JP2005268224A - 荷電粒子ビームシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空チャンバ308とは別に、圧力制限開口(オリフィス)312を有するイオン発生管310を提供する。イオン発生管310の圧力を十分に高く維持して、二次粒子320のガス分子との衝突を通してイオン314を発生することによって二次粒子信号を増幅するが、一方真空チャンバ308内の圧力は十分に低くして、LVSEMの作動圧力からチャンバを排気するのに必要な時間に比べて、システムを排気して非LVSEM荷電粒子ビームシステムが作動するのに適した圧力にするのに必要な時間を非常に短くする。
【選択図】 図3
Description
図10A乃至10Dは、図3に示されたようなシステムにおけるように、非液浸レンズ電子カラムを用いたイオン発生器の別の実施の形態を図示している。図示されたイオン発生器は、イオンの発生と試料へのストリーミングと、ワークピース撮像のための二次電子を検出することの双方ができる。それはワークピースでの圧力とイオン発生又は電子増倍若しくは化学処理のために使用されるガスに関して異なる圧力の迅速な変更及び/又は維持が望ましいデュアルビーム環境の基でよく作動する。それは、個別の圧力又はガス環境の維持が有益な他のシステムにも使用される。そのようなシステムは、SEMやLVSEMやFIBや他の撮像荷電粒子ビームシステムを有するがそれに限定されるものではない。
Claims (19)
- 荷電粒子ビームを発生する荷電粒子ビームカラムと、
荷電粒子ビームが向かって発射されるワークピースを内蔵するワークピース真空チャンバとからなる荷電粒子ビームシステムにおいて、
ワークピース真空チャンバから荷電粒子がイオン化チャンバ内に入ることを可能にする開口を設けたイオン化チャンバを有する荷電粒子検出器であって、
該イオン化チャンバが、
イオン化チャンバの内部領域を画定するイオン化チャンバ壁と、
ガスを該イオン化チャンバの内部領域に供給するガス取り入れ口と、
試料チャンバからの荷電粒子を加速するための前記イオン化チャンバ内の電極を有し、
前記開口が十分小さく、有前記ワークピース真空チャンバ内の圧力よりも相当大きな作動圧力であって、且つ、前記イオン化チャンバ内でガスイオン化カスケード効果を誘発する程十分高い作動圧力を前記イオン化チャンバ内で維持するものと、
前記電極に流れる電流であって、前記荷電粒子ビームの一次粒子の衝撃により前記ワークピースから放出された粒子に関連するものに基づいて撮像信号を発生する撮像システムを具備することを特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 更に、前記電極に流れる電流を増幅する増幅器を具備することを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記イオン化チャンバが、更に、前記イオン化チャンバ内で検出器電極と開口の間に取り付けられたチャンネル電極を有し、二次電子を前記検出器電極に向けて導くことを特徴とする請求項2に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記チャンネル電極がイオン化チャンバ壁の一部として形成されることを特徴とする請求項3に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記チャンネル電極が円錐形の形状をしていることを特徴とする請求項3又は4のいずれかに記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記チャンネル電極と前記検出器電極が電気的に互いに絶縁されていることを特徴とする請求項3乃至5のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記チャンネル電極が、更に、別々にバイアスを加えられた複数の電極素子からなることを特徴とする請求項3乃至6のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 更に、荷電粒子を前記開口に案内するために、前記開口の近くに磁界発生構造物を具備することを特徴とする請求項2乃至7のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 更に、荷電粒子を前記開口に案内するために、前記開口の近くに静電発生構造物を具備することを特徴とする請求項2乃至7のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記イオン化チャンバの内部領域には約10N/m2を越える圧力に維持されたイオン生成ガスを含み、前記ワークピース真空チャンバの圧力が約1.5N/m2未満の圧力に維持されることを特徴とする前記各請求項のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記イオン化チャンバの内部領域には約40N/m2を越える圧力に維持されたイオン生成ガスを含み、前記ワークピース真空チャンバの圧力が約0.1N/m2未満の圧力に維持されることを特徴とする前記各請求項のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記イオン化チャンバの内部領域には約50N/m2を越える圧力に維持されたイオン生成ガスを含み、前記ワークピース真空チャンバの圧力が約0.1N/m2未満の圧力に維持されることを特徴とする前記各請求項のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記イオン化チャンバからイオンを放出して試料の電荷の一部又はその全てを中和する電圧が前記イオン化チャンバに印加されていることを特徴とする前記各請求項のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記荷電粒子ビームを発生する荷電粒子ビームカラムが電子ビームを発射する集束イオンビームカラムを有することを特徴とする前記各請求項のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 更に、ワークピースに向かってイオンビームを発射する集束イオンビームカラムを具備し、イオンビームがエッチング又は堆積によりワークピースを変更し、電子ビームが二次粒子を検出してワークピースの像を形成することを特徴とする請求項14に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記イオン化チャンバがイオン化チャンバの長手方向の軸を有し、
前記荷電粒子ビームが光学軸を有し、
前記イオン化チャンバの長手方向の軸が前記光学軸と共軸でないことを特徴とする前記各請求項のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。 - 前記イオン化チャンバが光学軸の一部を実質的に囲繞し、前記イオン化チャンバが荷電粒子ビームの通路のための開口を有することを特徴とする前記請求項1乃至15のうちのいずれか1項に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 前記チャンネル電極が上向きの漏斗形状の電極と下向きの漏斗形状の電極を有し、両方の漏斗形状の電極が光学軸に同軸であることを特徴とする請求項17に記載の荷電粒子ビームシステム。
- 更に、二次電子をイオン化チャンバに入れる程十分に大きいがイオン化チャンバの圧力をワークピース真空チャンバの圧力に比べてはるかに高く維持するほど小さい環状の開口を有する円筒形の電極を有することを特徴とする請求項17又は18に記載の荷電粒子ビームシステム。
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