JP2005235677A - プラズマ発生装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】
確実にプラズマを発生させ、その状態を安定に保つことが可能なプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】
高周波電源2を設けてプラズマ18が着火した際の空洞共振器の共振周波数に一致した発振周波数を供給し、チューナー7は高周波電源2の発振周波数において高周波電源2とプラズマ18が着火したチャンバー5との整合をとるように設定する。チャンバー5への電力供給は高周波電源1と高周波電源2から略同時に行い、プラズマ18が着火した際に高周波発生源3への反射波電力が大きくなることを検波器10で検知して制御器12は高周波電源1からの供給電力を低下または停止するように制御を行う。高周波電源2はプラズマ18が着火した際に高周波発生源4への反射波電力が小さくなることを検波器11で検知して制御器12はプラズマ18が所定の状態になるように供給電力を制御する。

【選択図】 図1

Description

本発明は電磁波を用いてプラズマを発生させるプラズマ発生装置に係り、特に、プラズマの安定化を可能とするプラズマ発生装置に関する。
従来技術の動作を説明する。高周波発振源で発生した高周波は導波管により伝送され、空洞共振器に供給される。次いで空洞共振器の内部寸法によって定まる空洞共振器の共振周波数と高周波周波数が一致することにより、空洞共振器に高い電界が発生する。空洞共振器に発生した電界は空洞共振器に開けられた結合孔から誘電体部品を経て処理室に加えられ、処理室にプラズマが発生し、被処理基板をプラズマ処理する。
特開平4−358078
しかしながら、従来の技術では、空洞共振器の寸法で決定する共振周波数と高周波周波数とを一致させることで処理室に高い電界を加えてプラズマを発生させているが、処理室と空洞共振器が結合孔と誘電体部品で結合しているため、プラズマ発生後の空洞共振器の共振周波数は高周波周波数とは一致せず、処理室に高い電界を加え続けることはできなかった。
また、高周波発生源と空洞共振器間に整合器を設置し、インピーダンス整合を変更することによりプラズマ着火前後の共振周波数の変化に伴うインピーダンス変化に対応している技術もあるが、共振周波数と高周波周波数が一致していない状態であるため、整合器の整合状態を高精度に調整する必要性がある。また、場合によっては整合が取れず高周波発振源から空洞共振器に入力した高周波電力が反射するため、電力効率が低下し、大電力を高周波発振源から入力しないとプラズマ密度を上げることが出来ない。
本発明の目的は、チャンバー内に構成した空洞共振器の共振周波数と略一致した発振周波数を高周波電源から供給するプラズマ発生装置において、プラズマ着火前後の空洞共振器の共振周波数と一致した高周波電源の出力をそれぞれ入力し、確実にプラズマを発生させ、その状態を安定に保つことが可能なプラズマ発生装置を提供することにある。
上記目的を達成すべく請求項1記載のプラズマ発生装置は、プラズマ着火前後の空洞共振器の共振周波数f1及びf2を略同時に空洞共振器に注入させプラズマを発生させる。
上記目的を達成すべく請求項2記載のプラズマ発生装置は、プラズマが着火に必要とされる着火時間をあらかじめ制御器に入力し、前記着火時間を検知した際に前記高周波電源より供給される前記共振周波数の一方を停止させる機能を備えた。
上記目的を達成すべく請求項3記載のプラズマ発生装置は、プラズマの着火を検知するセンサーを備えた請求項1記載のプラズマ発生装置。
上記目的を達成すべく請求項4記載のプラズマ発生装置は、プラズマの着火前後における反射波電力変化を検波器にて感知した際、前記高周波電源より供給される前記共振周波数の一方を停止させる機能を備えた請求項1記載のプラズマ発生装置。
上記目的を達成すべく請求項5記載のプラズマ発生装置は、高周波電源がソリッドステートで構成されたことを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載のプラズマ発生装置
上述の通り、本発明によれば、プラズマ着火前後の周波数f1とf2がほぼ同時に空洞共振器内部に放出されるため、発生したプラズマが失火することなく確実にその状態を安定に保つことが可能なプラズマ発生装置を提供することができる。
