JP2005227525A - 感放射線性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、〔A〕(a1)不飽和カルボン酸および/またはエチレン性不飽和カルボン酸無水物と(a2)エポキシ基含有不飽和化合物と(a3)他の不飽和化合物との共重合体、〔B〕エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、並びに〔C〕下記式(1)または式(2)で表される化合物を必須成分とする感放射線性重合開始剤を含有する。
【化1】
【化2】
(式中、R1 はアルキル基またはフェニル基、R2 は水素原子、アルキル基またはフェニル基、R3 は水素原子またはアルキル基を示す。)
【選択図】なし
Description
そこで、これらの問題を解決するために、スペーサーをフォトリソグラフィーにより形成する方法が採用されるようになってきている。この方法は、感光性樹脂組成物あるいは感放射線性樹脂組成物(以下、これらの組成物をまとめて「感放射線性樹脂組成物等」ともいう。)を基板上に塗布し、所定のマスクを介して紫外線等の放射線を露光したのち現像して、ドット状やストライプ状のスペーサーを形成するものであり、画素形成領域以外の所定の場所にのみスペーサーを形成することができるため、前述したような問題は基本的には解決される。
しかし、特許文献1記載のものも含め、スペーサーの形成に用いられる従来の感放射線性樹脂組成物等では、基板との密着性および透明性の面では依然として十分とはいえず、これらの特性も併せ備えた感放射線性樹脂組成物等の開発が強く望まれていた。
そこで、大型基板に対応できる露光方式として、ステップ露光方式が提唱されている。しかし、ステップ露光方式では、一枚の基板毎に数回露光する必要があり、それぞれの露光時に位置合せやステップ移動に時間を要するため、一括露光方式の場合よりスループットが低減されるおそれがある。また、一括露光方式では3,000J/m2 程度の露光感度が許容されていたが、ステップ露光方式では露光感度を1,500J/m2 以下にすることが求められている。しかしながら、スペーサーの形成に用いられる従来の感放射線性樹脂組成物等では、1,500J/m2 以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を達成ことが困難であった。
〔A〕(a1)エチレン性不飽和カルボン酸および/またはエチレン性不飽和カルボン酸無水物と(a2)エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物と(a3)他のエチレン性不飽和化合物との共重合体、
〔B〕エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、並びに
〔C〕下記式(1)または式(2)で表される化合物を必須成分とする感放射線性重合開始剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物(以下、「感放射線性樹脂組成物(イ)」という。)、からなる。
感放射線性樹脂組成物(イ)
−共重合体〔A〕−
感放射線性樹脂組成物(イ)における〔A〕成分は、(a1)エチレン性不飽和カルボン酸および/またはエチレン性不飽和カルボン酸無水物(以下、「不飽和カルボン酸系化合物(a1)」という。)と(a2)エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(以下、「エポキシ基含有不飽和化合物(a2)」という。)と(a3)他のエチレン性不飽和化合物(以下、「他の不飽和化合物(a3)」という。)との共重合体(以下、「共重合体〔A〕」という。)からなる。
これらの不飽和カルボン酸系化合物(a1)のうち、共重合反応性、得られる共重合体〔A〕のアルカリ水溶液に対する溶解性および入手が容易である点から、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が好ましい。
共重合体〔A〕において、不飽和カルボン酸系化合物(a1)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
共重合体〔A〕において、エポキシ基含有不飽和化合物(a2)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
共重合体〔A〕において、他の不飽和化合物(a3)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
前記重合に用いられる溶媒としては、例えば、
メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、ベンジルアルコール、2−フェニルエタノール、3−フェニル−1−プロパノール等のアルコール類;
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
エチレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルプロピオネート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類;
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールアルキルエーテル類;
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プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン類;
等を挙げることができる。
前記溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
これらのラジカル重合開始剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
このようにして得られた共重合体〔A〕は、溶液のまま感放射線性樹脂組成物(イ)の調製に供しても、また溶液から分離して感放射線性樹脂組成物(イ)の調製に供してもよい。
本発明において、共重合体〔A〕は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
感放射線性樹脂組成物(イ)における〔B〕成分は、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物(以下、「重合性化合物〔B〕」という。)
