JP2005274473A - レンズメータ - Google Patents

Abstract

【課題】レンズの屈折度数が大きい場合でも測定不能な状態が生ぜず測定精度を向上させることができるレンズメータを提供すること。
【解決手段】光源からの測定光束を被検レンズに投影する投影光学系１と前記被検レンズを透過した測定光束を受光素子２に導く受光光学系３を有する測定光学系を備えている。しかも、前記測定光学系は、前記測定光束を複数の分割測定光束に分離するパターン板４と、前記受光光学系３に配設されて前記パターン板４で分離された複数の分割測定光束が投影されるスクリーン６と、前記受光光学系３に配設され且つ前記スクリーン６に投影された複数の分割測定光束の像（測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄ）を前記受光素子２に結像させる結像レンズ８を備えている。また、前記パターン板４で分離された複数の分割測定光束を前記スクリーン６に投影する位置を変更可能に、前記パターン板４と前記スクリーン６との相対距離を変更させる距離変更手段（送りネジ１１，パルスモータ１２，ガイド部材１３，ナット１５等により構成される送りネジ機構）が設けられている。
【選択図】 図１

Description

この発明は、測定光束を複数の分割測定光束に分離するパターン板、及び、複数の分割測定光束が投影されるスクリーンを用いて、被検レンズの屈折特性を測定するようにしたレンズメータに関するものである。

一般に、レンズメータは、光源からの測定光束を被検レンズに投影する投影光学系と、前記被検レンズを透過した測定光束を受光素子に導く受光光学系を有する測定光学系を備えている。

そして、この受光光学系が、測定光束を複数の分割測定光束に分離するパターン板と、前記パターン板で分離された複数の分割測定光束が投影されるスクリーンと、前記スクリーンに投影された複数の分割測定光束の像を前記受光素子に結像させる結像レンズを備えるレンズメータも知られている（例えば、特許文献１参照）。

このレンズメータでは、被検レンズが無い場合にスクリーンに投影される分割測定光束の基準パターン光束像間隔を予め求めておいて、被検レンズを透過してスクリーンに投影された分割測定光束の測定パターン光束像間隔が基準パターン光束像間隔に対してどの程度縮小又は拡大されているかで、被検レンズの各部の屈折特性を求めるようにしている。

このようなレンズメータでは、特別に度数が大きいレンズを除いて通常のレンズの屈折特性の測定ができるようになっている。例えば、従来のレンズメータでは、＋１０ディオプターから−１０ディオプターまでの範囲内で、被検レンズの屈折特性の測定が可能となっている。
特開平１０−１０４１２０号公報

ところで、このようなレンズメータでプラスレンズを測定する場合には、複数の分割測定光束が基準パターン光束像間隔に対して縮小した測定パターン光束像間隔でスクリーンに投影される。

このため、プラスレンズの屈折度数が大きい場合には、測定パターン光束像間隔が極端に狭くなり、測定パターン間隔の検出精度が低下し、球面度数や円柱度数の精度が低下するという問題があった。

また、マイナスレンズを測定する場合には、複数の分割測定光束が基準パターン光束像間隔に対して広がったパターン間隔でスクリーンに投影される。

このため、マイナスレンズの屈折度数が大きい場合には、測定パターン光束像間隔が極端に広がって、測定パターンがスクリーンからはみ出し、測定できない場合が生ずるという問題があった。

更に、例えば累進レンズ等を測定する場合、累進帯は遠用部や近用部よりも高い精度でパターン位置を検出して測定できるのが望ましい。

そこで、この発明は、レンズの屈折度数が大きい場合でも測定不能な状態が生ぜず測定精度を向上させることができるレンズメータを提供することを目的とするものである。

この目的を達成するため、請求項１の発明は、光源からの測定光束を被検レンズに投影する投影光学系と前記被検レンズを透過した測定光束を受光素子に導く受光光学系を有する測定光学系を備え、前記測定光学系は、前記測定光束を複数の分割測定光束に分離するパターン板と、前記受光光学系に配設されて前記パターン板で分離された複数の分割測定光束が投影されるスクリーンと、前記受光光学系に配設され且つ前記スクリーンに投影された複数の分割測定光束の像を前記受光素子に結像させる結像レンズを備えるレンズメータであって、前記パターン板で分離された複数の分割測定光束を前記スクリーンに投影する位置を変更可能に、前記パターン板と前記スクリーンとの相対距離を変更させる距離変更手段が設けられていることを特徴とする。

