報記録層３４と低密度情報記録層３５とを形成する。そして、第一のディスク基板の情報記録層（高密度記録層）が、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータで記録及び／または再生されると共に、第二のディスク基板の情報記録層（低密度記録層）が、７７０ｎｍ≦λ≦８３０ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．４５プラスマイナス０．０５の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成する。
【選択図】 図３

Description

本発明は、光ディスクおよび光ディスクの製造方法に関する。

従来、二層式の光ディスクは、二枚のディスク基板を貼り合わせることにより、各ディスク基板の内側に構成された情報記録層により、二層の情報記録層を有するように構成されている。

即ち、所謂両面単層形式の光ディスクの場合、光ディスクは、例えばポリカーボネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の第一のディスク基板の表面が、情報を表わすパターン形状に形成された後、情報記録層としての半透明膜層が形成され、さらにその上に、上記第一のディスク基板とほぼ同様の構成の第二のディスク基板が、透明接着剤を介して載置され、この透明接着剤を硬化することにより、二枚のディスク基板を貼り合わせるようにしている。この場合、上記第二のディスク基板は、第一のディスク基板の半透明膜層の代わりに、反射膜層が形成されている。

このような構成の光ディスクによれば、第一のディスク基板の側から、光ディスクの記録及び／または再生のための光ビーム、例えばレーザ光ビームが第一のディスク基板の情報記録層である半透明膜層に焦点を結ぶように照射されると、この半透明膜層での反射による戻り光ビームに基づいて、第一のディスク基板の情報記録層に記録された情報信号が再生されることになる。
これに対して、光ビームが、第二のディスク基板の情報記録層である反射膜層に焦点を結ぶように照射されると、この反射膜層での反射による戻り光ビームに基づいて、第二のディスク基板の情報記録層に記録された情報信号が再生されることになる。従って、一側から同じ光学ピックアップを使用することにより、光ディスクの第一のディスク基板の情報記録層と第二のディスク基板の情報記録層の記録及び／または再生が行われることになる。

ここで、上記第一のディスク基板の情報記録層と第二のディスク基板の情報記録層が、互いに異なる信号記録密度を有する光ディスク、例えば入射側の情報記録層がより高密度である光ディスクも提案されている。
このような光ディスクは、例えば低密度の情報記録層即ち第二のディスク基板の情報記録層が、従来一般的である波長７８０ｎｍの光ビームを使用するようにして、例えば従来のコンパクトディスク（ＣＤ）用の再生装置でも再生できるようにしたものがある。これにより、波長７８０ｎｍの光ビームが、第一のディスク基板の情報記録層を透過して、第二のディスク基板の情報記録層で反射され、その戻り光が再び第一の第一のディスク基板の情報記録層を透過して検出されることにより、第二のディスク基板の情報記録層の記録及び／または再生が行なわれるようになっている。
これに対して、より高い密度の情報記録層即ち第一のディスク基板の情報記録層は、より短い波長、例えば波長６５０ｎｍまたは６３５ｎｍの光ビームに対応するように構成されている。これにより、波長６５０ｎｍまたは６３５ｎｍの光ビームが、第一のディスク基板の情報記録層で反射され、その戻り光が検出されることにより、第一のディスク基板の情報記録層の記録及び／または再生が行なわれるようになっている。

しかしながら、上述した波長６５０ｎｍまたは６３５ｎｍの光ビームに対応した、より高い密度の情報記録層（以下、中密度記録層という）を有する光ディスクの普及に伴い、さらに高密度記録の光ディスクが開発されてきている。
このような高密度記録の光ディスクは、例えば波長４１０ｎｍ程度の青色のレーザ光を使用することになり、上述した低密度記録層または中密度記録層を有する光ディスクのための再生装置では、再生することができない。

本発明は、上述した点に鑑み、低密度記録と高密度記録の両方に対応でき、あるいはこれらと中密度記録に全て対応できるようにした、二枚のディスク基板の貼り合わせによる二層または三層式の光ディスク及びこの光ディスクの記録・再生のための光ディスク装置を提供することを目的としている。

