JP2005228814A - 搬送システム - Google Patents

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Abstract


【課題】 生産ラインの生産能力を低下させることなく、装置全体の設置面積の低減を図ることができる搬送システムを提供する。
【解決手段】 各処理装置2の故障または保守点検によって、各処理工程間の処理能力に違いが生じたときのために設置する棚Tであって、ガラス基板12の一時保管用の棚Tおよびクレーン13を複数の処理工程で共用して使用する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、たとえば液晶表示装置の製造工程に適用される搬送システムに関する。
本発明において、「略平行」は平行を含む。
従来、液晶基板の生産ラインは、同一種類の処理装置をまとめて配置するジョブショップ方式が主流である。基板を各処理装置間で搬送する際には、複数の基板を収容したカセット単位で行われている。
また生産性の向上を目的とする枚葉搬送システムが提案されている(たとえば特許文献1参照)。この枚葉搬送システムにおいては、ガラス基板を1枚毎に、かつ水平に搬送する搬送装置によって搬送ラインを構築する。さらに各種処理装置を処理工程順に搬送ラインの搬送途中に配置する技術が開示されている。また各種処理装置の前つまり搬送方向上流側に緊急ガラス基板待機ステーションを設け、処理装置の故障または保守点検による装置停止に備えている。
特開2003−192127号公報(第2−8頁、第1図、第6図)
基板をカセット単位で搬送する従来の技術では、次のような問題がある。つまり各工程の処理がカセット単位で行われるので、ガラス基板の大形化に伴い、ガラス基板を収容したカセットの重量の増大につながる。また1工程の処理を完了するまでに、カセットに収容された基板の枚数分の処理時間が必要となる。それ故、基板1枚の生産完了までに多大な時間を要する。
特許文献1の技術では、緊急ガラス基板待機ステーションのガラス基板の収容可能枚数が少ないと次のような問題がある。つまり停止した処理装置前の緊急ガラス基板待機ステーションに、ガラス基板を収容することができないおそれがあるうえ、その前工程の処理装置にも悪影響がおよぶ。これによって生産ライン全体の生産能力の低下につながる。これを防止するためには、各種処理装置前に十分な収容可能枚数を備える緊急ガラス基板待機ステーションが必要となる。これは生産ラインの設置面積の増大を招き、設備コスト的に不利となる。
本発明の目的は、生産ラインの生産能力を低下させることなく、装置全体の設置面積の低減を図ることができる搬送システムを提供することである。
本発明は、処理装置によって処理され得る被処理物を搬送し得る搬送システムであって、
処理に供されるべき処理装置間で被処理物を搬送可能な第1の搬送手段と、
被処理物を処理されるべき処理装置によって処理可能か否かを判定する判定手段と、
被処理物を処理装置によって処理する前に待機させる待機所を含む保管手段であって、判定手段による判定結果に基づいて、これら待機所と第1の搬送手段とにわたって被処理物を搬送し得る第2の搬送手段を備える保管手段とを有することを特徴とする搬送システムである。
本発明に従えば、搬送システムは、処理装置によって処理され得る被処理物を搬送し得る。第1の搬送手段は、処理に供されるべき処理装置間で被処理物を搬送可能である。判定手段は、被処理物を処理されるべき処理装置によって処理可能か否かを判定する。保管手段は、被処理物を処理装置によって処理する前に待機させる待機所を含む。また保管手段は第2の搬送手段を備え、この第2の搬送手段は、判定手段による判定結果に基づいて、これら待機所と第1の搬送手段とにわたって被処理物を搬送し得る。
また本発明は、第2の搬送手段は、第1の搬送手段における複数箇所で被処理物を受け渡し可能とすることを特徴とする。
本発明に従えば、第2の搬送手段は、第1の搬送手段における複数箇所で被処理物を受け渡し可能になっている。このように待機所と第1の搬送手段とにわたって被処理物を搬送し得る第2の搬送手段を、第1の搬送手段の搬送路上の複数箇所で被処理物の受け渡しに適用することができる。
また本発明は、第2の搬送手段は、第1の搬送手段における搬送路に略平行に搬送可能に構成されることを特徴とする。