この構成によれば、距離変更手段により前記パターン板と前記スクリーンとの相対距離を変更させることで、レンズの屈折度数が大きい場合でも測定不能な状態が生ぜず測定精度を向上させることができる。

即ち、プラスレンズの屈折度数が大きく測定パターン光束像間隔が極端に狭くなるような場合には、前記パターン板と前記スクリーンとの相対間隔を大きくして、測定パターン光束像間隔を広げることで、測定パターン間隔の検出精度を向上させることができる。

また、マイナスレンズの屈折度数が大きく、測定パターン光束像間隔が極端に広がって、測定パターンがスクリーンからはみ出すような場合には、前記パターン板と前記スクリーンとの相対間隔を小さくして、測定パターン光束像間隔を狭めることで、測定パターンがスクリーンからはみ出ないようにして、検出精度を向上させることができる。

更に、累進レンズ等を測定する場合にも、累進帯を遠用部や近用部よりも高い精度でパターン位置を検出して測定できる。

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。

図１において、レンズメータの測定光学系は、図示しない光源からの測定光束を被検レンズＬに投影する投影光学系（照明系）１と、測定光束を受光するＣＣＤ等の受光素子（エリアセンサ）２と、 被検レンズＬを透過した測定光束を受光素子２に導く受光光学系３を有する。

この受光光学系３は、測定光束を多数の分割測定光束に分離するパターン板４と、パターン板４上に一体に設けられた軸状のレンズ受（レンズ受軸）５を有する。このレンズ受５は、複数あっても良いし、一つであっても良い。レンズ受５が一つの場合には、被検レンズＬを上から押さえるレンズ押さえを設けたり、被検レンズＬを側面方向から挟持するようにしたりする。この構成には周知の技術を採用できる。

また、パターン板４には、図２に示したように、正方形のコーナに対応する位置に配置された４つの光透過部４ａが形成されている。尚、図２ではパターン板４に光透過部４ａを４つ設けたもので説明しているが、このパターン板４には縦横に多数の光透過部を設けたハルトマンプレートを用いることもできる。

更に、受光光学系３は、分割測定光束が投影されるスクリーン６と、スクリーン６に投影された測定パターンからの光束を集光させるフィールドレンズ７と、フィールドレンズ７で集光された光束を受光素子２に結像させる結像レンズ８を有する。尚、パターン板４，スクリーン６，フィールドレンズ７はこの順に下方に向けて配列されている。

そして、受光光学系３の側方には、一対の軸受９，１０が測定光軸Ｏに沿う方向に間隔をおいて配設されている。この軸受９，１０はレンズメータの図示しないフレームに取り付けられている。

この軸受９，１０には、軸線Ｏ１を測定光軸Ｏと平行に配設した送りネジ１１が回転自在に保持されている。また、この送りネジ１１は、フレーム（図示せず）に固定したパルスモータ（駆動手段）１２により回転駆動されるようになっている。

しかも、送りネジ１１の側方には、送りネジ１１に沿って延びるガイド部材１３が配設されている。このガイド部材１３には、送りネジ１１に沿って延びるガイド溝（キー溝）１４が形成されている。尚、ガイド部材１３は、図示しないフレームに固定されている。

また、送りネジ１１にはナット１５が螺着され、ナット１５にはガイド溝１４に係合するガイド突部１６が一体に設けられている。このガイド突部１６は、ガイド溝１４内を長手方向に移動可能に設けられていて、ナット１５の回転を規制している。この構成により、パルスモータ１２を正転又は逆転させることにより、送りネジ１１が正転又は逆転して、ナット１５が送りネジ１１により図１中上下（軸線方向）に進退駆動されるようになっている。

