JP2005220250A - インクジェット用インク組成物及びそれを用いた画像形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明の目的は、低照度の光源でも印字環境湿度に影響を受けずにインクの硬化性に優れ、滲み耐性に優れた高品位の画像が得られるインクジェット用インク組成物と、該インクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
【化１】

〔式中、Ｒ_A1はアルキル基を表し、Ｒ_A2〜Ｒ_A7はそれぞれ水素原子または置換基を表す。〕
【選択図】 なし

Description

本発明は、新規のインクジェット用インク組成物と、それを用いた画像形成方法に関するものである。

近年、インクジェット記録方式は簡便・安価に画像を作成出来るため、写真、各種印刷、マーキング、カラーフィルター等の特殊印刷など、様々な印刷分野に応用されてきている。特に、微細なドットを出射、制御する記録装置や、色再現域、耐久性、出射適性等を改善したインク及びインクの吸収性、色材の発色性、表面光沢などを飛躍的に向上させた専用紙を用い、銀塩写真に匹敵する画質を得ることも可能となっている。今日のインクジェット記録方式の画質向上は、記録装置、インク、専用紙の全てが揃って初めて達成されている。

しかしながら、専用紙を必要とするインクジェットシステムは、記録媒体が制限されること、記録媒体のコストアップが問題となる。そこで、専用紙と異なる被転写媒体へインクジェット方式により記録する試みが多数なされている。具体的には、室温で固形のワックスインクを用いる相変化インクジェット方式、速乾性の有機溶剤を主体としたインクを用いるソルベント系インクジェット方式や、記録後紫外線（ＵＶ）光により架橋させるＵＶインクジェット方式などである。

中でも、ＵＶインクジェット方式は、ソルベント系インクジェット方式に比べ比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性の無い記録媒体への記録が出来る点で、近年注目されつつあり、紫外線硬化型インクジェットインクが種々開示されている（例えば、特許文献１、２参照。）。

紫外線硬化型インクとしては、主にラジカル重合型、カチオン重合型が知られている。紫外線硬化型インクジェット記録方式においては、画質、即ち着弾ドット径は、着弾後の光照射タイミング、光照射照度、エネルギー、インク液滴サイズ、インクの感度、表面エネルギー、粘度、基材の濡れ性、着弾配列、誤差拡散パターンなどの因子により制御される。特に、画質を大きく左右する要因としては、インクの感度、粘度、表張、基材濡れ性と露光条件である。この中でも、インク感度は、ラジカル重合系の場合は酸素による重合阻害の影響を受けるためインク膜厚や露光照度に大きく依存し、カチオン重合系においては温度と湿度に大きく依存する。

ラジカル重合型紫外線硬化インクにおいては、酸素による重合阻害を改善するためには、酸素阻害を受けないモノマー、開始剤、開始助剤の工夫や、窒素などの不活性化ガスによりパージする方法等が知られている。

カチオン重合型紫外線硬化インクにおいては、湿度依存の影響を改善するために、着弾したインクを加熱する方法が知られている（例えば、特許文献３参照。）。カチオン重合型紫外線硬化インクで用いられるカチオン重合性のモノマーとしては、オキシラン環を持つエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物が知られている。

特に、エポキシ化合物とオキセタン化合物とを共に用いることにより、重合速度を顕著に増加させることが知られている。例えば、東亞合成研究年報 ＴＲＥＮＤ２号（１９９９年）、「オキセタン化合物の光カチオン硬化システムへの応用」、特許第２６７９５８６号公報等に記載されている。

この技術の応用例として、紫外線硬化型のインクジェットに用いることが開示されている（例えば、特許文献４参照。）。紫外線によりインクを硬化する紫外線硬化型インクジェット記録方式は、インク吸収性の乏しい基材に対しても画像形成する方法として、近年注目を集めている。

一般的には、紫外線硬化型のインクとしては、ラジカル重合型インクのものが良く知られ、実用化されている。一方、カチオン重合型のインクは、ラジカル重合型インクに見られるような酸素による重合阻害が無く、低照度の光源を用いることができること、アクリルモノマーが持つ臭気も無いこと、素材が低刺激性であることなど有利な点があるが、未だ実用化に至っていない。

その一因としては、高湿下で著しく感度低下する性質、温度により感度が依存する性質が挙げられる。環境依存性のあるインクは、その画質が環境に依存するという本質的な課題を有する。
特開平６−２００２０４号公報 特表２０００−５０４７７８号公報 特開２０００−１３７３７５号公報 特開２００１−２２０５２６号公報

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、低照度の光源でも印字環境湿度に影響を受けずにインクの硬化性に優れ、滲み耐性に優れた高品位の画像が得られるインクジェット用インク組成物と、該インクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供する。

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。

（請求項１）
下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。

〔式中、Ｒ_A1はアルキル基を表し、Ｒ_A2〜Ｒ_A7はそれぞれ水素原子または置換基を表す。〕
（請求項２）
前記一般式（Ａ）におけるＲ_A1が、炭素数１〜３のアルキル基であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用インク組成物。

（請求項３）
前記一般式（Ａ）におけるＲ_A1が、メチル基であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用インク組成物。

（請求項４）
紫外線照射により酸を発生する光酸発生剤を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。

（請求項５）
前記光酸発生剤がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項４に記載のインクジェット用インク組成物。

（請求項６）
光重合性化合物として、オキセタン化合物を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。