本発明に従えば、第2の搬送手段は、前記搬送路に略平行に搬送可能に構成されるので、次のような作用を奏する。つまり第1の搬送手段における複数箇所で被処理物を受け渡し可能な第2の搬送手段を実現することができる。
また本発明は、第1の搬送手段と処理装置との間で被処理物を受け渡し可能な第3の搬送手段を、さらに有することを特徴とする。
本発明に従えば、第3の搬送手段によって、第1の搬送手段から処理装置に被処理物を受ける。これによって被処理物を処理装置によって処理することができる。前記処理装置によって被処理物を処理した後、第3の搬送手段によって、被処理物を第1の搬送手段に渡すことができる。
本発明によれば、判定手段は、被処理物を処理されるべき処理装置によって処理可能か否かを判定する。第2の搬送手段は、この判定手段による判定結果に基づいて、待機所と第1の搬送手段とにわたって被処理物を搬送することができる。したがって第1の搬送手段の搬送路外に配設される待機所と、搬送路との間で被処理物を搬送するための第2の搬送手段を、複数工程において共用することが可能となる。仮に、稼動停止状態にある処理装置が一時的に存在する場合にも、従来技術のように一時保管用の待機ステーションなどを増設することなく、装置全体の処理能力の低下を防止することができる。それ故、生産ラインの生産能力を低下させることなく、装置全体の設置面積の低減を図ることが可能となる。
また本発明によれば、第2の搬送手段は、第1の搬送手段における複数箇所で被処理物を受け渡し可能になっている。このように待機所と第1の搬送手段とにわたって被処理物を搬送し得る第2の搬送手段を、第1の搬送手段の搬送路上の複数箇所で被処理物の受け渡しに適用することができる。
また本発明によれば、第2の搬送手段は、前記搬送路に略平行に搬送可能に構成されるので、次のような効果を奏する。つまり第1の搬送手段における複数箇所で被処理物を受け渡し可能な第2の搬送手段を実現することができる。
また本発明によれば、第3の搬送手段によって、第1の搬送手段から処理装置に被処理物を受ける。これによって被処理物を処理装置によって処理することができる。前記処理装置によって被処理物を処理した後、第3の搬送手段によって、被処理物を第1の搬送手段に渡すことができる。
図1は、本発明の実施形態に係る搬送システム1の構成を概略示す図である。以下、本発明の搬送システムを液晶表示装置の製造工程に適用した場合について説明する。液晶表示装置の薄膜トランジスタ回路(略称、TFT回路)を、ガラス基板上に形成する製造装置1Aは、主に、処理装置2と搬送路3と保管機構4と制御装置5とを有する。本製造装置1Aによって、TFT回路を構成する複数のパターン形成工程のうちの一つを実現することができる。
処理装置2は、洗浄装置6A、3台の成膜装置7A,7B,7C、フォト装置8A、2台のエッチング装置9A,9B、剥離装置10Aおよび検査装置11Aを備えている。洗浄装置6A、3台の成膜装置7A,7B,7C、フォト装置8A、2台のエッチング装置9A,9B、剥離装置10Aおよび検査装置11Aのうちのいずれか1つを、各処理装置2という場合がある。本製造装置1Aは、後述する搬送路3および保管機構4と協働して、順次、洗浄装置6Aによって洗浄工程を実施し、成膜装置7A(7B,7C)によって成膜工程を実施し、フォト装置8Aによってフォト工程を実施し得る構成になっている。その後エッチング装置9A(9B)によってエッチング工程を実施し、剥離装置10Aによって剥離工程を実施し、検査装置11Aによって検査工程を実施し得る構成になっている。つまり製造装置1Aの生産ラインは、各処理工程順に各処理装置を配置したフローショップ方式が適用される。各処理装置2は、搬送路3によって連結されている。被処理物としてのガラス基板12(図2参照)は、処理に供されるべき各処理装置2付近まで搬送路3によって搬送可能に構成されている。各処理装置は、ガラス基板12を順次受け入れて枚葉処理を行うように構成されている。