しかも、このナット１５と一体のアーム１４ａには上述したスクリーン６が保持されている。さらに、ガイド部材１３には、「０」位置検出センサ１７が取り付けられている。この「０」位置検出センサ１７としては、光センサ，近接センサ，マイクロスイッチ等何れのセンサを用いても良い。

そして、上述した受光素子２からの測定信号及び「０」位置検出センサ１７からの検出信号は演算制御回路１８に入力されるようになっている。また、演算制御回路１８は、パルスモータ１２を作動制御するようになっている。尚、１９は演算制御回路１８に接続された測定スイッチである。

次に、このような構成のレンズメータの作用を説明する。

上述した演算制御回路１８は、図示しない電源をＯＮさせると、パルスモータ１２を回転制御して、ナット１５を「０」位置検出センサ１７側に移動させる。この移動に伴い、「０」位置検出センサ１７がガイド突部１６を検出すると、「０」位置検出センサ１７から検出信号が演算制御回路１８に入力される。そして、演算制御回路１８は、「０」位置検出センサ１７から検出信号が入力されると、パルスモータ１２を停止させる。

この後、演算制御回路１８は、パルスモータ１２を上述とは逆方向に駆動制御して、ナット１５を図１中下方に所定量移動させて、ナット１５と一体に移動するスクリーン６を測定基準位置に移動させる。
＜予備測定＞
一方、レンズ受５上に被検レンズＬを載置して、従来周知の方法で被検レンズＬをレンズ受５上に安定支持させて、測定スイッチ１９をＯＮさせる。そして、演算制御回路１８は、測定スイッチ１９がＯＮされたときに、スクリーン６が測定基準位置に移動させられていれば、被検レンズＬの屈折特性の仮測定を開始する。

即ち、演算制御回路１８は、スクリーン６が測定基準位置に移動させられていれば、測定スイッチ１９をＯＮさせると、仮測定のために投影光学系１からの測定光束（平行光束）２０を図３（ａ），図４（ａ）の如く被検レンズＬに投影する。

この被検レンズＬに投影された測定光束２０は、被検レンズＬにより屈折させられた後、パターン板４の複数の光透過部４ａにより複数の分割測定光束２１に分離される。

尚、図３（ａ）は被検レンズＬがプラスレンズの場合を示し、図４（ａ）は被検レンズＬがマイナスレンズの場合を示したものである。従って、図３（ａ）の場合には複数の分割測定光束２１が接近する方向に屈折させられ、又、図４（ａ）の場合には複数の分割測定光束２１が互いに離反する方向に屈折させられる。

そして、分離された複数の分割測定光束２１はスクリーン６に投影されて、図３（ｂ），図４（ｂ）の如くスクリーン６に測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄが形成される。このスクリーン６に投影された分割測定光束の測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄは、フィールドレンズ７を介して集光されて、結像レンズ８により受光素子２に結像される。

この受光素子２は、測定信号を演算制御回路１８に入力させる。この演算制御回路１８は、入力される測定信号から複数の測定光束パターン像のアドレスを検出して、このアドレスから測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔を求める。

尚、２２ａ〜２２ｄは測定光学系に被検レンズＬが配設されていない場合の基準光束パターン像である。

このような予備測定において、被検レンズＬがプラスレンズの場合、スクリーン６が図３（ａ）の（ａ１）の位置にあって、図３（ｂ）の如く測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔が狭いとき、受光素子２の画素の大きさによっては高い測定精度が得られないことも考えられる。

また、予備測定において、被検レンズＬがマイナスレンズの場合、スクリーン６が図４（ａ）の（ｂ１）の位置にあって、図４（ｂ）の如く測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔が広く、スクリーン６の周縁部にあるか、スクリーン６から外れた場合に、受光素子２により測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄが正確に検出されないか、全く検出できないこともある。
＜本測定＞
上述のように予備測定において、被検レンズＬがプラスレンズの場合であって、図３（ｂ）の如く測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔が狭い場合がある。この場合に演算制御回路１８は、パルスモータ１２を駆動制御して送りネジ１１を回転させ、ナット１５を「０」位置検出センサ１７側に移動させ、スクリーン６をパターン板４に近くなる方向に移動させる制御を行う。