（請求項７）
光重合性化合物として、エポキシ化合物を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。

（請求項８）
少なくとも１つのノズルを有する記録ヘッドを用いて、請求項１〜７のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物をインクジェット記録材料上に画像様に吐出した後、該インクジェット記録材料上に着弾したインクジェット用インク組成物に、紫外線を照射して硬化させることを特徴とする画像形成方法。

本発明によれば、低照度の光源でも印字環境湿度の影響を受けずにインクの硬化性に優れ、滲み耐性に優れた高品位の画像が得られるインクジェット用インク組成物と、該インクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供することができる。

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。

本発明者は、上記課題に鑑みて鋭意検討を行った結果、前記一般式（Ａ）で表されるオキシラン環にアルキル基を導入した化合物を用いたインクジェット用インク組成物により、インク硬化時に低照度の光源を用いても、印字及び硬化時の環境、詳しくは湿度条件に依存することなく、安定した硬化を可能にし、かつ滲み耐性に優れたインクジェット用インク組成物を見出し、本発明に至った次第である。

以下、本発明の詳細について説明する。

本発明のインクジェット用インク組成物（以下、単にインク組成物ともいう）では、前記一般式（Ａ）で表される化合物を含有することを特徴とする。

前記一般式（Ａ）において、Ｒ_A1はアルキル基を表し，該アルキル基は直鎖でも分岐を有していても、環状になっていても良く、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒ_A1としては、炭素数１〜３のアルキル基であることが好ましく、更に好ましくはメチル基またはエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。

Ｒ_A2〜Ｒ_A7は各々水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、上述したアルキル基の他に、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、複素芳香族基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）等が挙げられ、これらの置換基は、更に上述の置換基によって置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。または、Ｒ_A2〜Ｒ_A7は各々の置換基の末端部が任意に結合して環を形成しても良く、該環は脂肪族炭化水素環であることが好ましく、該環には上述した置換基が置換していても良い。Ｒ_A2〜Ｒ_A7としては、水素原子、アルキル基またはヒドロキシ基であることが好ましく、より好ましくは水素原子またはアルキル基である。

以下に、本発明に係る一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されない。

本発明に係る上記一般式（Ａ）で表される化合物は、公知の合成法、例えば、米国特許第３，３８８，１０５号に記載の方法により合成可能であるが、以下に代表的な合成の一例を挙げる。

〔例示化合物Ａ−１の合成〕

〈化合物ｂ）の合成〉
２−メチル−ブタ−１，３−ジエンとアクリルアルデヒドとのＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応生成物である化合物ａ）（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，２３０７（１９８５）に記載の方法で合成）の１当量をメタノールに溶解後、３７％のホルマリン水をホルマリン換算で３．５倍モルを投入し、この溶液を攪拌しながら６０℃に昇温させた。続いて、ＫＯＨの４．５倍モルを蒸留水に溶解した溶液を２時間かけて滴下した。７時間攪拌し続けた後、反応溶液を減圧濃縮し、二層の残渣を得た。濃縮された油層を蒸留水で洗浄した。油層を減圧濃縮した後、３，５−ジ（ｔ−ブチル）−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を５モル％添加し、減圧蒸留を行い、収率８０〜８６％で無色結晶である化合物ｂ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）及びマススペクトルより目的物であることを確認した。

〈化合物ｃ）の合成〉
上記合成した化合物ｂ）の１当量を、１．０５倍モルの塩化メタンスルホニルと１．１倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液の５当量分を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮して、化合物ｃ）の粗結晶を得た。粗収率は９０〜９５％だった。この粗結晶にＢＨＴの５モル％を加え、減圧蒸留を行い無色透明液体である化合物ｃ）を得た。収率は８０〜８５％であった。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）及びマススペクトルより目的物であることを確認した。

〈例示化合物Ａ−１の合成〉
上記合成した化合物ｃ）の１当量を、ジクロロメタンに溶解させてから反応器に投入した。次いで、２倍モルのｍ−クロロ過安息香酸をジクロロメタンに懸濁させたものを反応溶液が４０℃を超えないように１時間かけて滴下した。析出したｍ−クロロ安息香酸を濾別し、冷ジクロロメタンでよく洗浄した。有機層に０．６当量の水酸化カルシウムを投入し、３０分攪拌後、析出した結晶を濾別し、冷ジクロロメタンで洗浄した。有機層を５％のＮａＨＳＯ₄水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、濃縮して減圧蒸留により例示化合物Ａ−１を得た。収率は６０〜７０％であった。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）及びマススペクトルより目的物であることを確認した。

〔例示化合物Ａ−２の合成〕
上記例示化合物Ａ−１の合成において、化合物ｂ）の合成に用いたアクリルアルデヒドに代えて、クロトンアルデヒドを用いて、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，６８，２１１２（１９４６）に記載の方法を参考にして合成した以外は同様にして，例示化合物Ａ−２を合成した。

〔例示化合物Ａ−３の合成〕
上記例示化合物Ａ−１の合成において、化合物ｂ）の合成に用いたホルマリン水溶液をアセトアルデヒドに変更し、Ｍｏｎａｔｓｈ．Ｃｈｅｍ．，１１，３８９（１８９０）に記載の方法を参考にして合成した以外は同様にして、例示化合物Ａ−３を合成した。