重合性化合物〔B〕としては、特に限定されるものではないが、単官能、2官能または3官能以上の(メタ)アクリル酸エステル類が、重合性が良好であり、得られるスペーサーの強度が向上する点から好ましい。
また、単官能(メタ)アクリル酸エステル類の市販品としては、例えば、アロニックス−101、同−111、同−114(以上、東亜合成(株)製);KAYARAD TC−110S、同−120S(以上、日本化薬(株)製);ビスコート158、同2311(以上、大阪有機化学工業(株)製)等を挙げることができる。
また、2官能(メタ)アクリル酸エステル類の市販品としては、例えば、アロニックス−210、同−240、同−6200(以上、東亜合成(株)製)、KAYARAD HDDA、同 HX−220、同 R−604(以上、日本化薬(株)製)、ビスコート260、同312、同335HP(以上、大阪有機化学工業(株)製)等を挙げることができる。
本発明において、重合性化合物〔B〕は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
感放射線性樹脂組成物(イ)における〔C〕成分は、前記式(1)または式(2)で表されるO−アシルオキシム型カルバゾール系化合物(以下、「カルバゾール系化合物(C1)」という。)を必須成分とし、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、X線等の放射線による露光によって、重合性化合物〔B〕の重合を開始しうる活性種を発生する感放射線性重合開始剤(以下、「重合開始剤〔C〕」という。)からなる。
また、R1 およびR2 の各フェニル基に対する置換基のうち、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等を挙げることができる。
これらの置換基は、各アルキル基および各フェニル基に1個以上あるいは1種以上存在することができる。
本発明において、カルバゾール系化合物(C1)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
他の重合開始剤としては、O−アシルオキシム型化合物(以下、「他のO−アシルオキシム型重合開始剤」という。)が好ましい。
他のO−アシルオキシム型重合開始剤としては、例えば、1,2−オクタジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1,2−ブタンジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1,2−ブタンジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−アセチルオキシム)、1,2−オクタジオン−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1,2−オクタジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−(4―メチルベンゾイルオキシム))等を挙げることができる。
これらの他のO−アシルオキシム型重合開始剤のうち、特に1,2−オクタジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)が好ましい。
前記他のO−アシルオキシム型重合開始剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
また、カルバゾール系化合物(C1)と他のO−アシルオキシム型重合開始剤とを併用するときの他のO−アシルオキシム型重合開始剤の使用割合は、カルバゾール系化合物(C1)と他のO−アシルオキシム型重合開始剤との合計量に対して、好ましくは50重量%以下、さらに好ましくは1〜30重量%である。この場合、他のO−アシルオキシム型重合開始剤の使用割合が50重量%を超えると、得られるスペーサーのパターン形状が損なわれるおそれがある。
前記α−ヒドロキシケトン系化合物としては、例えば、1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−i−プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等を挙げることができ、前記α−アミノケトン系化合物としては、例えば、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン等を挙げることができる。
また、α−ヒドロキシケトン系化合物およびα−アミノケトン系化合物以外のアセトフェノン系化合物としては、例えば、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等を挙げることができる。
これらのアセトフェノン系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
本発明においては、他の重合開始剤としてアセトフェノン系化合物を用いることにより、感度、得られるスペーサーの形状や圧縮強度等をさらに改善することも可能となる。
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,
2’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
前記ビイミダゾール系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
本発明においては、他の重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を用いることにより、感度、解像度、得られるスペーサーの基板との密着性等をさらに改善することも可能となる。
ジアルキルアミノ基含有増感剤としては、例えば、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸i−アミル、p−ジエチルアミノ安息香酸i−アミル等を挙げることができる。
これらのジアルキルアミノ基含有増感剤のうち、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。
前記ジアルキルアミノ基含有増感剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