本発明による光ディスクは、透明合成樹脂から成る円板状のディスク基板であって、情報に対応した凹凸形状が一面に形成され、その上に半透明性の第１の反射膜が形成されることにより第１の情報記録層が形成された第１のディスク基板と、透明合成樹脂から成る円板状のディスク基板であって、情報に対応した凹凸形状が一面に形成され、その上に第２の反射膜が形成されることにより第２の情報記録層が形成された第２のディスク基板と、上記第１及び第２の情報記録層が互いに内側に位置するように上記第１及び第２のディスク基板を貼り合わせる透明接着層とを含んでいる光ディスクであって、上記第１及び第２の情報記録層のうちの一方が、他方に比較して高密度であって、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成されると共に、上記第１及び第２の情報記録層のうちの他方が、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータ、または６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．６プラスマイナス０．０５の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成されることを特徴とする。

また、本発明による光ディスクは、上記第１及び第２の情報記録層のうちの一方が、０．３０μｍ≦トラックピッチ≦０．７０μｍで且つ０．１５μｍ≦最短ピット長≦０．４０μｍのピットパラメータであって、上記第１及び第２の情報記録層のうちの他方が、０．７０μｍ≦トラックピッチ≦０．８０μｍで且つ０．４０μｍ≦最短ピット長≦０．４５μｍのピットパラメータであることを特徴とする。
また、本発明による光ディスクは、上記第１及び第２の情報記録層を構成するためのピットパラメータは、ＤＶＤディスクに適用される光学パラメータに基づいて設定されることを特徴とする。

また、本発明による光ディスクは、上記第１の反射膜は、３８０ｎｍ≦λ≦４６０ｎｍにおける反射率が１０％以上で、且つ６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍにおける透過率が４０％以上となるように構成され、上記第２の反射膜は、６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍにおける反射率が２０％以上となるように構成されていることを特徴とする。
また、本発明による光ディスクは、上記第１及び第２の反射膜が、Ｓｉ化合物から構成されていることを特徴とする。
また、上記透明接着層が、１０乃至１００μｍの厚さであることを特徴とる。

本発明による光ディスクの形成方法は、透明合成樹脂から成る２枚の円板状のディスク基板の一面に、情報に対応した凹凸形状を形成し、形成された上記凹凸形状の上に半透明性の反射膜を形成することにより、上記２枚のディスク基板の一方に第１の情報記録層を、他方に第２の情報記録層を形成し、上記第１及び第２の情報記録面が形成された面を内側にして上記２枚のディスク基板を透明接着層によって貼り合わせるとともに、上記第１及び第２の情報記録層のうちの一方が、他方に比較して高密度であって、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成し、上記第１及び第２の情報記録層のうちの他方が、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータ、または６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．６プラスマイナス０．０５の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成することを特徴とする。

本発明によれば、低密度記録と高密度記録の両方に対応でき、あるいはこれらと中密度記録に全て対応できるようにした、二枚のディスク基板の貼り合わせによる二層または三層式の光ディスク及びこの光ディスクの記録・再生のための光ディスク装置を提供することができる。

以下、本発明の実施の形態例を、図１乃至図４を参照しながら、詳細に説明する。
尚、以下に述べる実施の形態例は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。

図１は、本発明による第一の実施形態による光ディスクを再生するための光ディスク装置の全体構成図である。
図１において、光ディスク装置１０は、光ディスク１１を回転駆動する駆動手段としてのスピンドルモータ１２と、回転する光ディスク１１の信号記録面に対して光ビームを照射して信号を記録し、この信号記録面からの戻り光ビームにより記録信号を再生する光学ピックアップ２０及びこれらを制御する制御部１３を備えている。
ここで、制御部１３は、光ディスクコントローラ１４，信号復調器１５，誤り訂正回路１６，インターフェイス１７，ヘッドアクセス制御部１８及びサーボ回路１９を備えている。

光ディスクコントローラ１４は、スピンドルモータ１２を所定の回転数で駆動制御する。信号復調器１５は、光学ピックアップ２０からの記録信号を復調して誤り訂正し、インターフェイス１７を介して外部コンピュータ等に送出する。これにより、外部コンピュータ等は、光ディスク１１に記録された信号を再生信号として受け取ることができるようになっている。