〔例示化合物Ａ−７の合成〕
上記例示化合物Ａ−１の合成において、化合物ｂ）の合成に用いた２−メチル−ブタ−１，３−ジエンとアクリルアルデヒドを、３−メチル−ペンタ−１，３−ジエンとクロトンアルデヒドに変更し、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，６８，２１１２（１９４６）に記載の方法を参考にして合成した以外は同様にして、例示化合物Ａ−７を合成した。

〔例示化合物Ａ−１４の合成〕
上記例示化合物Ａ−１の合成において、化合物ｂ）の合成に用いた２−メチル−ブタ−１，３−ジエンを、２−エチル−ブタ−１，３−ジエンに変更した以外は同様にして、例示化合物Ａ−１４を合成した。

〔例示化合物Ａ−２１の合成〕
上記例示化合物Ａ−１の合成において、化合物ｂ）を５−メチル−ビシクロ［２，２，１］ヘプタ−５−エン−２−カルボアルデヒドに変更した以外は同様にして、例示化合物Ａ−２１を合成した。

〔例示化合物Ａ−３６の合成〕
上記例示化合物Ａ−１の合成において、化合物ｂ）の合成に用いたホルマリン水溶液をアニスアルデヒドに変更し、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５０（２３），４５０８（１９８５）に記載の方法を参考に合成した以外は同様にして、例示化合物Ａ−３６を合成した。

〔例示化合物Ａ−４１の合成〕
上記例示化合物Ａ−１の合成において、化合物ｂ）の合成に用いた２−メチル−ブタ−１，３−ジエンを、３−メチレン−ヘプタ−１−エンに変更した以外は同様にして、例示化合物Ａ−４１を合成した。

本発明のインク組成物においては、上記説明した本発明に係る一般式（Ａ）で表されるオキシラン環にアルキル基を導入した化合物と共に、紫外線照射により酸を発生する光酸発生剤を含有することが好ましい。

本発明のカチオン重合型のインク組成物で用いる光酸発生剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる（有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）、１８７〜１９２ページ参照）。本発明に好適な化合物の例を以下に挙げる。

第１に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物のＢ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-塩、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-塩などのスルホン酸塩を挙げることができる。

対アニオンとしてボレート化合物をもつものおよびＰＦ₆ ^-塩が酸発生能力が高く好ましい。オニウム化合物の具体的な例を以下に示す。

第２に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。具体的な化合物を以下に例示する。

第３に、ハロゲン化水素を発生するハロゲン化物も用いることができる。以下に具体的な化合物を例示する。

第４に、鉄アレン錯体を挙げることができる。

本発明で用いられる光酸発生剤としては、アリールスルホニウム塩誘導体（例えば、ユニオン・カーバイド社製のサイラキュアＵＶＩ−６９９０、サイラキュアＵＶＩ−６９７４、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２）、アリルヨードニウム塩誘導体（例えば、ローディア社製のＲＰ−２０７４）、アレン−イオン錯体誘導体（例えば、チバガイギー社製のイルガキュア２６１）、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤は、カチオン重合性を有する化合物１００質量部に対して、０．２〜２０質量部の比率で含有させることが好ましい。光酸発生剤の含有量が０．２質量部未満では、硬化物を得ることが困難であり、２０質量部を越えて含有させても、更なる硬化性向上効果はない。これら光酸発生剤は、１種または２種以上を選択して使用することができる。

本発明で用いられる光酸発生剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩が好ましく、中でもスルホニウム塩化合物が更に好ましい。

より好ましいスルホニウム塩化合物の構造として、下記の一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩が挙げられる。

上記一般式（Ｉ−１）において、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃はそれぞれ置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表す。Ｘ₁₁ ^-は対イオンを表す。

上記一般式（Ｉ−２）において、Ｒ₁₄は置換基を表し、ｑは０〜２の整数を表す。Ｒ₁₅、Ｒ₁₆はそれぞれ置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ₁₂ ^-は対イオンを表す。

上記一般式（Ｉ−３）において、Ｒ₁₇は置換基を表し、ｒは０〜３の整数を表す。Ｒ₁₈は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀はそれぞれ置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ₁₃ ^-は対イオンを表す。

更に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩について説明する。

一般式（Ｉ−１）において、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃はそれぞれ置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。

置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｍ、ｎ、ｐはそれぞれ０〜２の整数を表し、それぞれが１以上であることが好ましい。Ｘ₁₁ ^-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ₆ ^-が酸発生能力が高く好ましい。

一般式（Ｉ−２）において、Ｒ₁₄は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｑは０〜２の整数を表し、１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。

また、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆は、それぞれ置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、水酸基等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基である。

Ｒ₁₅、Ｒ₁₆として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、水酸基である。

Ｘ₁₂ ^-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ₆ ^-が酸発生能力が高く好ましい。

一般式（Ｉ−３）において、Ｒ₁₇は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。ｒは０〜３の整数を表し１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。

Ｒ₁₈は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。

Ｒ₁₈として好ましくは、水素原子または無置換の低級アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基）であり、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀として、好ましくは置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。Ｘ₁₃ ^-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ₆ ^-が酸発生能力が高く好ましい。

以下に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

また、上記一般式（Ｉ−１）で表されるスルホニウム塩として、更に好ましくは下記一般式（Ｔ−１）で表されるスルホニウム塩が挙げられる。

上記一般式（Ｔ−１）において、Ｒ^T11、Ｒ^T12は各々アルキル基または芳香族基を表し、Ｚ^T1は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ^T13、Ｒ^T14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、ｍ^t1は０〜４の整数を表し、ｎ^t1及びｐ^t1は各々１〜５の整数を表し、Ｘ^T1は対アニオンを表す。