ジアルキルアミノ基含有増感剤の使用量は、共重合体〔A〕100重量部に対して、好ましくは0.1〜50重量部、さらに好ましくは1〜20重量部である。この場合、ジアルキルアミノ基含有増感剤の使用量が0.1重量部未満では、得られるスペーサーの膜べりを生じたり、パターン形状が損なわれたりするおそれがあり、一方50重量部を超えると、スペーサーのパターン形状が損なわれるおそれがある。
これらのチオール系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
感放射線性樹脂組成物(イ)には、必要に応じて、本発明の所期の効果を損なわない範囲内で、前記成分以外の添加剤、例えば、界面活性剤、接着助剤、保存安定剤、耐熱性向上剤等を配合することもできる。
前記界面活性剤は、塗布性を向上させるために使用される成分であり、好ましい界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を挙げることができる。
界面活性剤の配合量は、共重合体〔A〕100重量部に対して、好ましくは5重量部以下、さらに好ましくは2重量部以下である。この場合、界面活性剤の配合量が5重量部を超えると、塗布時に膜荒れを生じやすくなる傾向がある。
前記官能性シランカップリング剤としては、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性官能基を有するシランカップリング剤、より具体的には、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
接着助剤の配合量は、共重合体〔A〕100重量部に対して、好ましくは20重量部以下、さらに好ましくは10重量部以下である。この場合、接着助剤の配合量が20重量部を超えると、アルカリ水溶液からなる現像液による現像時に現像残りが生じやすくなる傾向がある。
これらの保存安定剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
保存安定性の配合量は、共重合体〔A〕100重量部に対して、好ましくは3.0重量部以下、さらに好ましくは0.5重量部以下である。この場合、保存安定性の配合量が3.0重量部を超えと、感度が低下して、得られるスペーサーのパターン形状が損なわれるおそれがある。
前記N−(アルコキシメチル)グリコールウリル化合物としては、例えば、N,N,N,N−テトラ(メトキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(エトキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(n−プロポキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(i−プロポキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(n−ブトキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(t−ブトキシメチル)グリコールウリル等を挙げることができ、これらのうちN,N,N,N−テトラ(メトキシメチル)グリコールウリルが好ましい。
また、N−(アルコキシメチル)メラミン化合物の市販品としては、例えば、ニカラックN−2702、ニカラックMW−30M(以上 三和ケミカル(株)製)等を挙げることができる。
また、2個以上のエポキシ基を有する化合物の市販品としては、例えば、エポライト40E、同100E、同200E、同70P、同200P、同400P、同1500NP、同80MF、同100MF、同1600、同3,002、同4000(以上 共栄社化学(株)製)等を挙げることができる。
これらの耐熱性向上剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
感放射線性樹脂組成物(イ)は、その使用に際して、通常、共重合体〔A〕、重合性化合物〔B〕、重合開始剤〔C〕等の構成成分を適当な溶剤を溶解して、組成物溶液として調製される。
前記組成物溶液の調製に使用される溶剤としては、感放射線性樹脂組成物(イ)を構成する各成分を均一に溶解し、各成分と反応せず、かつ適度の揮発性を有するものが用いられ、その例としては、共重合体〔A〕を製造する重合について例示した溶媒と同様のものを挙げることができる。
これらの溶剤のうち、各成分の溶解能、各成分との反応性および被膜形成の容易性の点から、アルコール類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシプロピオン酸アルキル類等が好ましく、特に、ベンジルアルコール、2−フェニルエタノール、3−フェニル−1−プロパノール、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が好ましい。
前記溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
前記高沸点溶剤としては、例えば、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等を挙げることができる。
これらの高沸点溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
このように調製された組成物溶液は、必要に応じて、孔径が例えば0.2〜0.5μm程度のミリポアフィルタ等によりろ過して、使用に供することもできる。
(i) 共重合体〔A〕を構成する成分が、不飽和カルボン酸系化合物(a1)がアクリル酸、メタクリル酸および無水マレイン酸の群の単独または2種以上の混合物からなり、エポキシ基含有不飽和化合物(a2)がメタクリル酸グリシジル、メタクリル酸6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテルおよびp−ビニルベンジルグリシジルエーテルの群の単独または2種以上の混合物からなり、他の不飽和化合物(a3)がアクリル酸2−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸トリシクロ[ 5.2.1.02,6 ] デカン−8−イル、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、、スチレン、p−メトキシスチレンおよび1,3−ブタジエンの群の単独または2種以上の混合物からなる組成物。