即ち、演算制御回路１８は、例えば図３（ａ）の（ａ２）の位置又は（ａ３）の位置にパターン板４を移動させることで、測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔を広げさせる。これにより、測定精度を向上させることができる。

また、予備測定において、演算制御回路１８は、被検レンズＬがマイナスレンズの場合であって、図４（ｂ）の如く測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔が広く、測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄがスクリーン６の周縁部にある場合、測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄを受光素子２が正確に測定できないと判断する。また、分割測定光束２１がスクリーン６から外れている場合には、測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄを受光素子２が検出できない。

このような場合、演算制御回路１８は、パルスモータ１２を駆動制御して送りネジ１１を回転させ、ナット１５を「０」位置検出センサ１７側に移動させ、スクリーン６をパターン板４に近くなる方向に移動させて、測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄがパターン板４上の測定可能な位置に投影されるようにする。

即ち、演算制御回路１８は、例えば（ａ２）の位置又は（ａ３）の位置にパターン板４を移動させることで、測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔を狭めて、測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄがパターン板４上の測定可能な位置に投影されるようにする。

そして、演算制御回路１８は、このようなパターン板４の移動位置（ａ２），（ａ３）又は（ｂ２），（ｂ３）と測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔から測定光束２１の傾斜を求め、パターン板４が基準測定位置（ａ１）又は（ｂ１）にあるときの測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔を求め、この測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄの間隔と基準光束パターン像２２ａ〜２２ｄの間隔とから被検レンズＬの屈折特性を求める。
[変形例１]
以上説明した実施例では、スクリーン６を測定光軸Ｏの延びる方向に移動させるようにしたが、必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、パターン板４を上述した送りネジ機構で測定光軸Ｏの延びる方向に移動制御することにより、上述と同様にパターン板４とスクリーン６との相対距離を変化させることもできる。
[変形例２]
また、図５に示したように、測定基準位置に配置したスクリーン６と、測定光軸Ｏに沿ってパターン板４側に間隔をおいて配置したスクリーン６ａ，６ｂをソレノイドＳ，Ｓａ，Ｓｂ等で測定光路に対して出し入れ可能に設けると共に、演算制御回路１８によりソレノイドＳ，Ｓａ，Ｓｂを作動制御して、スクリーン６，６ａ，６ｂのいずれか一つを測定光路内に配置するようにしても良い。
[変形例３]
また、図６に示したように、スクリーン６をピエゾ素子（圧電素子）２３により支持させ、演算制御回路１８によりピエゾ素子（圧電素子）２３に印加する電圧を変化させて、スクリーン６の高さを破線で示したように変えることにより、スクリーン６とパターン板４との相対距離を変化させるようにしても良い。
[変形例４]
更に、図７に示したように複数の液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃを測定光路内に配置すると共に、液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃを測定光軸Ｏに沿う方向に間隔をおいて配設した構成とすることもできる。

この場合、通常は液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃは透明となっていて、光束を透過可能なものが用いられる。そして、液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃは演算制御回路１８から図示しない透明電極に電圧が印加されると、スクリーンとして機能するものが用いられる。

そして、演算制御回路１８は、液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれか一つに電圧を印加して、液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃの一つをスクリーンにするようになっている。
[変形例５]
また、図１に示したパターン板４を図８に示したような多数の光透過部２４ａが設けられたハルトマンプレートとすることができる。この場合、パターン板４の中央部の例えば斜線で示した４つの光透過部２４ａは可視光及び赤外光の両方を透過可能に設け、他の光透過部２４ａは可視光のみを透過可能に設ける。しかも、投影光学系１は、赤外光と可視の測定光を投影可能に設ける。