更に、上記一般式（Ｔ−１）で表されるスルホニウム塩の詳細について説明する。

上記一般式（Ｔ−１）において、Ｒ^T11、Ｒ^T12は各々アルキル基または芳香族基を表し、アルキル基としては、直鎖でも分岐を有していても環状になっていてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

芳香族基としては、芳香族炭化水素環基でも芳香族複素環基でもよく、縮合環を有していてもよく、例えば、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）等が挙げられる。

上述したアルキル基または芳香族基は、さらに置換基を有していていもよく、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していてもよい。該置換基の例としては、上述したアルキル基の他に、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、複素芳香族基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）等が挙げられる。これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｒ^T11、Ｒ^T12で表されるアルキル基または芳香族基は、さらに置換基を有していても有していなくてもよいが、好ましくは、無置換のアルキル基または芳香族基であるか、またはハロゲン原子が置換したアルキル基またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基または芳香族基であるか、またはフッ素原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。

Ｚ^T1は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｚ^T1はスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。

Ｒ^T13、Ｒ^T14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。

アルキル基、芳香族基としては、上述したＲ^T11、Ｒ^T12と同義の基を表す。

アルコキシ基、該アリールオキシ基としては、酸素原子に上述したＲ^T11、Ｒ^T12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としてはアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）等が挙げられる。

アルキルチオ基、アリールチオ基としては、硫黄原子に上述したＲ^T11、Ｒ^T12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としては、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）等が挙げられる。上述した芳香族基、アリールオキシ基、アリールチオ基は縮合環を有していてもよい。

上述したアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基はさらに置換基を有していていもよく、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していてもよい。該置換基の例としては、上述したＲ^T11の置換基の例と同義の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに置換基によって置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ^T13、Ｒ^T14で表されるアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基はさらに置換基を有していても、有していなくてもよいが、好ましくは無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるか、またはハロゲン原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるか、またはフッ素原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。

ｍ１は０〜４の整数を表し、好ましく０〜３の整数であり、より好ましくは０〜２の整数であり、ｎ１及びｐ１は各々１〜５の整数を表し、各々好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは各々１〜２の整数である。

複数個のＲ^T12、Ｒ^T13、Ｒ^T14、は各々、同じでも異なってもよく、Ｒ^T11とＲ^T12あるいは複数個のＲ^T12同士が結合して環を形成してもよく、Ｒ^T12とＲ^T13あるいは複数個のＲ^T13同士が結合して環を形成してもよく、Ｒ^T12とＲ^T14あるいは複数個のＲ^T14同士が結合して環を形成してもよく、Ｒ^T12とＲ^T14が結合して環を形成してもよい。Ｒ^T13の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。Ｒ^T14の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。

Ｘ^T1は対アニオンを表し、該対アニオンとしては、Ｆ^-、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-等のハロゲンイオン、ＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-等の錯イオン、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-、Ｃ₆Ｆ₅ＳＯ₃ ^-、ＣＨ₃ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-等のスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-及びＰＦ₆ ^-が酸発生能力が高く好ましい。

以下に、一般式（Ｔ−１）で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

これらの化合物は、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，４２，３１２（１９６９）．、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）．、特開平１１−８０１１８号、特開２００２−２４１４７４号、米国特許第４４０４４５９号記載の方法に準じて合成することができる。

本発明のインク組成物においては、本発明に係る一般式（Ａ）で表されるオキシラン環にアルキル基を導入した化合物と共に、光重合性化合物としてオキセタン化合物を含有することが好ましい。

本発明のインク組成物においては、オキセタン化合物としては、従来公知のオキセタン化合物を用いることができるが、特に２位が置換されていないオキセタン化合物を併用することで、感度向上効果あるいは硬化膜物性の改良効果を得ることができ好ましい。

以下、２位が置換されていないオキセタン化合物について説明する。

２位が置換されていないオキセタン化合物の一例としては、下記一般式（１０１）で示される化合物が挙げられる。

一般式（１０１）において、Ｒ¹は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。Ｒ²はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等の炭素数２〜６個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基等である。本発明で使用するオキセタン化合物としては、１個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。

２個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０２）で示される化合物等が挙げられる。

一般式（１０２）において、Ｒ¹は上記一般式（１０１）におけるそれと同様の基である。Ｒ³は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等の線状または分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。

また、Ｒ³としては、下記一般式（１０３）、（１０４）及び（１０５）で示される基から選択される多価基も挙げることができる。

一般式（１０３）において、Ｒ⁴は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜４個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。

一般式（１０４）において、Ｒ⁵は酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ₂、Ｃ（ＣＦ₃）₂、またはＣ（ＣＨ₃）₂を表す。

一般式（１０５）において、Ｒ⁶はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｎは０〜２０００の整数である。Ｒ⁷はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。Ｒ⁷としては、更に下記一般式（１０６）で示される基から選択される基も挙げることができる。

一般式（１０６）において、Ｒ⁸はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｍは０〜１００の整数である。

２個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。

例示化合物１１は、前記一般式（１０２）において、Ｒ¹がエチル基、Ｒ³がカルボキシル基である化合物である。また、例示化合物１２は、前記一般式（１０２）において、Ｒ¹がエチル基、Ｒ³が前記一般式（１０５）でＲ⁶及びＲ⁷がメチル基、ｎが１である化合物である。