(v) 重合性化合物〔B〕の使用量が、共重合体〔A〕100重量部に対して、50〜140重量部、さらに好ましくは60〜120重量部であり、重合開始剤〔C〕の使用量が、重合性化合物〔B〕100重量部に対して、5〜30重量部、さらに好ましくは5〜20重量部である前記(i)〜(vi)のいずれかの組成物。
感放射線性樹脂組成物(イ)を用いて表示パネル用スペーサーを形成する際には、組成物溶液を基板の表面に塗布したのち、プレベークして溶剤を除去することにより、被膜を形成する。
組成物溶液の塗布方法としては、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法)、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の方法を採用することができるが、特に、スピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。
また、プレベークの条件は、各構成成分の種類、配合割合などによっても異なるが、通常、70〜90℃で1〜15分間程度である。
次いで、プレベークされた被膜に、所定パターンのマスクを介し露光して重合させたのち、現像液により現像し、不要な部分を除去して、パターンを形成する。
露光に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、X線等の放射線を適宜に選択して使用することができるが、波長が190〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。
前記現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ類;エチルアミン、n−プロピルアミン等の1級アミン類;ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン等の2級アミン類;トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエチルアミン等の3級アミン類;ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の3級アルカノールアミン類;ピロール、ピペリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等の脂環族3級アミン類;ピリジン、コリジン、ルチジン、キノリン等の芳香族3級アミン類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液(アルカリ水溶液)を使用することができる。
また、前記アルカリ水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒および/または界面活性剤を適当量添加することもできる。
現像後、例えば流水洗浄等により、例えば30〜90秒間洗浄して、不要な部分を除去したのち、圧縮空気や圧縮窒素を吹きつけて乾燥させることにより、所定のパターンが形成される。
合成例1
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)5重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル200重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18重量部、メタクリル酸グリシジル40重量部、スチレン5重量部、メタクリル酸トリシクロ[ 5.2.1.02,6 ] デカン−8−イル32重量部を仕込んで、窒素置換したのち、さらに1,3−ブタジエン5重量部を仕込み、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持して重合させて、共重合体〔A〕の溶液(固形分濃度=33.0重量%)を得た。この共重合体〔A〕のMwは11,000であった。この共重合体〔A〕を「共重合体〔A-1〕」とする。
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)7重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル200重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18重量部、メタクリル酸グリシジル20重量部、スチレン5重量部、メタクリル酸トリシクロ[ 5.2.1.02,6 ] デカン−8−イル32重量部、テトラヒドロフルフリルメタクリレート25重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持して重合させて、共重合体〔A〕の溶液(固形分濃度=33.4重量%)を得た。この共重合体〔A〕のMwは9,000であった。この共重合体〔A〕を「共重合体〔A-2〕」とする。
組成物溶液の調製
〔A〕成分として共重合体〔A-1〕の溶液を共重合体(A-1) 100重量部(固形分)に相当する量、〔B〕成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製)80重量部、〔C〕成分として1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート(商品名CGI−242、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製)8重量部を、固形分濃度が35重量%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解したのち、孔径0.2μmのミリポアフィルタでろ過して、組成物溶液(以下、「組成物(S−1) 」という。)を調製した。
無アルカリガラス基板上にスピンナーを用いて、組成物溶液(S−1) を塗布したのち、90℃で3分間、ホットプレート上でプレベークして、膜厚6.0μmの被膜を形成した。
次いで、得られた被膜に10μm角の残しパターンのマスクを介し、露光ギャップを150μmとして、波長365nmにおける露光強度が300W/m2 の紫外線により露光した。その後、0.05重量%水酸化カリウム水溶液により、25℃で60秒間現像したのち、純水で1分間洗浄した。その後、オーブン中150℃で120分間ポストベークして、所定パターンのスペーサーを形成した。
次いで、得られたスペーサーについて、下記の要領で各種評価を行った。評価結果を表2−1に示す。