図2は、搬送システム1の要部を拡大して示す図である。図1も参照しつつ説明する。搬送システム1は、第1の搬送手段としての搬送路3、第2の搬送手段としてのクレーン13、第3の搬送手段としての受け渡しアーム14および制御装置5を有する。搬送路3は、搬送装置15と読取り装置16とを備える。搬送装置15は、搬送フレーム15aと、搬送用駆動源と、ベルトまたはローラなどの搬送体とを有する。搬送フレーム15aは搬送方向に沿って配設され、この搬送フレーム15aに図示外の搬送用駆動源が支持されている。搬送体は、搬送用駆動源からの駆動力でもって回動可能に搬送フレーム15aに支持されている。搬送体にはガラス基板12の裏面が支持され、搬送方向に沿ってこのガラス基板12を搬送可能になっている。なお搬送フレーム15aの搬送面から上方にたとえば圧縮空気を噴出することにより、ガラス基板12を非接触で支持し、ガラス基板12の端面をローラなどによって搬送方向に搬送する構造にすることも可能である。搬送フレーム15aにおける搬送室内は、大気圧以上の圧力の清浄な空気によって満たされている。このため生産ライン全体のクリーン度を上げる必要がなくなり、その分ランニングコストを削減することができる。
搬送フレーム15aの各処理装置2前つまり各処理装置2付近部には、搬送中のガラス基板12を一旦停止させる待機ポイントが設けられる。搬送フレーム15aにおける各待機ポイントに近接して、前記読取り装置16が設けられている。読取り装置16は、制御装置5に電気的に接続されている。読取り装置16は、ガラス基板12固有の基板番号を読み取り、制御装置5へその基板番号を送信する機能を有する。
保管手段である保管機構4は、棚Tおよびクレーン13を備えている。搬送フレーム15aの上方には、ガラス基板12を一時的に保管(待機)するための棚Tが配設されている。この棚Tが待機所に相当する。ガラス基板12は、制御装置5による判定結果に基づいて、クレーン13を用いて棚Tと搬送路3とにわたって搬送可能になっている。このクレーン13は、搬送路3の搬送方向に略平行に搬送可能に構成されている。つまりクレーン13は、前記搬送方向に沿って配設されるレール13aに移動駆動可能に支持され、制御装置5による指令によって規定される搬送方向位置に位置決め可能に構成されている。クレーン13のクレーン本体に受渡しアーム13bが付設され、当該受渡しアーム13bによってガラス基板12を把持したうえでこのガラス基板12を棚Tと搬送路3とにわたって搬送するようになっている。本実施形態においては、1台のクレーン13が適用されているが、クレーン13の台数は必ずしも1台に限定されるものではない。たとえば複数台のクレーン13を適用することも可能である。
各処理装置2には、一対のロードロック室17が付設されている。つまり各処理装置2のうち搬送フレーム15aに臨む側面部に、一対のロードロック室17が設けられている。各処理装置2の搬送方向上流側には、一方のロードロック室17が配設されている。前記ロードロック室17は、搬送方向の所定位置にあるガラス基板12を各処理装置2へ搬入するためのものである。各処理装置2の搬送方向下流側には、他方のロードロック室17が配設されている。前記ロードロック室17は、搬送方向の予め定める位置へガラス基板12を搬出するためのものである。
各ロードロック室17には、受渡しアーム14と、第1および第2のゲートバルブ18,19とが設けられている。前記受渡しアーム14によって、ガラス基板12を把持したうえでこのガラス基板12を搬送路3と各処理装置2とにわたって搬送するようになっている。各ロードロック室17の搬送路3側に第1のゲートバルブ18が設けられ、各ロードロック室17の各処理装置2側に第2のゲートバルブ19が設けられている。これら第1および第2のゲートバルブ18,19は、各処理装置2が真空雰囲気で使用される場合に配設される。各処理装置2を大気雰囲気つまり常圧で使用する場合には、第1および第2のゲートバルブ18,19の少なくともいずれか一方を省略することも可能である。本実施形態においては、各処理装置2に対して搬入用と搬出用の2つのロードロック室17を設けているが、これら搬入用および搬出用のロードロック室17を共用化して、1つのロードロック室とすることも可能である。この場合には装置構造を簡単化し、その製作コストの低減を図ることができる。
判定手段としての制御装置5は、各処理装置2、搬送装置15、読取り装置16および保管機構4に電気的に接続されている。制御装置5は、生産コントローラ20、搬送コントローラ21およびデータベース22を備え、これらは互いに電気的に接続されている。これによって制御装置5は、製造工程内のガラス基板12の管理(後述する)と、各処理装置2、搬送装置15、読取り装置16およびクレーン13の動作制御と、棚Tの使用状況の管理とを一元的に行う。