２個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式（１０７）で示される化合物がある。

一般式（１０７）において、Ｒ¹は前記一般式（１０１）のＲ¹と同義である。

また、３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０８）で示される化合物が挙げられる。

一般式（１０８）において、Ｒ¹は前記一般式（１０１）におけるＲ¹と同義である。Ｒ⁹としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基または下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは３または４である。

上記Ａにおいて、Ｒ¹⁰はメチル基、エチル基またはプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。

３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物１３が挙げられる。

更に、上記説明した以外の１〜４個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式（１０９）で示される化合物が挙げられる。

一般式（１０９）において、Ｒ⁸は前記一般式（１０６）のＲ⁸と同義である。Ｒ¹¹はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基またはトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。

本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。

上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られた方法に従えばよく、例えば、パティソン（Ｄ．Ｂ．Ｐａｔｔｉｓｏｎ， Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３４５５，７９（１９５７））が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。また、これら以外にも、分子量１０００〜５０００程度の高分子量を有する１〜４個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。

本発明のインク組成物においては、本発明に係る一般式（Ａ）で表されるオキシラン環にアルキル基を導入した化合物と共に、光重合性化合物としてエポキシ化合物を含有することが好ましい。

エポキシ化合物において、芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルであり、例えば、ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、ならびにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。

脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルケン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによつて得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましい。

脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルまたは１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。

これらのエポキシドのうち、迅速な硬化性を考慮すると、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシドの１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。

脂環式エポキシドとして特に好ましいのは、下記一般式（VI）、（VII）または（VIII）で表される化合物である。

上記一般式（VI）において、Ｒ₆₀₁は脂肪族基を表し、ｍ６は０〜２を表す。Ｘ₁は−（ＣＨ₂）_n6−または−（Ｏ）ｎ６−を表し、ｎ６は０または１を表す。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表す。ｒ１は１〜３を表す。Ｌ₃は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基または単結合を表す。

上記一般式（VII）において、Ｒ₇₀₁は脂肪族基を表し、ｍ７は０〜２を表す。Ｘ₂は−（ＣＨ₂）_n7−または−（Ｏ）_n7−を表し、ｎ７は０または１を表す。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表す。ｒ２は１〜３を表す。Ｌ₄は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基または単結合を表す。

一般式（VIII）において、Ｒ₈₀₁は脂肪族基を表し、ｍ８は０〜２を表す。Ｘ₃は−（ＣＨ₂）_n8−または−（Ｏ）_n8−を表し、ｎ８は０または１を表す。Ｒ₈₀₂、Ｒ₈₀₃は置換基を表し、ｐ３は０または１を表す。

更に、一般式（VI）、（VII）または（VIII）で表される脂環式エポキシドについて説明する。上記の式中、Ｒ₆₀₁、Ｒ₇₀₁、Ｒ₈₀₁は脂肪族基を表わす、脂肪族基としては炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）が挙げられる。好ましくは炭素数１〜３個のアルキル基であり、メチル基、エチル基がより好ましい。ｍ６、ｍ７、ｍ８は０〜２を表し、１以上が好ましい。Ｘ₁は−（ＣＨ₂）_n6−または−（Ｏ）_n6−を、Ｘ₂は−（ＣＨ₂）_n7−または−（Ｏ）_n7−を、Ｘ₃は−（ＣＨ₂）_n8−または−（Ｏ）_n8−を表す。ｎ６、ｎ７、ｎ８は０または１を表し、ｎ６、ｎ７、ｎ８が０の場合はＸ₁、Ｘ₂、Ｘ₃が存在しないことを表す。ｍ６＋ｎ６、ｍ７＋ｎ７またはｍ８＋ｎ８は１以上が好ましい。

Ｌ₃は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基あるいは単結合を、Ｌ４は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基あるいは単結合を表す。主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５の２価の連結基の例としては以下の基およびこれらの基と−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。