ヘッドアクセス制御部１８は、光学ピックアップ２０を例えば光ディスク１１上の所定の記録トラックまでトラックジャンプ等により移動させる。サーボ回路１９は、この移動された所定位置において、光学ピックアップ２０の二軸アクチュエータに保持されている対物レンズをフォーカシング方向及びトラッキング方向に移動させる。

図２は、上記光ディスク装置１０に組み込まれた光学ピックアップ２０の構成を示している。図２において、光学ピックアップ２０は、光源２１から出射される光ビームの光路中に順次に配設された、光分離手段としてのビームスプリッタ２２及び光集束手段としての対物レンズ２３と、ビームスプリッタ２２による分離光路中に配設された光検出器２４と、から構成されている。

光源２１は、例えば半導体の再結合発光を利用した半導体レーザ素子を備えており、所定のレーザ光を出射する。
ここで、光源２１は、好ましくは、後述するように、二種類または三種類の波長の光ビーム、例えば低密度記録光ディスク用の波長７８０ｎｍの光ビーム、中密度記録光ディスク用の波長６３５ｎｍまたは６５０ｎｍの光ビーム、そして高密度記録光ディスク用の波長４１０ｎｍの光ビームを選択的に出射するように、当該波長の光ビームを出射する半導体レーザ素子（図示せず）を備えている。
尚、光源２１は、上記各波長毎に複数個備えられていてもよい。

ビームスプリッタ２２は、その半透過膜２２ａが光軸に対して４５度傾斜した状態で配設されたビームスプリッタであり、光源２１からの光ビームと光ディスク１１の信号記録面からの戻り光を分離する。即ち、光源２１からの光ビームの一部は、ビームスプリッタ２２の半透過膜２２ａを透過し、戻り光ビームの一部は、ビームスプリッタ２２の半透過膜２２ａで反射されるようになっている。

対物レンズ２３は、凸レンズであって、ビームスプリッタ２２からの光ビームを、回転駆動される光ディスク１１の信号記録面の所望の記録トラック上に集束させる。ここで、対物レンズ２３は、図示しない二軸アクチュエータにより、二軸方向即ちフォーカス方向及びトラッキング方向に移動可能に支持されている。光検出器２４は、ビームスプリッタ２２で反射された戻り光ビームに対して、受光部を有するように構成されている。

ここで、本発明の第一の実施形態による光ディスク１１は、図３に示すように、構成されている。図３において、光ディスク１１は、例えばポリカーボネイト等の透明合成樹脂から成る厚さＴが０．６ｍｍの円板状の二枚のディスク基板３１，３２と、これら二枚のディスク基板３１，３２を貼り合わせるための透明接着層３３とから構成されており、図３にて上方から、光学ピックアップ２０の光源２１からの光ビームＬが入射するようになっている。

第一のディスク基板３１は、その内側面（図３にて下面）が、例えば記録情報に対応した凹凸形状に形成された後、その上に、半透明性反射膜３４が形成されている。第二のディスク基板３２は、その内側面（図３にて下面）が、例えば記録情報に対応した凹凸形状に形成された後、その上に、全反射膜３５が形成されている。

さらに、この光ディスク１１では、上記反射膜３４による情報記録層が、高密度記録層として構成され、また上記反射膜３５による情報記録層が、低密度記録層として構成されている。
ここで、上記反射膜３４による高密度記録層は、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成されている。
また、上記反射膜３５による低密度記録層は、７７０ｎｍ≦λ≦８３０ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．４５プラスマイナス０．０５の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成されている。

さらに、上記反射膜３４は、好ましくはＳｉ化合物から構成されており、３８０ｎｍ≦λ≦４６０ｎｍにおける反射率が１０％以上で且つ７７０ｎｍ≦λ≦８３０ｎｍにおける透過率が４０％以上であるように、構成されている。
ここで、反射率が１０％未満の場合には、高密度記録層からの戻り光の光量が十分ではなく、高密度記録層の再生特性が劣化してしまう。また透過率が４０％未満の場合には、低密度記録層への照射光量が低下することになり、低密度記録層の再生特性が劣化してしまう。