請求項2または3記載の発明により、プラズマ着火後においてプラズマ着火前に必要であった共振周波数を停止させることが可能となり、装置の低電力化につながる。
請求項4記載の発明により、常に空洞共振器に高周波電力を最大効率で供給でき、かつ、瞬時に高密度な電子密度を有するプラズマを形成することが可能となり、かつ、空洞共振器に共振周波数を機構的に調整する手段を用いずに空洞共振器の共振状態を利用したプラズマ発生装置を実現することが可能となる。
請求項5記載の発明により、空洞共振器の寸法精度、誘電体部品、空洞共振器内プラズマ処理物などによる共振周波数のばらつきに対し高周波発振源の発振周波数を調整して共振周波数と発振周波数とを一致することが可能となり、かつ、出力電力値が変化しても発振周波数が変化することが無いため、安定したプラズマを形成することが可能となる。
発明を実施するための最良の形態・実施例
以下、本発明について、図面に示す実施例を参照して詳細に説明する。図1に本発明の第1の実施例を示す。図1において1と2は高周波電源、3と4は高周波発生源、5は高周波電源から電力を供給されるチャンバー、6は高周波発生源3とチャンバー5との整合を取る為のチューナー、7は高周波発生源4とチャンバー5との整合を取る為のチューナー、8は高周波発生源3とチャンバー5間の進行波電力と反射波電力を検出する方向性結合器、9は高周波発生源4とチャンバー5間の進行波電力と反射波電力を検出する方向性結合器、10は方向性結合器8からの進行波電力と反射波電力を検波する検波器、11は方向性結合器9からの進行波電力と反射波電力を検波する検波器、12は検波器10と検波器11からの検波値を元に高周波発生源3と高周波発生源4とチューナー6とチューナー7またはそのいずれかに制御信号を送る制御器、13は高周波電源1からの電力をチャンバー5に入力するアンテナ、14は高周波電源2からの電力をチャンバー5に入力するアンテナ、15と16はチャンバー5の気密性を保つ為の誘電体部品、17は高周波電源1または2の周波数で共振しプラズマが発生する空洞共振器、18はチャンバー5内で発生するプラズマである。
空洞共振器17はアンテナ13と14の長さ方向を軸とする円筒状にチャンバー5から削りだしすることにより形成し、その空洞共振器の内径寸法(半径a)は図2に示すような空洞共振器のTM010モードが発生するための共振周波数fres=c×p‘01/2πa(ε1/2から求めた値とする(c:光速、p’01:ベッセル関数の根p‘01=2.405、ε:チャンバー内充填ガスの比誘電率)。高周波電源1の発振周波数は空洞共振器17の共振周波数と等しくなるように高周波電源の発振周波数または空洞共振器17の共振周波数を調整する。チューナー6は高周波電源1の発振周波数で高周波電源1とチャンバー5との整合するように設定を行う。これにより高周波電源1はプラズマ18が着火する前のチャンバー5に効率よく電力を供給可能となる。不図示のガス供給装置から空洞共振器内に供給されるガスの比誘電率はプラズマ着火前では真空状態と略等しくεr=1でプラズマ18が着火すると1以下の値となる。つまり図3に示すように、プラズマ18が着火したときの上記空洞共振器17の共振周波数は着火前に対して高くなり、高周波電源の発振周波数と空洞共振器17の共振周波数は異なる値となると共に高周波電源1のチャンバー5に対する電力供給効率は低下し、更に高密度な電子密度を有するプラズマ18の状態では共振周波数が更に高くなるため、同一の発振周波数を用いた場合は非常に大きな電力を供給する、または、非常に高精度なチューナー6による整合を取るしか手段が無い。実際は空洞共振器17に供給される電力が不足するためこのような高密度なプラズマ18を実現することは不可能である。
上記理由より、図1の形態では高周波電源2を設けてプラズマ18が着火した際の空洞共振器の共振周波数に一致した発振周波数を供給し、チューナー7は高周波電源2の発振周波数において高周波電源2とプラズマ18が着火したチャンバー5との整合をとるように設定する。チャンバー5への電力供給は高周波電源1と高周波電源2から略同時に行い、プラズマ18が着火した際に高周波発生源3への反射波電力が大きくなることを検波器10で検知して制御器12は高周波電源1からの供給電力を低下または停止するように制御を行う。高周波電源2はプラズマ18が着火した際に高周波発生源4への反射波電力が小さくなることを検波器11で検知して制御器12はプラズマ18が所定の状態になるように供給電力を制御する。このように設計することにより、常にチャンバー5に高周波電力を最大効率で供給でき、かつ、瞬時に高密度な電子密度を有するプラズマ18を形成することが可能となり、かつ、チャンバー5に共振周波数を機構的に調整する手段を用いずに空洞共振器17の共振状態を利用したプラズマ発生装置を実現することが可能となる。