メチレン基：−ＣＨ₂−、
エチリデン基：＞ＣＨＣＨ₃、
イソプロピリデン基：＞Ｃ（ＣＨ₃）₂、
１，２−エチレン基：−ＣＨ₂ＣＨ₂−、
１，２−プロピレン基：−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−、
１，３−プロパンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、
２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基：−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂−、
２，２−ジメトキシ−１，３−プロパンジイル基：−ＣＨ₂Ｃ（ＯＣＨ₃）₂ＣＨ₂−、２，２−ジメトキシメチル−１，３−プロパンジイル基：−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₂ＯＣＨ₃）₂ＣＨ₂−、
１−メチル−１，３−プロパンジイル基：−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＣＨ₂−、
１，４−ブタンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、
１，５−ペンタンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、
オキシジエチレン基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
チオジエチレン基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＣＨ₂ＣＨ₂−、
３−オキソチオジエチレン基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
３，３−ジオキソチオジエチレン基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、
１，４−ジメチル−３−オキサ−１，５−ペンタンジイル基：−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−、
３−オキソペンタンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
１，５−ジオキソ−３−オキサペンタンジイル基：−ＣＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＯ−、
４−オキサ−１，７−ヘプタンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、
３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
１，４，７−トリメチル−３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基：−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−、
５，５−ジメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
５，５−ジメトキシ−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ（ＯＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
５，５−ジメトキシメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₂ＯＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
４，７−ジオキソ−３，８−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ−ＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ−ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、
１，３−シクロペンタンジイル基：−１，３−Ｃ₅Ｈ₈−、
１，２−シクロヘキサンジイル基：−１，２−Ｃ₆Ｈ₁₀−、
１，３−シクロヘキサンジイル基：−１，３−Ｃ₆Ｈ₁₀−、
１，４−シクロヘキサンジイル基：−１，４−Ｃ₆Ｈ₁₀−、
２，５−テトラヒドロフランジイル基：２，５−Ｃ₄Ｈ₆Ｏ−、
ｐ−フェニレン基：−ｐ−Ｃ₆Ｈ₄−、
ｍ−フェニレン基：−ｍ−Ｃ₆Ｈ₄−、
α，α′−ｏ−キシリレン基：−ｏ−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＨ₂−、
α，α′−ｍ−キシリレン基：−ｍ−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＨ₂−、
α，α′−ｐ−キシリレン基：−ｐ−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＨ₂−、
フラン−２，５−ジイル−ビスメチレン基：２，５−ＣＨ₂−Ｃ₄Ｈ₂Ｏ−ＣＨ₂−、
チオフェン−２，５−ジイル−ビスメチレン基：２，５−ＣＨ₂−Ｃ₄Ｈ₂Ｓ−ＣＨ₂−、
イソプロピリデンビス−ｐ−フェニレン基：−ｐ−Ｃ₆Ｈ₄−Ｃ（ＣＨ₃）₂−ｐ−Ｃ₆Ｈ₄−。

３価以上の連結基としては、以上に挙げた２価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基、およびそれらと−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。

Ｌ₃、Ｌ₄は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基である。

Ｌ₃、Ｌ₄としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。Ｌ₃、Ｌ₄としては主鎖に２級以上の炭素による分岐を有するものが好ましく、３級炭素による分岐を有するものがより好ましい。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表し、ｐ１＋ｑ１が１以上であるのが好ましい。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表し、それぞれ１が好ましい。ｒ１、ｒ２はそれぞれ１〜３を表し、それぞれ１または２が好ましい。

Ｒ₈₀₂、Ｒ₈₀₃は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜８個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜８個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。これらの置換基は更に置換されていてもよい。置換基の例としては先に挙げたものと同じものが挙げられる。Ｒ₈₀₂とＲ₈₀₃が末端で結合して環を形成してもよいし、Ｒ₈₀₂とＲ₈₀₃が同じ炭素上に置換してもよい。ｐ３は０または１を表し、１が好ましい。

以下に、好ましい脂環式エポキシドの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明のインク組成物においては、上記説明した本発明に係る一般式（Ａ）で表される化合物と、本発明に係る光酸発生剤、オキセタン化合物、エポキシ化合物の他に、各種の添加剤を含有することができる。

本発明のインク組成物においては、ビニルエーテル化合物を含有していても良い。

ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジまたはトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。

これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジまたはトリビニルエーテル化合物が好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。本発明では、上記ビニルエーテル化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。

本発明のインク組成物で用いる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる色材が使用出来るが、耐候性の点から顔料が好ましい。

本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。

Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ−１、３、１２、１３、１４、１７、８１、８３、８７、９５、１０９、４２、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ−１６、３６、３８、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ−５、２２、３８、４８：１、４８：２、４８：４、４９：１、５３：１、５７：１、６３：１、１４４、１４６、１８５、１０１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ−１９、２３、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ−１５：１、１５：３、１５：４、１８、６０、２７、２９、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ−７、３６、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｗｈｉｔｅ−６、１８、２１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ−７、
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはＡｖｅｃｉａ社のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤および分散助剤は、顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部添加することが好ましい。分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明に用いる紫外線硬化型インクでは、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のＶＯＣの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。

顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を０．０８〜０．５μｍとすることが好ましく、最大粒径は０．３〜１０μｍ、好ましくは０．３〜３μｍとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性および硬化の感度を維持することができる。

本発明のインク組成物においては、色材濃度として、インク全体の１〜１０質量％であることが好ましい。

本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。

熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。具体的には、英国特許第９９８，９４９号明細書に記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第４，０６０，４２０号明細書に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭５９−１５７６３７号公報に記載のプロピール酸類の塩、２−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭５９−１６８４４０号公報に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭５９−１８０５３７号公報に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭５９−１９５２３７号公報に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。その他、英国特許第９９８，９４５号、米国特許第３，２２０，８４６号、英国特許第２７９，４８０号の各明細書、特開昭５０−２２６２５号、同６１−３２８４４号、同６１−５１１３９号、同６１−５２６３８号、同６１−５１１４０号、同６１−５３６３４号〜同６１−５３６４０号、同６１−５５６４４号、同６１−５５６４５号の各公報に記載の熱塩基発生剤が有用である。

更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、ｐ−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、ｐ−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。

本発明のインク組成物は、紫外線硬化性化合物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径３μｍ以下、更には１μｍ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。

本発明のインク組成物は、２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインクは、特に通常の４〜１０ｋＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ｋＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。粘度が５ｍＰａ・ｓ未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、５０ｍＰａ・ｓを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出特性そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。