ここで、例えば、現在実用化されている最も高密度記録の光記録媒体であるＤＶＤディスク（中密度記録層）では、λ＝０．６３５または０．６５μｍで、Ｎ．Ａ．＝０．６，トラックピッチ（Ｔ．Ｐ．）＝０．４μｍであり、次の関係となる。
Ｔ．Ｐ．＝０．７４×（λ／０．６３５）×（０．６／Ｎ．Ａ．）
最短ピット長（Ｐｍｉｎ）＝０．４×（λ／０．６３５）×（０．６／Ｎ．Ａ．）
そして、本実施形態の光学パラメータとして前述のλ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６を代入すると、Ｔ．Ｐ．≦０．５４μｍＰｍｉｎ．≦０．２９μｍとなる。
さらに、波長λの現実的な技術的限界は０．３８μｍで、同様にＮ．Ａ．の限界は最大０．９５であるから、Ｔ．Ｐ．≧０．２８μｍＰｍｉｎ．≧０．１５μｍとなることがわかる。

以上の条件を満たすためには、半透過性反射膜３４は、特開平１−２８８０２号に開示されているように、窒素，酸素，水素の少なくとも１種の元素を含むＳｉ化合物から形成する。
ここで、その反射率はその厚みに対してサイン２乗の特性を有している。したがって、反射率は、その厚みを変化させることにより適宜変更される。
また、半透過性反射膜は、Ｓｉ化合物に限らず、金やアルミニウムの金属薄膜によっても構成できる。

上記透明接着層３３は、例えば１０乃至１００μｍの厚さに選定されている。これにより、第一のディスク基板３１の高密度記録層と第二のディスク基板３２の中密度記録層が、互いに適宜の間隔で隔置されることになり、各記録層に対して光学ピックアップ２０の光源２１からの光ビームが確実に焦点を結ぶようになっている。
ここで、上記厚さが下限未満であると、高密度記録層と中密度記録層との間の間隔が狭過ぎることにより、それぞれ所定の波長の光ビームが照射されたとき、他方の記録層からの戻り光が発生することになり、再生特性が劣化してしまうことになる。
また、上記厚さが上限を越える場合には、中密度記録層に対する光ビームがこの透明接着層を透過する際に、光量が低下することになり、中密度記録層への照射光量そして戻り光の光量が不足することになり、記録及び／または再生特性が劣化してしまうことになる。

本実施形態による光ディスク１１，光学ピックアップ２０そして光ディスク装置１０は、以上のように構成されており、以下のように動作する。
先ず、高密度記録層の再生の場合について説明する。即ち、光ディスク装置１０のスピンドルモータ１２が回転することにより、光ディスク１１が回転駆動される。
そして、光学ピックアップ２０が、図示しないガイドに沿って、光ディスク１１の半径方向に移動されることにより、対物レンズ２３の光軸が、光ディスク１１の所望のトラック位置まで移動されることにより、アクセスが行なわれる。

この状態にて、光学ピックアップ２０において、光源２１からの波長４１０ｎｍの光ビームは、ビームスプリッタ２２を透過し、対物レンズ２３により、光ディスク１１の第一のディスク基板３１の高密度記録層に集束される。この場合、対物レンズ２３は、この高密度記録層に対して、波長４１０ｎｍでＮ．Ａ．≧０．６となるように、設計されている。尚、Ｎ．Ａ．が０．６以下であると、高密度記録層に対して照射される光ビームが球面収差の影響を受けて歪んでしまう。

そして、光ディスク１１の高密度記録層からの信号を含んだ戻り光は、再び対物レンズ２３を介して、ビームスプリッタ２２に入射する。そして、ビームスプリッタ２２の半透過膜２２ａで反射され、光検出器２４に結像する。これにより、光検出器２４の検出信号に基づいて、光ディスク１１の高密度記録層の記録信号が検出され、再生信号が生成される。

その際、信号復調器１５は、光検出器２４からの検出信号から、適宜の方法によってトラッキングエラー信号及びフォーカスエラー信号を検出する。そして、サーボ回路１９は、光ディスクドライブコントローラ１４を介して、サーボ制御を行ない、光学ピックアップ２０の対物レンズ２３のフォーカシング及びトラッキングが行なわれる。

また、光ディスク１１の低密度記録層の再生を行なう場合には、以下のようにして行なわれる。即ち、低密度記録層の再生の場合と同様にして、光ディスク１１が回転駆動され、光学ピックアップ２０によるアクセスが行なわれる。