上記の高周波電源1と高周波電源2からの電力供給を可能とするために、チューナー6とチューナー7はそれぞれ高周波電源1の発振周波数と高周波電源2の発振周波数でのみ整合が取れている状態にする、またはプラズマ18が着火する前はチューナー7を高周波電源1から見て不整合状態に設定し、プラズマ18が着火した後はチューナー6を高周波電源2から見て不整合状態に設定するように上記制御器12の制御方法に従い制御を行う。このように設定することで、高周波電源1と高周波電源2相互に漏洩する電力を抑圧することが可能となり、高周波発生源1と高周波発生源2またはそのいずれかに必要なアイソレータ等の反射波電力や漏洩電力から保護する回路を取り除くまたは低電力仕様にすることが可能となり、コストを削減することが可能となる。
上記の高周波発生源3と高周波発生源4は従来のマグネトロン方式の高周波発生源以外に半導体部品で構成したソリッドステート方式の高周波発生源でも構成することが可能である。このように設計することにより、チャンバーの共振周波数に一致した発振周波数が実現可能となり、かつ、空洞共振器17の寸法精度や誘電体部品15や誘電体部品16や空洞共振器17内の不図示プラズマ処理物などによる共振周波数のばらつきに対し高周波発振源1と高周波発振源2またはそのいずれかの発振周波数を調整して共振周波数と発振周波数とを一致することが可能となり、かつ、出力電力値が変化しても発振周波数が変化することが無いため、安定したプラズマ18を形成することが可能となる。
上記の誘電体部品15と誘電体部品16は空洞共振器17内にTM01モードで電力を供給する電力伝送路としても機能しており、空洞共振器17と同様にアンテナ13またはアンテナ14の長さ方向を軸とする円筒形状に構成しており、誘電体部品15と誘電体部品16の内径(半径b)は高周波電源1の発振周波数f1=c×p‘01/2πb(ε1/2から(c:光速、p’01:ベッセル関数の根p‘01=2.405、ε:誘電体部品の比誘電率)求めた寸法とする。このように設計することにより、空洞共振器の共振モードTM010と図2に示すような電力供給モードTM01モードが一致しているため、アンテナ13またはアンテナ14からの供給する電力を効率よく空洞共振器に供給することが可能となる。更に、アンテナ13とアンテナ14はそれぞれ誘電体部品15と誘電体部品16に埋設するように設置する。このように設計することにより、誘電体部品15と誘電体部品16の空洞共振器側と高周波電源側との気圧差で誘電体部品15または誘電体部品16が歪むことを抑制することが可能となり、かつ、誘電体部品15と誘電体部品16の厚みを薄くすることができるため供給電力の効率化や誘電体部品の低コスト化が可能となる。
上記のアンテナ13とアンテナ14は長さ(長さL)がそれぞれ高周波電源1と高周波電源2の発振周波数fに対してL=c/(4×f×(ε)1/2)を満たす長さとし(c:光速、ε:チャンバー内充填ガスの比誘電率)、アンテナの長さ方向と円筒形状である空洞共振器17の軸方向と誘電体部品15の軸方向と誘電体部品16の軸方向とを略一致する方向になるように設置を行う。このように設計することにより、高周波電源1と高周波電源2どちらから電力を供給しても空洞共振器17内にTM010モードを共振することが可能となり、プラズマ18が着火する前後で電力供給を高周波電源1から高周波電源2に変化しても同様なプラズマ18を維持することが可能となる。