また、本発明のインク組成物は、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。

本発明においては、インクの２５℃における表面張力が、２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。２５℃におけるインクの表面張力が２５ｍＮ／ｍ未満では、安定した出射が得られにくく、また４０ｍＮ／ｍを越えると所望のドット径を得ることができない。２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲外では、本発明のように、インクの粘度や含水率を制御しながら出射、光照射しても、様々な支持体に対して均一なドット径を得ることが困難となる。

表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。本発明に使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物などが挙げられる。これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタンなど、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環など重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。

本発明のインク組成物には、上記説明した以外に様々な添加剤を用いることができる。例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することが出来る。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。この場合、耐溶剤性やＶＯＣの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は０．１〜５％の範囲であり、好ましくは０．１〜３％である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。

本発明の画像形成方法においては、少なくとも１つのノズルを有するインクジェット記録ヘッドより、上記説明した本発明のインク組成物をインクジェット記録材料上に画像様に吐出し、インクジェット記録材料上にインクを着弾させた後、紫外線を照射することによりインクジェット用インク組成物を硬化させることを特徴とする。

本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては、３０〜８０℃、好ましくは３５〜６０℃である。

本発明において、インクが着弾し、紫外線を照射して硬化した後の総インク膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。スクリーン印刷分野の紫外線硬化型インクジェット記録では、総インク膜厚が２０μｍを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため使えない。また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が２〜１５ｐｌであることが好ましい。

本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、本発明においては、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで紫外線照射を開始することが好ましい。

詳しくは、紫外線の照射条件として、インク着弾後０．００１〜２．０秒の間に紫外線照射を開始することが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．４秒である。また、０．１〜３秒後、好ましくは０．２〜１秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで紫外線照射を行なった後、終了させることが好ましい。上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。

紫外線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭６０−１３２７６７号公報に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第６，１４５，９７９号明細書では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へ紫外線を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。

また、紫外線を照射を２段階に分け、まずインク着弾後０．００１〜２．０秒の間に前述の方法で紫外線を照射し、かつ、全印字終了後、更に紫外線を照射する方法も好ましい態様の１つである。紫外線の照射を２段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。

紫外線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ＵＶランプ、低圧水銀ランプ、ＵＶレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、ＬＥＤをなどがあるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。光源波長としては２５０〜３７０ｎｍ、好ましくには２７０〜３２０ｎｍに発光波長のピークがある光源が、感度の点で好ましい。照度は、１〜３０００ｍＷ／ｃｍ²、好ましくは１〜２００ｍＷ／ｃｍ²である。また、電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。

本発明のインク組成物を用いて、インクジェット記録材料（基材ともいう）への画像印字を行うが、インクジェット記録材料としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。

本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙などの他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。

本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＯＰＳ（延伸ポリスチレン）フィルム、ＯＰＰ（延伸ポリプロピレン）フィルム、ＯＮｙ（延伸ナイロン）フィルム、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）フィルム、ＰＥ（ポリエチレン）フィルム、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを挙げることができる。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＶＡ、ゴム類などが使用できる。また、金属類やガラス類にも適用可能である。これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材はインクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。

これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、インクジェット記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。本発明の構成では、表面エネルギーの低いＯＰＰフィルム、ＯＰＳフィルムや表面エネルギーの比較的大きいＰＥＴまでを含むが、基材として、濡れ指数が４０〜６０ｍＮ／ｍであることが好ましい。

本発明において、包装の費用や生産コスト等のインクジェット記録材料のコスト、プリントの作成効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺（ウェブ）なインクジェット記録材料を使用する方が有利である。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

《インクジェットインクの調製》
（マゼンタインク１の調製）
下記の組成からなるマゼンタインク１を調製した。マゼンタインク１は、光酸発生剤を除く各組成物を、サンドグラインダーを用いて４時間分散した後、光酸発生剤を添加し、０．８μｍのメンブランフィルターで濾過を行った後、５０℃に加熱しながら減圧脱水を行って調製した。

顔料：ＰＯ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８４） ３質量部
オキセタニル環とオキシラン環を同一分子内に有する化合物（７、８−エポキシ−２−オキサ−５−メチル［３，５］スピロノナン、特開２００２−４０６３２実施例１記載化合物） ６０質量部
エポキシ化合物：Ｓ１（セロキサイド２０２１Ｐ） ２０質量部
オキセタン化合物：アロンオキセタンＯＸＴ２２１ ２０質量部
ソルスパース２４０００（Ａｖｅｃｉａ社製） １質量部
光酸発生剤：ＵＶＩ−６９９０ ５質量部
（マゼンタインク２〜４４の調製）
上記マゼンタインク１の調製において、顔料、オキセタニル環とオキシラン環を同一分子内に有する化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、光酸発生剤を、表１に記載したような構成に変更した以外は同様にして、マゼンタインク２〜４４を調製した。

表１に記載の各化合物の詳細を、以下に示す。また、表１に記載の添加量は質量部を表す。

〈顔料〉
Ｐ０：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８４
Ｐ１：粗製銅フタロシアニン（東洋インク製造社製の「銅フタロシアニン」）の２５０部、塩化ナトリウムの２５００部及びポリエチレングリコール（東京化成社製の「ポリエチレングリコール３００」）の１６０部を、スチレン製４．５５Ｌ（１ガロン）のニーダー（井上製作所社製）に仕込み、３時間混練した。次に、この混合物を２．５リットルの温水に投入し、約８０℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約１時間攪拌しスラリー状とした後、濾過、水洗を５回繰り返して塩化ナトリウムおよび溶剤を除き、次いでスプレードライをして乾燥して顔料Ｐ１を得た。

