JP2005217302A - 固体撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 フォトダイオードの飽和電荷量を増加するようにしても残像を生じないようにすることを目的とする。
【解決手段】 入射光を信号電荷に光電変換し蓄積する光電変換手段1と、この蓄積された信号電荷を電圧に変換するための蓄積領域3と、この光電変換手段1に蓄積された信号電荷をこの蓄積領域3に転送するための転送ゲート2とを持つ画素が行列状に複数配列された固体撮像装置において、この転送ゲート2の下にポテンシャルの段差をつけることによって飽和電荷量を増加させるようにしたものである。
【選択図】 図1
【解決手段】 入射光を信号電荷に光電変換し蓄積する光電変換手段1と、この蓄積された信号電荷を電圧に変換するための蓄積領域3と、この光電変換手段1に蓄積された信号電荷をこの蓄積領域3に転送するための転送ゲート2とを持つ画素が行列状に複数配列された固体撮像装置において、この転送ゲート2の下にポテンシャルの段差をつけることによって飽和電荷量を増加させるようにしたものである。
【選択図】 図1
Description
本発明は多画素化、小型化を図るのに適用して好適な固体撮像装置に関する。
一般に固体撮像装置は図7、図8に示す如く、入射光を信号電荷に光電変換し蓄積する光電変換手段(フォトダイオードPD、センサー部)と、この蓄積された信号電荷を電圧に変換するための蓄積領域(フローティングディフュージョンFD)とこの光電変換手段(フォトダイオードPD)に蓄積された信号電荷をこの蓄積領域(フローティングディフュージョンFD)に転送する転送ゲートとを持つ画素を、行列状に複数配列している。
この固体撮像装置は、多画素化、小型化が進むにつれてユニットセルサイズが小さくなり、それに伴いこの画素に占めるトランジスタの面積の割合が増加し、光電変換手段であるフォトダイオードの面積が小さくなるので飽和電荷量が低下する。この光電変換手段であるフォトダイオードの飽和電荷量が低下すると画質が低下するため、この固体撮像装置においては大きな問題となる。
即ち、図5は従来の固体撮像装置の1画素の平面構成例を示し、1は光電変換手段を構成するフォトダイオード(PD)、2は転送ゲート、3はフローティングディフュージョン(FD)を示す。
この図5のIV−IV線断面図を図4Aに示す。この図4Aにおいて4はp型半導体基板を示し、このp型半導体基板4にn型領域1aを設け、フォトダイオード(PD)1を形成する。
また、このp型半導体基板4にn+型領域3aを設け、フローティングディフュージョン(FD)3を形成し、このフォトダイオード1のn型領域1a及びフローティングディフュージョン3のn+型領域3a間のp型半導体基板4上にSiO2の絶縁層5を介して転送ゲート2を形成する。
また、図4Aにおいて、6はn+型領域6aより成るリセットドレインを示し、このフローティングディフュージョン3のn+型領域3a及びリセットドレイン6のn+型領域6a間のp型半導体基板4上に絶縁層5を介してリセットゲート7を形成する。
この場合、n型領域1a、転送ゲート2及びn+型領域3aでフローティングディフュージョン3への読み出しMOSトランジスタ12を構成し、このn+型領域3a、リセットゲート7及びn+型領域6aでフローティングディフュージョン3の信号電荷をリセットするリセットMOSトランジスタ14を構成する。
この図4Aに示す如き画素の蓄積時のポテンシャル分布は図4Bに示す如きで転送ゲート2に読み出し信号を供給したときのポテンシャル分布は図4Cに示す如くなり、その後、転送ゲート2より読み出し信号を取り除いた読み出し後のポテンシャル分布は図4Dに示す如くである。
ところで、このフォトダイオード1の飽和電荷量を増加する方法として従来、図6Aに示す如くこのフォトダイオード1にインプラするn型不純物のドーズ量を増加させてn型領域をn+型領域1bとし、このフォトダイオード1のポテンシャルを図6Bに示す如く深くしたり、特許文献1に示す如く、フォトダイオードのポテンシャル形状を平坦化して飽和電荷量を増加するようにしたものがある。