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明はこのような実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明の第2の実施形態を図4に示す。17はアンテナ13とアンテナ14との中点からアンテナ13またはアンテナ14の長さ方向を軸とする円筒状に形成した空洞共振器であり、図5に示すようなTM110モードが発生するための内径寸法に設計し、アンテナ13とアンテナ14は TM110モードに存在する2つの電界の中心にそれぞれアンテナの長さ方向が一致するように設置し、アンテナ13とアンテナ14をそれぞれ埋設する誘電体部品15と誘電体部品16は実施形態1と同様にTM01モードで電力を伝送するように設計する。このように設計することにより、高周波電源1と高周波電源2を同一方向に設置することが可能となり、装置全体をコンパクトに設置することが可能で、かつ、TM010モード用の空洞共振器17に対してTM110モードの空洞共振器17は内部容積が大きいため大容量のプラズマ18を生成することが可能で、かつ、実施形態1と同様の効果を奏する。
また、上記の実施形態では空洞共振器17の形状として、円筒形状を示したが、方形形状または球形形状を用い、空洞共振器17の共振モードに適合した誘電体部品15と誘電体部品16とアンテナ13とアンテナ14を用いても同様な効果を奏する。
また、上記の実施形態ではチャンバー5への電力供給手段として、高周波電源1と高周波電源2を用いことを示したが、複数の高周波電源を用いても同様な効果を奏する。
また、上記の実施形態ではチャンバー5への電力供給手段として、高周波電源1と高周波電源2を用いことを示したが、高周波電源1の高周波発振源3の発振周波数とチューナー6の整合を制御器12で制御しても同様な効果を奏する。
更に制御器12の動作に関わる第3の実施形態を図6に示す。19は制御器に時間情報を送るタイマーである。高周波電源1と高周波電源2からチャンバー5に電力を供給したタイミングでタイマー機能が作動し、あらかじめプラズマ18が着火に必要とする着火時間を制御器に入力し、タイマーからの時間情報が着火時間を検知したときに高周波発振源3と高周波発振源4とチューナー6とチューナー7またはそのいずれかに制御信号を送る。このような設計にすることにより、方向性結合器8と方向性結合器9と検波器10と検波器11を取り除くことが可能で、コストを削減することが可能となる。
更に制御器12の動作に関わる第4の実施形態を図7に示す。20は光センサーや静電プローブ等を利用したプラズマ感知センサである。高周波電源1と高周波電源2からチャンバー5に電力を供給することにより発生するプラズマ18をプラズマ感知センサ20で感知し、高周波発振源3と高周波発振源4とチューナー6とチューナー7またはそのいずれかに制御信号を送る。このような設計にすることにより、方向性結合器と検波器を取り除くことが可能で、コストを削減することが可能であり、かつ、プラズマ18の電子密度とイオン密度と電子温度などのプラズマパラメータを自動で取得することが可能となる。
更に高周波電源1の構成に関わる第5の実施形態を図8に示す。21は高周波発生源3と高周波発生源4からチャンバー5への電力供給経路を変えるスイッチ回路である。プラズマ18の着火前の状態では高周波発振源3からチャンバー5に電力を供給し、プラズマ18が着火前の空洞共振器17の共振周波数と一致した電力供給を行い、チューナー 6は高周波発振源3とチャンバー5との整合を取るように設定されており、プラズマ18が着火したことを検波器10で検知し、検波器10の検波値を元に制御器12はスイッチ回路21へ高周波発生源4にスイッチを切り替えるように制御信号を送り、チューナー6へは高周波発生源4とプラズマ18が着火した空洞共振器17との整合を取るように設定を変更するように制御信号を送り、高周波発生源3へは電力を抑圧または停止するように制御信号を送る。このように設計することにより、装置を簡略化できる。
更に制御回路12の制御方法に関する第6の実施形態を図9に示す。22は高周波発生源3への電力の逆流を抑圧するアイソレータ、23は高周波発振源4への電力の逆流を抑圧するアイソレータである。高周波電源1と高周波電源2のそれぞれ高周波発生源3と高周波発生源4との同期を制御器12で取り、同時にプラズマ18が着火する前の空洞共振器17の共振周波数と一致した発振周波数の電力をチャンバー5に供給する。この際チューナー6とチューナー7はそれぞれ高周波発生源3と高周波発生源4に対してチャンバー5と整合を取るように設定し、チューナー6とチューナー7を用いて高周波電源1と高周波電源2から供給される高周波電力に位相差を加えることによりチャンバー5内で高周波電力が強めあうように調節する。アイソレータ22とアイソレータ23は対角に存在する高周波電源2または高周波電源1から高周波発振源3または高周波発振源4へ逆流する電力を抑圧する。プラズマ18が着火した以降の高周波電源1と高周波電源2は位相差を保ちつつ空洞共振器17の共振周波数に一致するように制御器12により制御される。このように設計することにより、高周波電源1と高周波電源2それぞれの出力する電力を低減することができる、または、チャンバー5内に供給する電力を2倍に増加させることが可能となる。