そして、光学ピックアップ２０において、光源２１からの波長６５０ｎｍの光ビームは、ビームスプリッタ２２を透過し、対物レンズ２３により、光ディスク１１の第二のディスク基板３２の低密度記録層に集束される。この場合、対物レンズ２３は、この低密度記録層に対して、波長６５０ｎｍでＮ．Ａ．＝０．６０プラスマイナス０．０５となるように、設計されている。
この場合、Ｎ．Ａ．が上記条件から外れると、低密度記録層に照射される光ビームが球面収差の影響を受けて歪んでしまう。

そして、光ディスク１１の低密度記録層からの信号を含んだ戻り光は、再び対物レンズ２３を介して、ビームスプリッタ２２に入射する。そして、ビームスプリッタ２２の半透過膜２２ａで反射され、光検出器２４に結像する。これにより、光検出器２４の検出信号に基づいて、光ディスク１１の低密度記録層の記録信号が検出され、再生信号が生成される。
そして、信号復調器１５は、光検出器２４からの検出信号から、適宜の方法によってトラッキングエラー信号及びフォーカスエラー信号を検出する。そして、サーボ回路１９は、光ディスクドライブコントローラ１４を介して、サーボ制御を行ない、光学ピックアップ２０の対物レンズ２３のフォーカシング及びトラッキングが行なわれる。

このようにして、光ディスク１１は、その高密度記録層及び低密度記録層を備えていることにより、低密度記録層が従来の例えば波長７８０ｎｍの光ビームを利用した光ディスク装置によって再生可能であると共に、高密度記録層が、例えば波長４１０ｎｍの光ビームを利用した新規の専用光ディスク装置によって再生可能である。このため、例えば高密度記録層と低密度記録層に同じ内容の情報を記録すると、どちらの再生装置も使用できる。

図４は、本発明による光ディスクの第二の実施形態を示している。図４において、光ディスク４０は、図３に示した光ディスク１１と同様に、二枚のディスク基板４１，４２と、これらのディスク基板４１，４２を貼り合わせるための透明接着層４３とから構成されている。

第一のディスク基板４１は、図３における第一のディスク基板３１と同様に、その内側面（図４にて下面）が、情報に対応した凹凸形状に形成された後、その上に、半透明性の反射膜４４が形成されている。第二のディスク基板４２は、その上側と下側の面が、情報に対応した凹凸形状に形成された後、図４において上側の面に半透明の反射膜４５が、下側の面には全反射膜４６が形成されている。

さらに、上記反射膜４４による第一の情報記録層が、高密度記録層として、反射膜４５による第二の情報記録層が、中密度記録層として、また反射膜４６による第三の情報記録層が、低密度記録層として、それぞれ構成されている。ここで、上記反射膜４４による第一の情報記録層は、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成されている。
また、上記反射膜４５による第二の情報記録層は、６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．６プラスマイナス０．０５の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成されている。これに対して、上記反射膜４６による第三の情報記録層は、７７０ｎｍ≦λ≦８３０ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．４５プラスマイナス０．０５の光学パラメータで再生されるように構成されている。

さらに、上記反射膜４４は、好ましくはＳｉ化合物から構成されており、３８０ｎｍ≦λ≦４６０ｎｍにおける反射率が１０％以上で、６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍにおける透過率が４０％以上、且つ７７０ｎｍ≦λ≦８３０ｎｍにおける透過率が６０％以上であるように、構成されている。また、上記反射膜４５は、好ましくはＳｉ化合物から構成されており、６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍにおける反射率が２０％以上で、７７０ｎｍ≦λ≦８３０ｎｍにおける透過率が６０％以上であるように、構成されている。
これに対して、上記反射膜４６は、７７０ｎｍ≦λ≦８３０ｎｍにおける反射率が６０％以上であるように、構成されている。

ここで、反射膜４４の反射率が４０％未満であると、第一の情報記録層からの戻り光の光量が不足することになり、第一の情報記録層の再生特性が劣化してしまうことになり、その透過率が６０％未満であると、第二及び第三の情報記録層への照射光量そして戻り光の光量が不足することになり、第二及び第三の情報記録層の記録及び／または再生特性が劣化してしまうことになる。
また、反射膜４５の反射率が２０％未満であると、第二の情報記録層からの戻り光の光量が不足することになり、第二の情報記録層の再生特性が劣化してしまうことになり、その透過率が６０％未満であると、第三の情報記録層への照射光量そして戻り光の光量が不足することになり、第三の情報記録層の再生特性が劣化してしまうことになる。
さらに、反射膜４６の反射率が６０％未満であると、第三の情報記録層からの戻り光の光量が不足することになり、第三の情報記録層の再生特性が劣化してしまうことになる。