特開2000−164849号公報
然しながら、この固体撮像装置の多画素化、小型化を図ったときには、1画素のサイズが小さくなり、このフォトダイオード1の飽和電荷量を増加するには限界があり、この飽和電荷量をこの限界以上に増加しフローティングディフュージョン3の面積を増やさないときには、転送ゲート2に読み出し信号を供給したときは図6C及び図6Dに示す如く、フォトダイオード1に蓄積した電荷を全てフローティングディフュージョン3に転送することができずフォトダイオード1に電荷が残ってしまうため残像となってしまう不都合があった。
本発明は、斯る点に鑑み、フォトダイオードの飽和電荷量を増加するようにしても残像を生じないようにすることを目的とする。
本発明固体撮像装置は、入射光を信号電荷に光電変換し蓄積する光電変換手段と、この蓄積された信号電荷を電圧に変換するための蓄積領域と、この光電変換手段に蓄積された信号電荷をこの蓄積領域に転送するための転送ゲートとを持つ画素が行列状に複数配列された固体撮像装置において、この転送ゲートの下にポテンシャルの段差をつけることによって飽和電荷量を増加させるようにしたものである。
本発明によれば転送ゲートの下にポテンシャルの段差をつけることにより、蓄積領域の容量が大きくなり、フォトダイオード(光電変換手段)の飽和電荷量を増加するようにしても残像を生じないようにすることができる。
以下図面を参照して、本発明固体撮像装置を実施するための最良の形態の例につき説明する。
本例の固体撮像装置においても、図7に示すように、複数の単位画素16がマトリックス状に配列された撮像領域20と、垂直走査回路21と、水平走査回路22とを有して成る。各水平ライン毎の複数の単位画素16は、垂直走査回路21よりの走査線(リセット線18、読み出し線17、選択線23に共通に接続される。また、各垂直ライン毎の複数の単位画素は夫々負荷MOSトランジスタ24、CDS(相関二重サンプリング回路)25及び水平選択トランジスタ(MOSトランジスタ)26を介して水平信号線27に接続され、水平走査回路22により水平選択トランジスタ26を順次オンして出力映像信号を得る如くなされている。
本例の固体撮像装置においても、図7に示すように、複数の単位画素16がマトリックス状に配列された撮像領域20と、垂直走査回路21と、水平走査回路22とを有して成る。各水平ライン毎の複数の単位画素16は、垂直走査回路21よりの走査線(リセット線18、読み出し線17、選択線23に共通に接続される。また、各垂直ライン毎の複数の単位画素は夫々負荷MOSトランジスタ24、CDS(相関二重サンプリング回路)25及び水平選択トランジスタ(MOSトランジスタ)26を介して水平信号線27に接続され、水平走査回路22により水平選択トランジスタ26を順次オンして出力映像信号を得る如くなされている。
この単位画素16は、図8に示すように光電変換手段であるフォトダイオード1、フローティングディフュージョン3への読み出しMOSトランジスタ12(この読み出しMOSトランジスタ12のゲートを転送ゲート2という。)、増幅素子であるアンプMOSトランジスタ13、このフローティングディフュージョン(FD)3の信号電荷をリセットするリセットMOSトランジスタ14及び選択素子である垂直選択MOSトランジスタ15によって構成され、行列状に2次元配置されている。
図8に示す如く、この単位画素16において、読み出しMOSトランジスタ12のゲート(転送ゲート2)が読み出し線17に、リセットMOSトランジスタ14のゲート(リセットゲート7)がリセット線18に、垂直選択MOSトランジスタ15のゲートが選択線19に、垂直選択MOSトランジスタ15のソースが垂直信号線28に夫々接続されている。