そして、上述した演算制御回路１８は、スクリーン６をパターン板４側に移動させるか否かを判断するために、先ず赤外光による予備測定を行うように設定する。

即ち、演算制御回路１８は、投影光学系１から赤外光を被検レンズＬに投影させて、被検レンズＬを透過した赤外光を中央部の斜線で示した４つの光透過部２４ａを透過させて分割測定光束とし、この透過した割測定光束をスクリーン６に投影させる。また、演算制御回路１８は、この投影された分割測定光束の像を受光素子２で検出させる。しかも、演算制御回路１８は、この受光素子２からの測定信号に基づいて、赤外光による４つの分割測定光束の像の間隔が狭過ぎるか広過ぎるかで、スクリーン６をパターン板４側に移動させるか否かを判断する。

そして、演算制御回路１８は、赤外光による４つの分割測定光束の像の間隔が狭過ぎるか広過ぎる場合には、図１に示した実施例と同様にして、スクリーン６をパターン板４側に移動させ、本測定を行うようになっている。
[変形例６]
また、演算制御回路１８は、受光素子２の周縁の画素がパターン板４による分割測定光束像を検出している場合、正確な測定ができないと判断して、図１に示した実施例と同様にして、スクリーン６をパターン板４側に移動させ、本測定を行うようにすることもできる。
[変形例７]
更に、演算制御回路１８は、変形例５のパターン板４を用いて測定された被検レンズが累進レンズであることを、屈折度のマッピングから知ることができる。この場合に演算制御回路１８は、図１の実施例と同様にスクリーン６をパターン板４側に移動させて、累進帯（累進部）の部分に投影される多数の分割測定光束の像から累進部の屈折特性を測定するように設定できる。

この場合には、演算制御回路１８は、累進帯（累進部）の部分に投影される多数の分割測定光束の像に対応する画素のみから測定信号を取り出して、屈折特性を求めることにより、遠用部から近用部に向かう累進帯（累進部）の部分の屈折度の変化を高精度で測定することができる。

以上説明したように、この発明の実施の形態のレンズメータは、光源からの測定光束を被検レンズに投影する投影光学系１と前記被検レンズを透過した測定光束を受光素子２に導く受光光学系３を有する測定光学系を備えている。しかも、前記測定光学系は、前記測定光束を複数の分割測定光束に分離するパターン板４と、前記受光光学系３に配設されて前記パターン板４で分離された複数の分割測定光束が投影されるスクリーン６と、前記受光光学系３に配設され且つ前記スクリーン６に投影された複数の分割測定光束の像（測定光束パターン像２１ａ〜２１ｄ）を前記受光素子２に結像させる結像レンズ８を備えている。また、前記パターン板４で分離された複数の分割測定光束を前記スクリーン６に投影する位置を変更可能に、前記パターン板４と前記スクリーン６との相対距離を変更させる距離変更手段が設けられている。

この距離変更手段は、図１の場合、送りネジ１１，パルスモータ１２，ガイド部材１３，ナット１５等により構成される送りネジ機構であっても良いし、図５に示したような複数のスクリーン６，６ａ，６ｂを測定光路に対して挿脱する構成であっても良い。また、距離変更手段は、図６に示した様なピエゾ素子を用いた構成であっても良いし、図７に示したような液晶表示器を用いた構成であっても良い。

この構成によれば、距離変更手段により前記パターン板４と前記スクリーン６との相対距離を変更させることで、レンズの屈折度数が大きい場合でも測定不能な状態が生ぜず測定精度を向上させることができる。

即ち、プラスレンズの屈折度数が大きく測定パターン光束像（２１ａ〜２１ｄ）の間隔が極端に狭くなるような場合には、前記パターン板と前記スクリーンとの相対間隔を大きくして、測定パターン光束像間（２１ａ〜２１ｄ）の隔を広げることで、測定パターン間隔の検出精度を向上させることができる。