さらに、上記第一の情報記録層は、０．３０μｍ≦トラックピッチ≦０．７０μｍで且つ０．１５μｍ≦最短ピット長≦０．４０μｍのピットパラメータである。また、上記第二の情報記録層は、０．７０μｍ≦トラックピッチ≦０．８０μｍで且つ０．４０μｍ≦最短ピット長≦０．４５μｍのピットパラメータである。これに対して、上記第三の情報記録層は、１．４０μｍ≦トラックピッチ≦１．７０μｍで且つ０．８０μｍ≦最短ピット長≦１．０μｍのピットパラメータである。
ここで、上記トラックピッチの決定等の理由は第１の実施形態の場合と同様であり、また、半透明（半透過）反射膜の組成や設計手法も第１の実施形態と同様である。

上記透明接着層４３は、例えば１０乃至１００μｍの厚さに選定されている。これにより、第一のディスク基板４１の第一の情報記録層と第二のディスク基板３２の第二の情報記録層が、互いに適宜の間隔で隔置されることになり、各記録層に対して光学ピックアップ２０の光源２１からの光ビームが確実に焦点を結ぶようになっている。
ここで、上記厚さが下限未満であると、第一及び第二の情報記録層の間隔が狭過ぎることにより、それぞれ所定の波長の光ビームが照射されたとき、他方の記録層からの戻り光が発生することになり、再生特性が劣化してしまうことになる。
また、上記厚さが上限を越える場合には、第二及び第三の情報記録層に対する光ビームがこの透明接着層を透過する際に、光量が低下することになり、第二及び第三の情報記録層への照射光量そして戻り光の光量が不足することになり、記録及び／または再生特性が劣化してしまうことになる。

このような構成の光ディスク４０によれば、従来の波長７８０ｎｍの光ビームを利用する光ディスク装置によって、第二のディスク基板に設けられた第三の情報記録層が再生され、波長６３５ｎｍまたは６５０ｎｍの光ビームを利用する光ディスク装置によって、第二のディスク基板に設けられた第二の情報記録層が再生されると共に、波長４１０ｎｍの光ビームを利用する新規の光ディスク装置によって、第一のディスク基板４１の内側面に設けられた第一の情報記録層が再生されることになる。

尚、上記光ディスク４０において、第二の情報記録層が、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータ、または６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．６プラスマイナス０．０５の光学パラメータで再生されるように構成されていてもよい。この場合、第二の情報記録層が、第一の情報記録層の再生のための光ビームと同じ波長４１０ｎｍの光ビームによって再生されると共に、従来の波長６３５ｎｍまたは６５０ｎｍの光ビームによる中密度記録光ディスク用の光ディスク装置によっても再生可能である。

さらに、上記光ディスク４０においては、第三の情報記録層が、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータ、または６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．６プラスマイナス０．０５の光学パラメータ、あるいは７７０ｎｍ≦λ≦８３０ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．４５プラスマイナス０．０５の光学パラメータで再生されるように構成されていてもよい。
この場合、第三の情報記録層が、第一の情報記録層または第二の情報記録層の記録及び／または再生のための光ビームと同じ波長４１０ｎｍまたは６３５ｎｍ，６５０ｎｍの光ビームによって再生されると共に、従来の波長７８０ｎの光ビームによる低密度記録光ディスク用の光ディスク装置によっても再生可能である。

また、上記実施形態においては、光ディスク装置１０は、再生専用の光ディスク装置の動作説明をしているが、これに限らず、光ディスク１１の高密度記録層及び中密度記録層に対して記録及び／または再生を行なうように構成された記録再生用光ディスク装置であってもよいことは明らかである。さらに、光ディスク１１の高密度記録層に関しては、再生専用であり、中密度記録層及び低密度記録層に対しては記録及び再生を行なうような構成の光ディスク装置であってもよいことは明らかである。