生産コントローラ20は、各処理装置2に対して処理命令を出したり、各処理装置2の稼動状況を収集する。生産コントローラ20は、搬送コントローラ21に対してガラス基板12の搬送指示を出す。搬送コントローラ21は、生産コントローラ20からの指示に基づいて、ガラス基板12の保管先の決定、搬送装置15、読取り装置16およびクレーン16の動作制御を行う。データベース22には、生産コントローラ20および搬送コントローラ21の処理に必要なデータとして処理工程テーブル、基板管理テーブル、装置管理テーブルおよび棚管理テーブルを記憶している。
処理工程テーブルには、処理工程毎に使用可能な各処理装置2、そのときに必要な処理条件、次の処理工程および次の待機ポイントなどが定義されている。基板管理テーブルは、製造工程内に存在するガラス基板12に関して、基板番号、機種、現在の処理工程、現在位置および処理履歴などの情報を記憶している。基板管理テーブルは、生産コントローラ20または搬送コントローラ21によって更新される。装置管理テーブルは、各処理装置2毎に処理可能な最大基板枚数、現在の稼動状況、処理状況および保守点検の開始予定時刻などの情報を記憶している。ここで処理状況とは、各処理装置2内で処理可能な最大基板枚数に対する、現在処理中の基板枚数の割合を表す。装置管理テーブルは、生産コントローラ20によって更新される。棚管理テーブルは、棚T毎に各待機ポイントからの搬送距離データが定義されている。棚管理テーブルには、棚T毎に予約もしくは保管している基板番号が記憶される。この棚管理テーブルは、搬送コントローラ21によって更新される。
図3は、洗浄工程を1台の洗浄装置6Aを用いて制御する制御装置5の動作を示すフローチャートである。この制御主体は制御装置5である。たとえば本製造装置1Aの主電源が投入される条件で、本フローを開始する。ステップS1において、搬送路3を通って前工程より搬送されてきたガラス基板12が、洗浄装置6A前の待機ポイントで一旦停止する。ここで読取り装置16は、ガラス基板12固有の基板番号を読み取り、その基板番号を生産コントローラ20へ送信する。
次にステップS2に移行し、生産コントローラ20が処理工程テーブルと基板管理テーブルとを参照して、洗浄工程での処理が必要であるか否かを判定する。ここで洗浄工程での処理が必要であると判定されると、ステップS3に移行する。ステップS3においては、生産コントローラ20が、処理工程テーブルと装置管理テーブルとから処理可能な処理装置2毎に稼動状況および処理状況を参照する。ここでは洗浄工程であるから、生産コントローラ20は、処理可能な洗浄装置6Aの稼動状況および処理状況を調査する。次にステップS4に移行し、生産コントローラ20は、洗浄装置6Aでの洗浄処理が可能か否か判定し、その判定結果を基板管理テーブルへ反映する。
このステップS4において、洗浄装置6Aが稼動中であり、かつ処理状況に余裕があると判定されると、ステップS5に移行する。このステップS5において、生産コントローラ20から洗浄装置6Aに対し、ガラス基板12の洗浄処理開始が指示される。これとともにガラス基板12に対応した処理条件が洗浄装置6Aに送信される。次にステップS6に移行し、洗浄装置6Aは、搬入用のロードロック室17のゲートバルブ18を開く。このゲートバルブ18を開いた状態で、受渡しアーム14は、ガラス基板12を搬送路3から搬入用のロードロック室17へ搬入する。次に搬送路3に臨むゲートバルブ18を閉じた後、洗浄装置本体に臨むゲートバルブ19を開く。このゲートバルブ19を開いた状態で、ガラス基板12を受渡しアーム14によって洗浄装置6Aに搬入する。搬入されたガラス基板12は、処理条件に従って洗浄処理が行われる。
このガラス基板12を洗浄処理した後、洗浄装置6Aは、搬出用のロードロック室17のゲートバルブ19を開く。次に受渡しアーム14は、ガラス基板12を洗浄装置6Aから搬出用のロードロック室17へ搬出する。次に前記ゲートバルブ19を閉じた後、搬送路3に臨むゲートバルブ18を開く。このゲートバルブ18を開いた状態で、ガラス基板12を受渡しアーム14によって搬送路3へ搬出する。その後、ガラス基板12の洗浄処理が完了したことを表す信号を、生産コントローラ20へ送信する。