また、マイナスレンズの屈折度数が大きく、測定パターン光束像（２１ａ〜２１ｄ）の間隔が極端に広がって、測定パターンがスクリーンからはみ出すような場合には、前記パターン板と前記スクリーンとの相対間隔を小さくして、測定パターン光束像（２１ａ〜２１ｄ）の間隔を狭めることで、測定パターンがスクリーンからはみ出ないようにして、検出精度を向上させることができる。

更に、累進レンズ等を測定する場合にも、累進帯を遠用部や近用部よりも高い精度でパターン位置を検出して測定できる。

また、この発明の実施の形態の前記距離変更手段は、前記スクリーン６を前記受光光学系の測定光軸Ｏに沿って移動調整させるスクリーン移動手段（送りネジ１１，パルスモータ１２，ガイド部材１３，ナット１５等により構成される送りネジ機構又はピエゾ素子２３）と、前記スクリーン移動手段（送りネジ１１，パルスモータ１２，ガイド部材１３，ナット１５等により構成される送りネジ構又はピエゾ素子２３）を作動制御する演算制御回路１８を有する。

この構成によれば、スクリーン６をパターン板４に対して無段階に接近・離反させることができるので、屈折特性の測定を向上させる最適な位置にスクリーン６を移動させることができる。

更に、この発明の実施の形態の前記距離変更手段は、前記パターン板４を前記測定光学系の測定光軸に沿って移動調整させるパターン板移動手段と、前記パターン板移動手段を作動制御する演算制御回路１８を有する。

この場合、送りネジ１１，パルスモータ１２，ガイド部材１３，ナット１５等により構成される送りネジ機構又はピエゾ素子２３等をパターン板移動手段とっして用いることができる。この構成においても、スクリーン６をパターン板４に対して無段階に接近・離反させることができるので、屈折特性の測定を向上させる最適な位置にスクリーン６を移動させることができる。

また、この発明の実施の形態において、前記スクリーン（６，６ａ，６ｂ）が複数前記受光光学系３の測定光軸Ｏに沿う方向に配列されていると共に、前記距離変更手段は、前記複数のスクリーン（６，６ａ，６ｂ）を前記受光光学系３の光路に対して挿脱するスクリーン挿脱手段（ソレノイドＳ，Ｓａ，Ｓｂ）と、前記スクリーン挿脱手段（ソレノイドＳ，Ｓａ，Ｓｂ）を作動制御して前記複数のスクリーン（６，６ａ，６ｂ）のいずれか一つを前記受光光学系３の光路に挿入する演算制御回路１８を有する。

この構成によれば、複数のスクリーン（６，６ａ，６ｂ）は決まった位置で受光光学系３の光路に対して挿脱されるので、屈折特性を求めるための演算式が予め設定されたものを用いることができ、容易に屈折特性を正確に高い精度で求めることができる。

また、この発明の実施の形態の前記スクリーン移動手段は印加される電圧で厚さを可変に設けられたピエゾ素子２３としている。

この構成によれば、簡単な構成でスクリーン６をパターン板４に対して高精度で無段階且つ迅速に進退移動制御できるので、屈折特性の測定を向上させる最適な位置にスクリーン６を迅速且つ正確に移動させることができる。

更に、この発明の実施の形態において、前記パターン板移動手段は印加される電圧で厚さを可変に設けられたピエゾ素子とすることができる。

即ち、スクリーン移動手段として用いたピエゾ素子２３をパターン板４の移動手段として用いることができる。この構成においても、簡単な構成でパターン板４をスクリーン６に対して高精度で無段階且つ迅速に進退移動制御できるので、屈折特性の測定を向上させる最適な位置にパターン板４を迅速且つ正確に移動させることができる。

また、この発明の実施の形態において、前記スクリーン６には通常状態で光透過可能に設けられ且つ電圧制御によりスクリーン状態となる液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃが用いられ、前記液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃは前記受光光学系３の測定光路内に測定光軸Ｏの延びる方向に間隔をおいて複数配設されている。しかも、前記距離変更手段は、前記複数の液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれか一つの電圧を選択的に制御を前記複数の液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれか一つを前記スクリーン状態にする演算制御回路１８とすることができる。