以上、実施例に基づいて具体的に説明したように、本発明によれば、空洞共振器の共振周波数とほぼ一致した発振周波数を高周波電源から供給するプラズマ発生装置において、プラズマ着火前後の空洞共振器の共振周波数とほぼ一致した高周波電源の出力をそれぞれ用いて確実にプラズマを発生させ、その状態を安定に保つことが可能なプラズマ発生装置を提供することができる。
本発明の第1の実施形態である。 TM010モードを示す図である。 プラズマの状態変化と共振周波数の変化を示す図である。 本発明の第2の実施形態である。 TM011モードを示す図である。 本発明の第3の実施形態である。 本発明の第4の実施形態である。 本発明の第5の実施形態である。 本発明の第6の実施形態である。 従来技術を示す図である。
符号の説明
1,2 高周波電源
3,4 高周波発生源
5 チャンバー
6,7 チューナー
8,9 方向性結合器
10,11検波器
12 制御器
13,14アンテナ
15,16誘電体部品
17 空洞共振器
18 プラズマ
19 タイマー
20 プラズマ感知センサ
21 スイッチ回路
22,23アイソレータ
24 アイソレータ
25 結合孔
26 処理室
27 被処理基板

Claims (5)

  1. 高周波電源とアンテナと空洞共振器及びプラズマを生じさせる気体とを備え、前記高周波電源より発生されるエネルギーが前記アンテナを介して前記空洞共振器内部に放出され、当該空洞共振器内部の前記気体にプラズマを生じさせるプラズマ発生装置において、前記プラズマ着火前の前記空洞共振器の共振周波数をもつ第1の高周波エネルギーと前記プラズマ着火後の前記空洞共振器の共振周波数をもつ第2の高周波エネルギーとを前記高周波電源により少なくともプラズマ着火の時点では前記第1の高周波エネルギーと前記第2の高周波エネルギーが前記空洞共振器に放出されていることを特徴とするプラズマ発生装置
  2. 前記第1及び第2の高周波エネルギー供給開始から所定時間経過後に前記高周波電源より供給される前記第1の高周波エネルギーを停止させる機能を備えた請求項1記載のプラズマ発生装置
  3. 前記プラズマの着火を検知するセンサーを備え、前記プラズマの着火検知後に前記高周波電源より供給される前記第1の高周波エネルギーを停止させる機能を備えた請求項1記載のプラズマ発生装置
  4. 前記プラズマの着火前後における反射波電力変化を検波できる検波器を備え、前記検波器にて反射電力変化を感知した際、前記高周波電源より供給される前記第1の高周波エネルギーを停止させる機能を備えた請求項1記載のプラズマ発生装置
  5. 前記高周波電源がソリッドステートで構成されたことを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載のプラズマ発生装置




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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9601397B1 (en) 2015-09-03 2017-03-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Microwave probe, plasma monitoring system including the microwave probe, and method for fabricating semiconductor device using the system
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