次にステップS7に移行し、生産コントローラ20が処理工程テーブルから次の処理工程と次の待機ポイントとを読み出し、基板管理テーブルを更新する。次にステップS8において、生産コントローラ20から搬送コントローラ21へガラス基板12の搬送を要求する。これとともに生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ搬送対象のガラス基板12の基板番号、そのガラス基板12の現在位置および搬送目的位置を送信する。搬送コントローラ21は、これらの情報から適切な搬送装置15に搬送指示を出す。指示を受けた搬送装置15は、ガラス基板12を次の待機ポイントまで搬送する。前述のステップS2において、洗浄工程での処理が不要であると判定されると、ステップS8に移行する。ステップS4において洗浄処理不可能であると判定される、つまり洗浄装置6Aが故障または保守点検のために稼動停止状態にある場合、もしくは処理状況に余裕が無い場合に洗浄処理不可能であると判定され、ステップS11に移行する。
ステップS11では、生産コントローラ20から搬送コントローラ21へガラス基板12の保管を要求する。これとともに生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ保管対象のガラス基板12の基板番号およびそのガラス基板12の現在位置を送信する。搬送コントローラ21は、棚管理テーブルを参照して保管する棚Tを決定し、この結果を棚管理テーブルへ反映する。保管する棚Tを決定する際、搬送コントローラ21は、棚管理テーブルに定義されている各待機ポイントからの搬送距離を参照して、ガラス基板12の現在位置である待機ポイントからの搬送距離が最も短くなる空き棚Tを選択する。
続いて搬送コントローラ21は、クレーン13に、ガラス基板12の現在位置と保管先の棚番号とを送信してこのガラス基板12の搬送を指示する。このときクレーン13が稼動中または他の搬送指示がある場合、この搬送指示は搬送待ち行列に保管される。クレーン13は、搬送待ち行列内に保管された搬送指示のうち、最も時間的に古い搬送指示から順に搬送を実行する。本実施形態においては、搬送指示が出た順に搬送処理を実行するよう制御しているが、必ずしもこれに限定されるものではない。たとえば入庫のための搬送指示を優先する制御、出庫のための搬送指示を優先する制御、搬送先または搬送元となる待機ポイント毎の搬送待ち行列の個数が多い順に搬送処理を実行するような制御としてもよい。またクレーン13の稼働率によって、これらの制御を選択的に切替えて使用することも可能である。ガラス基板12の搬送が完了すると、クレーン13から搬送コントローラ21に搬送完了信号が出力され、搬送コントローラ21は基板管理テーブルを更新する。
次にステップS12に移行し、生産コントローラ20は、次のタイミングで各処理装置2の稼動状況と処理状況とを装置管理テーブルから調査する。前記タイミングは、一定周期毎、処理装置からの処理完了報告があったタイミング、および故障や保守点検による稼動停止状態から復帰したタイミングの少なくともいずれか一つのタイミングである。続いてステップS13では、ステップS12の調査結果を元に、生産コントローラ20は、処理状況に余裕がある処理装置で処理可能なガラス基板12でかつ棚Tで保管中のガラス基板12のうち、最も時間的に古いガラス基板12を、基板管理テーブルから選択する。このとき洗浄工程の洗浄装置6Aが故障や保守点検による稼動停止状態から復帰していた場合、または処理状況に余裕が生じていた場合に、棚Tに保管中のガラス基板12が存在すれば、ステップS14に移行する。
ステップS14では、生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ、ステップS13で選択されたガラス基板12の搬送を要求する。これとともに生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ搬送対象のガラス基板12の基板番号および搬送目的位置を送信する。搬送コントローラ21は、棚管理テーブルからガラス基板12の保管先の棚番号を読み出す。さらに搬送コントローラ21は、クレーン13に、ガラス基板12の現在位置である保管先の棚番号と、搬送目的位置である洗浄装置6A前の待機ポイントを送信してガラス基板12の搬送を指示する。このときクレーン13が稼動中または他の搬送指示がある場合には、この搬送指示は搬送待ち行列に保管される。クレーン13は、搬送待ち行列に保管された搬送指示のうち、時間的に最も古い搬送指示から順にガラス基板12の搬送を実行する。ガラス基板12の搬送が完了すると、クレーン13から搬送コントローラ21に搬送完了が報告され、搬送コントローラ21は、基板管理テーブルと棚管理テーブルとを更新する。その後ステップS5に戻る。つまり洗浄装置6A前の待機ポイントに到着したガラス基板12に対し、洗浄処理を再開する。