次に、この固体撮像装置の動作を説明する。まず、垂直走査回路21によって選択線19を通じて選択パルスφSELが印加された行(水平ライン)の画素16が選択される。その後、リセットパルスφRSTによりリセットMOSトランジスタ14がオンして、選択行の各画素16のフローティングディフュージョン(FD)3の電位をリセットする。リセット後、リセットMOSトランジスタ14をオフする。このとき、選択行の各画素16のリセットレベルが、アンプMOSトランジスタ13と負荷MOSトランジスタ24によって形成されるソースフォロワ回路を介して垂直信号線28に出力される。次に、読み出しMOSトランジスタ12のゲートに読み出しパルスφTRGを印加し、読み出しMOSトランジスタ12をオンしてフォトダイオード1の信号電荷をフローティングディフュージョン(FD)3に読み出し、次いで、読み出しMOSトランジスタ12をオフする。このとき、垂直信号線28には、選択行の各画素16の信号レベルが出力される。同時にカラム毎に設けられたCDS25によって、リセットレベルと信号レベルの差分の信号がサンプルホールドされる。次に、水平走査回路22によって水平選択トランジスタ26が順次選択されることによって、選択行の各画素16の信号が水平信号線27より順次出力回路を通じて出力される。この動作を繰り返すことによって、全ての画素16の信号が出力される。
本例においては、この固体撮像装置の単位画素16を図1及び図2に示す如く構成する。
図2は、本例の固体撮像装置の1画素(単位画素16)の平面構成例を示し、図2において、1は入射光を信号電荷に光電変換し蓄積する光電変換手段を構成するフォトダイオード(PD)、3は蓄積された信号電荷を電圧に変換するための蓄積領域を構成するフローティングディフュージョン(FD)、2はフォトダイオード(PD)1に蓄積された信号電荷をこのフローティングディフュージョン(FD)3に転送するための転送ゲートである。
図2は、本例の固体撮像装置の1画素(単位画素16)の平面構成例を示し、図2において、1は入射光を信号電荷に光電変換し蓄積する光電変換手段を構成するフォトダイオード(PD)、3は蓄積された信号電荷を電圧に変換するための蓄積領域を構成するフローティングディフュージョン(FD)、2はフォトダイオード(PD)1に蓄積された信号電荷をこのフローティングディフュージョン(FD)3に転送するための転送ゲートである。
この図2のI−I線断面図を図1Aに示す。この図1Aにおいて、4はp型半導体基板を示し、このp型半導体基板4にインプラするn型不純物のドーズ量を増加しn+型領域1bを設け図6Aに示す如く飽和電荷量を多画素化、小型化しても画質を低下することのない所定の飽和電荷量に増加したフォトダイオード(PD)1を形成する。
また、このp型半導体基板4にn+型領域3aを設け、フローティングディフュージョン(FD)3を形成し、このフォトダイオード(PD)1のn+型領域1b及びフローティングディフュージョン3のn+型領域3a間のp型半導体基板4上にSiO2 の絶縁層5を介して転送ゲート2を形成する。
この場合、n+型領域1b、転送ゲート2及びn+型領域3aで、フォトダイオード(PD)1のn+型領域1bの蓄積信号電荷のフローティングディフュージョン(FD)3への読み出しMOSトランジスタ12を構成する。
また図1Aにおいて、6はn+型領域6aより成りフローティングディフュージョン(FD)3の信号電荷をリセットするリセットドレインを示し、このフローティングディフュージョン(FD)3のn+型領域3a及びこのリセットドレイン6のn+型領域6a間のp型半導体基板4上に絶縁層5を介してリセットゲート7を形成する。
この場合、このフローティングディフュージョン(FD)3のn+型領域3a、リセットゲート7及びリセットドレイン6のn+型領域6aでフローティングディフュージョン(FD)3の信号電荷をリセットするリセットMOSトランジスタ14を構成する。
本例においては、図2に斜線で示す如く基板4の転送ゲート2のフローティングディフュージョン(FD)3側及びフローティングディフュージョン(FD)3にn型不純物例えばAsを追加でドープし、転送ゲート2の下のフローティングディフュージョン(FD)3側の所定幅を図1Aに示す如く、n型領域2aとする。この場合n型不純物をドープするのは転送ゲート2の下のフローティングディフュージョン(FD)3側だけであってもよい。
またこの場合、この転送ゲート2下のフローティングディフュージョン(FD)3側をディプレッションにすることにより、この所定幅のポテンシャルは、図1B,C,Dに示す如く深くなり、この転送ゲート2の下にポテンシャルの段差ができ、この段差分だけフローティングディフュージョン(FD)3の容量が大きくなる。