得られたパターンについて、現像後の残膜率(現像後の膜厚×100/初期膜厚。以下同様。)が90%以上になる露光量を感度とした。感度が1,500mJ/m2 以下の場合、感度が良好といえる。
(II) 解像度の評価
得られたパターンについて、現像後の残膜率が90%以上となる露光量における最小のパターンサイズにより評価した。パターンサイズが小さいほど解像度が良好といえる。
得られたパターンの断面形状を走査型電子顕微鏡にて観察し、その形状が図1に示すA〜Cのいずれに該当するかによって評価した。このとき、Aのようにパターンエッジが順テーパである場合は、パターン形状が良好、Bのようにパターンエッジが垂直である場合は、パターン形状がやや良好といえる。また、Cのようにパターンエッジが逆テーパ状(断面形状で、膜表面の辺が基板側の辺よりも長い逆三角形状)である場合は、後のラビング処理時にパターンが剥がれる可能性が非常に高いことから、パターン形状が不良といえる。
得られたパターンの圧縮強度を、微小圧縮試験機(商品名MCTM−200、(株)島津製作所製)を用い、直径50μmの平面圧子により10mNの荷重を加えたときの変形量を、測定温度23℃で測定した。この値が0.55μm以下のとき、圧縮強度が良好といえる。
(V)ラビング耐性の評価
スペーサーを形成した基板に、液晶配向剤としてAL3046(商品名、JSR(株)製)を液晶配向膜塗布用印刷機により塗布したのち、180℃で1時間乾燥して、膜厚0.05μmの配向剤の塗膜を形成した。
次いで、この塗膜に、ポリアミド製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロールの回転数500rpm、ステージの移動速度1cm/秒の条件でラビング処理を行った。このとき、パターンの削れや剥がれの有無により評価した。
パターンマスクを使用しなかった以外は前記スペーサーの形成の場合と同様にして、密着性評価用の硬化膜を形成した。
次いで、JIS K−5400(1900)8.5の付着性試験のうち、8.5・2の碁盤目テープ法を行って、碁盤目100個中の残った碁盤目の数により評価した。
〔A〕成分、〔B〕成分および〔C〕成分を表1−1に示すとおりとした以外は、実施例1と同様にして、各組成物溶液を調製し、スペーサーを形成して、各種評価を行った。評価結果を表2−1に示す。
実施例3と同様の〔A〕成分、〔B〕成分および〔C〕成分を、固形分濃度が17.5重量%になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解したのち、孔径0.2μmのミリポアフィルタでろ過して、組成物溶液(以下、「組成物(S−19) 」という。)を調製した。
組成物(S−1)に代えて組成物(S−19) を用い、スピンナーに代えてスリットダイコーターを用いて塗布した以外は、実施例1と同様にしてスペーサーを形成して、各種評価を行った。評価結果を表2−1に示す。
実施例5と同様の〔A〕成分、〔B〕成分および〔C〕成分を、固形分濃度が15重量%になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテル/ベンジルアルコール=90/10(重量比)混合物に溶解したのち、孔径0.2μmのミリポアフィルタでろ過して、組成物溶液(以下、「組成物(S−20) 」という。)を調製した。
組成物(S−1)に代えて組成物(S−20) を用い、スピンナーに代えてスリットダイコーターを用いて塗布した以外は、実施例1と同様にしてスペーサーを形成して、各種評価を行った。評価結果を表2−1に示す。
〔A〕成分、〔B〕成分および重合開始剤を表1−2に示すとおりとした以外は、実施例1と同様にして、各組成物溶液を調製し、スペーサーを形成して、各種評価を行った。評価結果を表2−2に示す。
〔B〕成分
B-1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名KAYARAD DPHA 、日本化薬(株)製)
B-2:商品名KAYARAD DPHA−40H(日本化薬(株)製)
C-1:1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール− 3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート(商品名CGI−24 2、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
γ-1:1,2−オクタジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−ベ ンゾイルオキシム(商品名CGI−124、チバ・スペシャルティー・ケミカル ズ社製)
γ-2:2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパン− 1−オン(商品名イルガキュア907、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社 製)
γ-3:2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン −1−オン(商品名イルガキュア369、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ 社製)
γ-4:2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフ ェニル−1,2’−ビイミダゾール
γ-5:4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
γ-6:2−メルカプトベンゾチアゾール
Claims (3)
- 〔A〕(a1)エチレン性不飽和カルボン酸および/またはエチレン性不飽和カルボン酸無水物と(a2)エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物と(a3)他のエチレン性不飽和化合物との共重合体、
〔B〕エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、並びに
〔C〕下記式(1)または式(2)で表される化合物を必須成分とする感放射線性重合開始剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