図4は、成膜工程を3台の成膜装置7A,7B,7Cを用いて制御する制御装置5の動作を示すフローチャートである。この制御主体は制御装置5である。たとえば本製造装置1Aの主電源が投入される条件で、本フローを開始する。ステップS21において、搬送路3を通って前工程より搬送されてきたガラス基板12が、搬送方向上流側の成膜装置7A前の待機ポイントで一旦停止する。ここで読取り装置16は、ガラス基板12固有の基板番号を読み取り、その基板番号を生産コントローラ20へ送信する。
次にステップS22に移行し、生産コントローラ20が処理工程テーブルと基板管理テーブルとを参照して、成膜工程での処理が必要であるか否かを判定する。ここで成膜工程での処理が必要であると判定されると、ステップS23に移行する。ステップS23においては、生産コントローラ20が、処理工程テーブルと装置管理テーブルとから処理可能な処理装置毎に成膜装置の稼動状況および処理状況を参照する。ここでは成膜工程であるから、生産コントローラ20は、処理可能な成膜装置7A,7B,7Cの稼動状況および処理状況を調査する。次にステップS24に移行し、生産コントローラ20は、成膜装置での成膜処理が可能か否か判定し、その判定結果を基板管理テーブルへ反映する。
このステップS24において、3台の成膜装置7A,7B,7Cのうち稼動中の装置があり、かつ処理状況に余裕があると判定されると、ステップS25に移行する。このステップS25において、生産コントローラ20は、稼動中の成膜装置のなかで処理状況に最も余裕のある成膜装置を選択する。ここでは3台の成膜装置7A,7B,7Cのうちたとえば成膜装置7Cを選択する。次にステップS26に移行し、生産コントローラ20は、搬送コントローラ21へガラス基板12の搬送要求を行う。つまりステップS25の段階でガラス基板12の現在位置は、搬送方向最上流側の成膜装置7A前であるので、ステップS26では、生産コントローラ20から搬送コントローラ21へガラス基板12の搬送が要求される。これとともに生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ搬送対象のガラス基板12の基板番号、ガラス基板12の現在位置および搬送目的位置を送信する。搬送コントローラ21は、これらの情報から適切な搬送装置15に搬送指示を出す。指示を受けた搬送装置15は、ガラス基板12を搬送方向最上流側の成膜装置7A前から搬送方向最下流側の成膜装置7C前の待機ポイントまで搬送する。
次にステップS27において、読取り装置16は、ガラス基板12が搬送方向最下流側の成膜装置7C前の待機ポイントに到着したことを、生産コントローラ20に送信する。生産コントローラ20は、搬送方向最下流側の成膜装置7Cの稼動状況を再度調査する。次にステップS28に移行し、生産コントローラ20は、搬送方向最下流側の成膜装置7Cでの成膜処理が可能か否かを判定する。ここで搬送方向最下流側の成膜装置7Cが稼動中であり、成膜処理が可能であると判定されると、ステップS29に移行する。このステップS29において、生産コントローラ20から搬送方向最下流側の成膜装置7Cに対し、ガラス基板12の成膜処理開始が指示される。これとともにガラス基板12に対応した処理条件が前記成膜装置7Cに送信される。
次にステップS30に移行し、搬送方向最下流側の成膜装置7Cは、搬入用のロードロック室17のゲートバルブ18を開く。このゲートバルブ18を開いた状態で、受渡しアーム14は、ガラス基板21を搬送路3から搬入用のロードロック室17へ搬入する。次に搬送路3に臨むゲートバルブ18を閉じた後、成膜装置本体に臨むゲートバルブ19を開く。このゲートバルブ19を開いた状態で、ガラス基板12を受渡しアーム14によって前記成膜装置7Cに搬入する。搬入されたガラス基板12は、処理条件に従って成膜処理が行われる。
このガラス基板12を成膜処理した後、前記成膜装置7Cは、搬出用のロードロック室17のゲートバルブ19を開く。次に受渡しアーム14は、ガラス基板12をこの成膜装置7Cから搬出用のロードロック室17へ搬出する。次に前記ゲートバルブ19を閉じた後、搬送路3に臨むゲートバルブ18を開く。このゲートバルブ18を開いた状態で、ガラス基板12を受渡しアーム14によって搬送路3へ搬出する。その後、ガラス基板12の成膜処理が完了したことを表す信号を、生産コントローラ20へ送信する。