Ｐ２：キナクリドン系赤顔料（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙ社製の「シンカシアマゼンタＲＴ−３５５−Ｄ」）の２５０部、塩化ナトリウムの２５００部及び「ポリエチレングリコール３００」の１６０部を、スチレン製４．５５Ｌ（１ガロン）ニーダーに仕込み、Ｐ１と同様にして顔料Ｐ２を得た。

〈オキセタニル環とオキシラン環を同一分子内に有する化合物：複合化合物と称す〉
＊Ａ：７、８−エポキシ−２−オキサ−５−メチル［３，５］スピロノナン
〈エポキシ化合物〉
Ｓ１：セロキサイド２０２１Ｐ（脂環式エポキシ、ダイセルＵＣＢ社製）
Ｓ２：セロキサイド３０００（脂環式エポキシ、ダイセルＵＣＢ社製）
〈光開始剤〉
ＳＰ−１５２：トリフェニルスルホニウム塩（アデカオプトマーＳＰ−１５２旭電化社製）
＊Ｂ：トリフェニルスルホニウム塩（サイラキュアＵＶＩ６９９０ユニオンカーバイド社製）
〈オキセタン環含有化合物〉
ＯＸＴ２２１：ジ〔１−エチル（３−オキセタニル）〕メチルエーテル（東亞合成社製）
《インクジェット画像記録及び評価》
上記調製した各マゼンタインクを用いて、下記の方法に従って画像記録及び得られた画像の評価を行った。

〔画像評価Ａ〕
（画像記録）
得られた各マゼンタインクを、液滴サイズ７ｐｌが得られるピエゾタイプのインクジェットノズル（ノズルピッチ３６０ｄｐｉ、本発明でいうｄｐｉとは２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）を、ノズル部分を５０℃に加熱制御し、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを基材として用いて出射し、マゼンタベタ画像と６ポイントＭＳ明朝体文字を印字した。光源は、３０８ｎｍに主ピークを持つ蛍光管を用い、光源直下、基材面の照度が１０ｍＷ／ｃｍ²の条件で、着弾後０．２秒後に露光を開始し、０．７秒後に露光を終了させた。なお、露光エネルギーは５ｍＪ／ｃｍ²であった。この画像印字を低湿環境（２５℃、２０％ＲＨ）及び高湿環境（２５℃、８０％ＲＨ）にて行った。

（画像の評価）
以上のようにして得られた各画像について、下記の評価を行った。

〈インク硬化性の評価〉
各環境下で形成した印字画像について、下記の基準に則りインク硬化性の評価を行った。

○：露光終了直後に触っても画像はタッキネスがない
△：露光終了直後に触ると画像はタッキネスが若干あるが、１分後にはタッキネスが無くなる
×：露光終了１分後でもタッキネスが残る
〈基材接着性の評価〉
各環境下で形成したベタ画像上に、幅２５ｍｍのセロテープ（Ｒ）を貼り付けて強く圧着した後、９０度の剥離角度で素早く剥離し、隔離後の画像の状態を目視観察し、下記の基準に則り基材接着性の評価を行った。

○：テープ剥離でも画像は剥がれない
△：テープ剥離で画像が一部剥がれる
×：テープ剥離で画像が全て剥がれる
〈画像滲み耐性の評価〉
各環境下で形成した６ポイントＭＳ明朝体文字をルーペで観察し、隣り合うドットの状態を観察し、下記の基準に則り画像滲み耐性の評価を行った。

○：隣接するドット間の滲みが殆どない
△：隣接するドット間の滲みが僅かに見られる
×：各ドットが大きく滲む
以上により得られた結果を、表２、表３に示す。

〔画像評価Ｂ〕
上記画像評価Ａにおいて、インクを印字した後の露光照射開始時間を０．６秒に、また露光照射終了時間を１．１秒後に変更した以外は、同様にして、画像記録及び評価を行った。露光時間、露光エネルギーは画像評価Ａと同じく、それぞれ０．５秒間、５ｍＪ／ｃｍ²であった。得られた結果を表４、表５に示す。

表２〜表５に記載の結果より明らかなように、本発明のインクジェット用インク組成物は比較例に対し、高湿環境下や様々な露光環境でもインク硬化性、基材密着性に優れ、かつ画像滲み耐性に優れた高品位の画像を得られることが分かる。

Claims (8)

1. 下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
   

   

   〔式中、Ｒ_A1はアルキル基を表し、Ｒ_A2〜Ｒ_A7はそれぞれ水素原子または置換基を表す。〕
2. 前記一般式（Ａ）におけるＲ_A1が、炭素数１〜３のアルキル基であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用インク組成物。
3. 前記一般式（Ａ）におけるＲ_A1が、メチル基であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用インク組成物。
4. 紫外線照射により酸を発生する光酸発生剤を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。
5. 前記光酸発生剤がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項４に記載のインクジェット用インク組成物。
6. 光重合性化合物として、オキセタン化合物を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。
7. 光重合性化合物として、エポキシ化合物を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。
8. 少なくとも１つのノズルを有する記録ヘッドを用いて、請求項１〜７のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物をインクジェット記録材料上に画像様に吐出した後、該インクジェット記録材料上に着弾したインクジェット用インク組成物に、紫外線を照射して硬化させることを特徴とする画像形成方法。