- 請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物から形成された表示パネル用スペーサー。
- 請求項2に記載の表示パネル用スペーサーを具備してなる表示パネル。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005338328A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
JP2007133377A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-05-31 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
JP2007249005A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、液晶表示パネル用スペーサー、液晶表示パネル用スペーサーの形成方法、および液晶表示パネル |
JP2008070661A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 感光性ペースト組成物及びそれを用いて形成された焼成物パターン |
JP2011501816A (ja) * | 2008-07-01 | 2011-01-13 | エルジー・ケム・リミテッド | 複数の光開始剤を含む感光性樹脂組成物、これを用いた透明薄膜層及び液晶表示装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4633582B2 (ja) * | 2005-09-06 | 2011-02-16 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
JP4833040B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2011-12-07 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物及び液晶パネル用スペーサ |
JP4998735B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2012-08-15 | Jsr株式会社 | 感放射線性組成物、カラーフィルタ、ブラックマトリックスおよび液晶表示素子 |
JP4826803B2 (ja) * | 2007-03-20 | 2011-11-30 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサーとその製造法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4483758A (en) * | 1982-01-25 | 1984-11-20 | Polychrome Corporation | Method for making a negative working lithographic printing plate |
DE3421511A1 (de) * | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
US5399604A (en) * | 1992-07-24 | 1995-03-21 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Epoxy group-containing resin compositions |
DE69312970T2 (de) * | 1993-03-11 | 1997-12-18 | Minnesota Mining & Mfg | Strahlenhaertbarer, permanent entfernbarer acrylat/silikon-haftkleber |
JP4117668B2 (ja) * | 1999-03-03 | 2008-07-16 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
EP1235104A4 (en) * | 2000-08-29 | 2008-10-01 | Jsr Corp | COMPOSITION HAVING SUBSTANTIALLY MODIFIABLE REFRACTION INDEX AND METHOD FOR FORMING REFRACTION INDEX PATTERN |
JP2002278064A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-27 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル |
JP2003096149A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Jsr Corp | 光拡散反射膜形成用組成物、光拡散反射膜および液晶表示素子 |
-
2004
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005338328A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
JP2007133377A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-05-31 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
JP2007249005A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、液晶表示パネル用スペーサー、液晶表示パネル用スペーサーの形成方法、および液晶表示パネル |
JP2008070661A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 感光性ペースト組成物及びそれを用いて形成された焼成物パターン |
JP2011501816A (ja) * | 2008-07-01 | 2011-01-13 | エルジー・ケム・リミテッド | 複数の光開始剤を含む感光性樹脂組成物、これを用いた透明薄膜層及び液晶表示装置 |
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