次にステップS31に移行し、生産コントローラ20が処理工程テーブルから次の処理工程と次の待機ポイントとを読み出し、基板管理テーブルを更新する。次にステップS32において、生産コントローラ20から搬送コントローラ21へガラス基板12の搬送を要求する。これとともに生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ搬送対象のガラス基板12の基板番号、そのガラス基板12の現在位置および搬送目的位置を送信する。搬送コントローラ21は、これらの情報から適切な搬送装置15に搬送指示を出す。指示を受けた搬送装置15は、ガラス基板12を次の待機ポイントまで搬送する。前述のステップS22において、成膜工程での処理が不要であると判定されると、ステップS32に移行する。ステップS24において成膜処理不可能であると判定される、つまり成膜装置が故障または保守点検のために稼動停止状態にある場合、もしくは処理状況に余裕がない場合に成膜処理不可能であると判定され、ステップS41に移行する。
ステップS41では、生産コントローラ20から搬送コントローラ21へガラス基板12の保管を要求する。これとともに生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ保管対象のガラス基板12の基板番号およびそのガラス基板12の現在位置を送信する。搬送コントローラ21は、ガラス基板12の現在位置と棚管理テーブルとを参照して保管する棚Tを決定し、この結果を棚管理テーブルに反映する。続いて搬送コントローラ21は、ガラス基板12の現在位置と保管先の棚番号とをクレーン13に送信して当該ガラス基板21の搬送を指示する。このときクレーン13が稼動中または他の搬送指示がある場合、この搬送指示は搬送待ち行列に保管される。クレーン13は、搬送待ち行列内に保管された搬送指示のうち、最も時間的に古い搬送指示から順に搬送を実行する。ガラス基板12の搬送が完了すると、クレーン13から搬送コントローラ21に搬送完了信号が出力され、搬送コントローラ21は基板管理テーブルを更新する。
次に、ステップS42に移行し、生産コントローラ20は、次のタイミングで各処理装置2の稼動状況と処理状況とを装置管理テーブルから調査する。前記タイミングは、一定周期毎、処理装置からの処理完了報告があったタイミング、および故障や保守点検による稼動停止状態から復帰したタイミングの少なくともいずれか一つのタイミングである。続いてステップS43では、ステップS42の調査結果を元に、生産コントローラ20は、処理状況に余裕がある処理装置で処理可能なガラス基板12でかつ棚Tで保管中のガラス基板12のうち、最も時間的に古いガラス基板12を、基板管理テーブルから選択する。このとき成膜工程の成膜装置が故障や保守点検による稼動停止状態から復帰していた場合、または処理状況に余裕が生じていた場合に、棚Tに保管中のガラス基板12が存在すれば、ステップS44に移行する。
ステップS44では、生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ、ステップS43で選択されたガラス基板12の搬送を要求する。これとともに生産コントローラ20から搬送コントローラ21へ搬送対象のガラス基板12の基板番号および搬送目的位置を送信する。搬送コントローラ21は、棚管理テーブルからガラス基板12の保管先の棚番号を読み出す。さらに搬送コントローラ21は、クレーン13に、ガラス基板12の現在位置である保管先の棚番号と、搬送目的位置である成膜装置7B前の待機ポイントを送信してガラス基板12の搬送を指示する。このときクレーン13が稼動中または他の搬送指示がある場合には、この搬送指示は搬送待ち行列に保管される。クレーン13は、搬送待ち行列に保管された搬送指示のうち、時間的に最も古い搬送指示から順にガラス基板12の搬送を実行する。ガラス基板12の搬送が完了すると、クレーン13から搬送コントローラ21に搬送完了が報告され、搬送コントローラ21は、基板管理テーブルと棚管理テーブルとを更新する。その後ステップS29に戻る。つまり成膜装置7B前の待機ポイントに到着したガラス基板12に対し、成膜処理を再開する。