この構成によれば、複数のスクリーンとしての液晶表示器２４ａ，２４ｂ，２４ｃは受光光学系３の光路の決まった位置に配置されているので、屈折特性を求めるための演算式が予め設定されたものを用いることができ、容易に屈折特性を正確に高い精度で求めることができる。しかも、可動部が無いので測定精度の低下を確実に防止できる。

この発明のレンズメータの光学系の説明図である。 図１に示したパターン板の一例を示す平面図である。 （ａ）は図１のレンズメータの使用例を示す拡大説明図、（ｂ）は（ａ）のスクリーンの平面図である。 （ａ）は図１のレンズメータと被検レンズとの関係を示す拡大説明図、（ｂ）は（ａ）のスクリーンの平面図である。 この発明の変形例を示す部分説明図である。 この発明の他の変形例を示す部分説明図である。 この発明の他の変形例を示す部分説明図である。 この発明の他の変形例を示す部分説明図である。

符号の説明

１…投影光学系
２…受光素子
３…受光光学系
４…パターン板
６…スクリーン
６，６ａ，６ｂ…スクリーン
８…結像レンズ
１１…送りネジ
１２…パルスモータ
１３…ガイド部材
１５…ナット
２１ａ〜２１ｄ…測定光束パターン像（分割測定光束の像）
２３…ピエゾ素子
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ…液晶表示器（スクリーン）
Ｌ…被検レンズ
Ｏ…測定光軸
Ｓ，Ｓａ，Ｓｂ…ソレノイド（スクリーン挿脱手段）

Claims (5)

1. 光源からの測定光束を被検レンズに投影する投影光学系と前記被検レンズを透過した測定光束を受光素子に導く受光光学系を有する測定光学系を備え、
   前記測定光学系は、前記測定光束を複数の分割測定光束に分離するパターン板と、前記受光光学系に配設されて前記パターン板で分離された複数の分割測定光束が投影されるスクリーンと、前記受光光学系に配設され且つ前記スクリーンに投影された複数の分割測定光束の像を前記受光素子に結像させる結像レンズを備えるレンズメータであって、
   前記パターン板で分離された複数の分割測定光束を前記スクリーンに投影する位置を変更可能に、前記パターン板と前記スクリーンとの相対距離を変更させる距離変更手段が設けられていることを特徴とするレンズメータ。
2. 請求項１に記載のレンズメータにおいて、前記距離変更手段は、前記スクリーンを前記受光光学系の測定光軸に沿って移動調整させるスクリーン移動手段と、前記スクリーン移動手段を作動制御する演算制御回路を有することを特徴とするレンズメータ。
3. 請求項１に記載のレンズメータにおいて、前記距離変更手段は、前記パターン板を前記測定光学系の測定光軸に沿って移動調整させるパターン板移動手段と、前記パターン板移動手段を作動制御する演算制御回路を有することを特徴とするレンズメータ。
4. 請求項１に記載のレンズメータにおいて、前記スクリーンが複数前記受光光学系の測定光軸に沿う方向に配列されていると共に、前記距離変更手段は、前記複数のスクリーンを前記受光光学系の光路に対して挿脱するスクリーン挿脱手段と、前記スクリーン挿脱手段を作動制御して前記複数のスクリーンのいずれか一つを前記受光光学系の光路に挿入する演算制御回路を有することを特徴とするレンズメータ。
5. 請求項１に記載のレンズメータにおいて、前記スクリーンには通常状態で光透過可能に設けられ且つ電圧制御によりスクリーン状態となる液晶表示器が用いられ、前記液晶表示器は前記受光光学系の測定光路内に測定光軸の延びる方向に間隔をおいて複数配設されていると共に、
   前記距離変更手段は、前記複数の液晶表示器のいずれか一つの電圧を選択的に制御して前記複数の液晶表示器のいずれか一つを前記スクリーン状態にする演算制御回路であることを特徴とするレンズメータ。
   

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