この図1Aに示す如き画素の蓄積時のポテンシャル分布は図1Bに示す如きで転送ゲート(読み出しMOSトランジスタ12のゲート)2に読み出し信号(垂直走査回路21からの読み出しパルスφTRG)を供給したときのポテンシャル分布は図1Cに示す如くなり、本例では図6Cに比較し、フローティングディフュージョン(FD)3の容量が、転送ゲート2の下の段差分だけ大きくなるので、フォトダイオード1の大きくした飽和電荷量も全てフローティングディフュージョン(FD)3に流し込むことができ、その後転送ゲート(読み出しMOSトランジスタ12のゲート)2より読み出し信号(読み出しパルスφTRG)を取り除いた、読み出し後のポテンシャル分布は図1Dに示す如くなりフォトダイオード1に信号電荷が残ることがなく残像を生じないようにできる。
以上述べた如く本例によれば転送ゲート2の下にポテンシャルの段差をつけたのでフローティングディフュージョン(FD)3の容量を大きくでき、フォトダイオード1の飽和電荷量を増加するようにしても残像を生じないようにすることができる。
従って本例によれば固体撮像装置を多画素化、小型化しユニットセルサイズが小さくなったときにも、画質が低下することがないようにできる。
図3は本発明を実施するための最良の形態の他の例を示し、この図3につき説明するに図2に対応する部分には同一符号を付して示す。
図3例は、図2例とは異なり、斜線で示す如く基板4の転送ゲート2のフォトダイオード(PD)1側及びフォトダイオード(PD)1にp型不純物例えばBを追加でドープし、転送ゲート2の下のフォトダイオード(PD)1側の所定幅をp型領域とする。この場合p型不純物をドープするのは転送ゲート2の下のフォトダイオード(PD)1側だけであってもよい。
図3例においては、転送ゲート2の下のフォトダイオード(PD)1側をエンハンスにして、相対的に転送ゲート2の下のフローティングディフュージョン(FD)3側をディプレッションすることにより、この転送ゲート2の下にポテンシャルの段差ができ、この段差分だけフローティングディフュージョン(FD)3の容量が大きくなる。
従って図3に示す如き画素を使用した固体撮像装置においても、上述例同様の作用効果が得られることは容易に理解できよう。
尚、上述例においてはp型の半導体基板4を使用した例につき述べたが、この代わりにn型の半導体基板を使用しても良いことは勿論である。この場合上述例においてn型の極性をp型の極性とする。この場合においても上述例同様の作用効果が得られることは勿論である。
また本発明は上述例に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、その他種々の構成が採り得ることは勿論である。
1‥‥フォトダイオード、1b,3a,6a‥‥n+型領域、2‥‥転送ゲート、3‥‥フローティングディフュージョン、4‥‥p型基板、5‥‥絶縁層、6‥‥リセットドレイン
Claims (3)
- 入射光を信号電荷に光電変換し蓄積する光電変換手段と、前記蓄積された信号電荷を電圧に変換するための蓄積領域と、前記光電変換手段に蓄積された信号電荷を前記蓄積領域に転送するための転送ゲートとを持つ画素が行列状に複数配列された固体撮像装置において、
前記転送ゲートの下にポテンシャルの段差をつけることによって飽和電荷量を増加させるようにしたことを特徴とする固体撮像装置。 - 請求項1記載の固体撮像装置において、
前記光電変換手段及び蓄積領域を第1の導電型の半導体領域で形成すると共に前記転送ゲートの下の前記蓄積領域側の一部に前記第1の導電型の不純物をドープするようにしたことを特徴とする固体撮像装置。 - 請求項1記載の固体撮像装置において、
前記光電変換手段及び蓄積領域を第1の導電型の半導体領域で形成すると共に前記転送ゲートの下の前記光電変換手段側の一部に第2の導電型の不純物をドープするようにしたことを特徴とする固体撮像装置。
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