前記ステップS28において、搬送方向最下流側の成膜装置7Cによる成膜処理が不可能であると判定されると、ステップS45に移行する。このステップS45において、生産コントローラ20は、処理工程テーブルおよび装置管理テーブルを参照して、残りの成膜装置7A,7Bの稼動状況と処理状況とを調査する。次にステップS46に移行し、生産コントローラ20は、成膜装置7A,7Bでの成膜処理が可能か否かを判定し、この判定結果を基板管理テーブルに反映する。ここで成膜装置7A,7Bが稼動中であり、かつ処理状況に余裕がある場合はステップS47に移行する。成膜装置7A,7Bが故障または保守点検のために稼動停止状態になっている場合、もしくは処理状況に余裕がなく、成膜装置7A,7Bによる成膜処理が不可能であると判定されると、ステップS41に戻る。
ステップS47では、生産コントローラ20によって、成膜装置7A,7Bのうち稼動中でかつ処理状況に余裕がある装置を選択する。ここではたとえば成膜装置7Aを選択する。続いて生産コントローラ20は、搬送コントローラ21へガラス基板12の搬送を要求する。これとともに生産コントローラ20は、搬送コントローラ21へ搬送対象のガラス基板12の基板番号、そのガラス基板12の現在位置および搬送目的位置を送信する。このときクレーン13が稼動中または他の搬送指示がある場合には、この搬送指示は搬送待ち行列に保管される。クレーン13は、搬送待ち行列に保管された搬送指示のうち、時間的に最も古い搬送指示から順にガラス基板12の搬送を実行する。ガラス基板12の搬送が完了すると、クレーン13から搬送コントローラ21へ搬送完了が報告され、搬送コントローラ21は基板管理テーブルを更新する。その後ステップS29に戻る。以上の動作を検査工程まで繰り返すことによって、ガラス基板12上に構成されるべきTFT回路の一つのパターン形成工程を完了する。
以上説明した搬送システム1によれば、各処理装置2の故障または保守点検によって、各処理工程間の処理能力に違いが生じたときのために設置する棚Tであって、ガラス基板12の一時保管用の棚Tおよびクレーン13を複数の処理工程で共用して使用することができる。換言すれば、搬送路3と、搬送路外に配設される棚Tとの間でガラス基板12を搬送するためのクレーン13を、複数工程において共用することが可能となる。このため製造工程全体においては、工程単位で一時保管用の棚Tおよびクレーン13を設置する場合に比べて、棚Tおよびクレーン13の台数を低減することができる。仮に、稼動停止状態にある処理装置が一時的に存在する場合にも、従来技術のように一時保管用の待機ステーションなどを増設することなく、装置全体の処理能力の低下を防止することができる。それ故、生産ラインの生産能力を低下させることなく、装置全体の設置面積の低減を図ることができる。
本発明の実施形態に係る搬送システム1の構成を概略示す図である。 搬送システム1の要部を拡大して示す図である。 洗浄工程を1台の洗浄装置6Aを用いて制御する制御装置5の動作を示すフローチャートである。 成膜工程を3台の成膜装置7A,7B,7Cを用いて制御する制御装置5の動作を示すフローチャートである。
符号の説明
1 搬送システム
2 処理装置
3 搬送路
12 ガラス基板
13 クレーン
14 受渡しアーム
15 制御装置
20 生産コントローラ
T 棚

Claims (4)

  1. 処理装置によって処理され得る被処理物を搬送し得る搬送システムであって、
    処理に供されるべき処理装置間で被処理物を搬送可能な第1の搬送手段と、
    被処理物を処理されるべき処理装置によって処理可能か否かを判定する判定手段と、
    被処理物を処理装置によって処理する前に待機させる待機所を含む保管手段であって、判定手段による判定結果に基づいて、これら待機所と第1の搬送手段とにわたって被処理物を搬送し得る第2の搬送手段を備える保管手段とを有することを特徴とする搬送システム。
  2. 第2の搬送手段は、第1の搬送手段における複数箇所で被処理物を受け渡し可能とすることを特徴とする請求項1記載の搬送システム。
  3. 第2の搬送手段は、第1の搬送手段における搬送路に略平行に搬送可能に構成されることを特徴とする請求項1または2記載の搬送システム。
  4. 第1の搬送手段と処理装置との間で被処理物を受け渡し可能な第3の搬送手段を、さらに有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の搬送システム。
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