上述したように、本発明によれば、低密度記録と高密度記録の両方に対応でき、あるいはこれらと中密度記録に全て対応できるようにした、二枚のディスク基板の貼り合わせによる二層または三層式の光ディスク及びこの光ディスクの記録・再生のための光ディスク装置を提供することができるものである。

本発明による光ディスクの光ディスク装置の構成を示す概略図である。 図１の光ディスク装置における光学ピックアップの構成を示す概略図である。 本発明による光ディスクの第一の実施形態を示す部分拡大断面図である。 本発明による光ディスクの第二の実施形態を示す部分拡大断面図である。

符号の説明

１０・・・光ディスク装置、１１・・・光ディスク、１２・・・スピンドルモータ、１３・・・制御部、１４・・・光ディスクトライブコントローラ、１５・・・信号復調器、１６・・・誤り訂正回路、１７・・・インターフェイス、１８・・・ヘッドアクセス制御部、２０・・・光学ピックアップ、２１・・・光源（半導体レーザ素子）、２２・・・ビームスプリッタ、２３・・・対物レンズ、２４・・・光検出器、３１，３２，４１，４２・・・ディスク基板、３３，４３・・・透明接着層、３４，３５，４４，４５・・・半透過性反射膜、４０・・・光ディスク、４６・・・反射膜

Claims (7)

1. 透明合成樹脂から成る円板状のディスク基板であって、情報に対応した凹凸形状が一面に形成され、その上に半透明性の第１の反射膜が形成されることにより第１の情報記録層が形成された第１のディスク基板と、
   透明合成樹脂から成る円板状のディスク基板であって、情報に対応した凹凸形状が一面に形成され、その上に第２の反射膜が形成されることにより第２の情報記録層が形成された第２のディスク基板と、
   上記第１及び第２の情報記録層が互いに内側に位置するように上記第１及び第２のディスク基板を貼り合わせる透明接着層とを含んでいる光ディスクであって、
   上記第１及び第２の情報記録層のうちの一方が、他方に比較して高密度であって、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成されると共に、
   上記第１及び第２の情報記録層のうちの他方が、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータ、または６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．６プラスマイナス０．０５の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成されることを特徴とする光ディスク。
2. 上記第１及び第２の情報記録層のうちの一方が、０．３０μｍ≦トラックピッチ≦０．７０μｍで且つ０．１５μｍ≦最短ピット長≦０．４０μｍのピットパラメータであって、
   上記第１及び第２の情報記録層のうちの他方が、０．７０μｍ≦トラックピッチ≦０．８０μｍで且つ０．４０μｍ≦最短ピット長≦０．４５μｍのピットパラメータであることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク。
3. 上記第１及び第２の情報記録層を構成するためのピットパラメータは、ＤＶＤディスクに適用される光学パラメータに基づいて設定されることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク。
4. 上記第１の反射膜は、３８０ｎｍ≦λ≦４６０ｎｍにおける反射率が１０％以上で、且つ６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍにおける透過率が４０％以上となるように構成され、上記第２の反射膜は、６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍにおける反射率が２０％以上となるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク。
5. 上記第１及び第２の反射膜が、Ｓｉ化合物から構成されていることを特徴とする請求項４に記載の光ディスク。
6. 上記透明接着層が、１０乃至１００μｍの厚さであることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク。
7. 透明合成樹脂から成る２枚の円板状のディスク基板の一面に、情報に対応した凹凸形状を形成し、
   形成された上記凹凸形状の上に半透明性の反射膜を形成することにより、上記２枚のディスク基板の一方に第１の情報記録層を、他方に第２の情報記録層を形成し、
   上記第１及び第２の情報記録面が形成された面を内側にして上記２枚のディスク基板を透明接着層によって貼り合わせるとともに、
   上記第１及び第２の情報記録層のうちの一方が、他方に比較して高密度であって、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成し、上記第１及び第２の情報記録層のうちの他方が、λ≦４６０ｎｍで且つＮ．Ａ．≧０．６の光学パラメータ、または６１５ｎｍ≦λ≦６５５ｎｍで且つＮ．Ａ．＝０．６プラスマイナス０．０５の光学パラメータで記録及び／または再生されるように構成することを特徴とする光ディスクの形成方法。

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