JP2005216425A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 カバーシートに変形癖が付いている場合でも、ディスク基板とカバーシートとの間に気泡を残留させることなく、ディスク基板とカバーシートとを効率的に貼り合わせす。
【解決手段】 光ディスク製造装置では、ディスク基板１２及びカバーシート２４を５Ｐａ〜１００Ｐａの真空雰囲気中に保持しつつ、カバーシート２４に対向するように支持されたディスク基板１２を０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓの速度でカバーシート２４上まで移動させてディスク基板１２をカバーシート２４上に載置する。これにより、カバーシート２４の一部が載置面４９から浮き上っている場合でも、ディスク基板１２の重量によりカバーシート２４を平坦となるように矯正しつつ、ディスク基板１２全体がカバーシート２４に接するまでの期間内に、ディスク基板１２とカバーシート２４との間に介在していた空気を効率よく排出できる。
【選択図】 図４

Description

本発明は、ディスク基板の記録面上に薄膜状のカバーシートを貼り合わせて光ディスクを製造する光ディスクの製造方法に関する。

レーザ光を用いて情報を記録し、又は再生する光ディスクとしては、例えば、ＣＤ−Ｒ（Compact Disc-recordable)、ＣＤ（Compact Disc)、ＤＶＤ（digital versatile disc）、ＤＶＤ−Ｒ（digital versatile disc-recordable）等が既に普及しているが、近年、光ディスクに対しては、映像情報等の情報を更に大量に格納したいという要望があり、記録情報の高密度化の検討が進んでいる。このような光ディスクに対する情報記録密度は、おおむねディスク上の光ビームのスポットサイズで決まり、このスポットサイズは、レーザ波長をλ、対物レンズの開口数をＮＡとすると、λ／ＮＡに比例する。このため、光ディスクに対する記録密度を高めるためには、レーザ光の短波長化が必要となると共に、対物レンズの高ＮＡ化が効果的である。しかし、光ディスクの傾きにより発生するコマ収差はＮＡの３乗に比例して大きくなるため、高ＮＡ化によってディスクのチルト等による傾きに対するマージンが極めて小さくなり、わずかな傾きでもビームスポットがぼやけ、高密度での記録及び再生が実現できなくなる。従って、高密度化に適した従来の光ディスクでは、レーザ光の透過層であるカバー層を十分薄いもの（例えば、０．１ｍｍ程度のもの）とし、高ＮＡに伴うディスクの傾きによるコマ収差の増加を抑制する必要がある（例えば、特許文献１参照）。

上記のような光ディスクの製造ラインでは、例えば、予め情報記録層が形成されたディスク基板の記録面上に樹脂フィルムを基材とする薄膜状のカバーシートを貼り合せ、このカバーシートによりディスク基板上に透明なカバー層を形成して光ディスクを製造する。ここで、カバーシートは、樹脂フィルム及びこの樹脂フィルムの片側の面に形成された粘着膜から構成されている。このカバーシートをディスク基板に貼り合わせる際には、先ず、カバーシートの粘着膜上にディスク基板を重ね合せてカバーシートとディスク基板との積層体（以下、これを「ディスク積層体」という。）を構成する。この状態では、粘着膜全体がディスク基板の記録面に均一に密着しておらず、カバーシートがディスク基板へ十分な接合力で接合されていない。このため、光ディスクの製造ラインでは、ディスク積層体をその厚さ方向に沿って所定の加圧力で加圧し、カバーシート全体をディスク基板の記録面に均一に密着させる。これにより、ディスク積層体におけるカバーシートがディスク基板へ十分な接合力で貼り合わされて、製品素材として光ディスクが製造される。

上記のような光ディスクを製造する光ディスクの製造装置（以下、「光ディスク製造装置」という。）としては、例えば、特許文献２に示されているように、支持テーブル上に載置されたカバーシート上にディスク基板を重ね合わせ、これらのディスク基板及びカバーシートを真空槽内へ格納し所定の真空度まで減圧した後に、この真空槽内で弾性を有する加圧部材であるパッドによりディスク基板を支持テーブル上のカバーシート側へ加圧し、カバーシートをディスク基板の記録面に貼り合わせるものがある。このようにカバーシートをディスク基板の記録面に貼り合せる加圧貼合工程を、十分に高い真空度まで減圧された真空雰囲気中で行うことにより、ディスク基板に貼り合わされたカバーシートと記録面との間に残留するエアーの排出が促進されるので、カバーシートとディスク基板の記録面との密着が不完全になることを効果的に防止できる。
特開平１１−３１３３７号公報（第９−１０頁、図４） 特開平２００３−２１７１９２号公報（第８頁、図１及び図２）

しかしながら、上記のような光ディスク製造装置により光ディスクを製造する場合に、カバーシートにカール癖等の変形癖が付いている場合には、このような変形癖が付いているカバーシート上にディスク基板を重ね合わせると、ディスク基板とカバーシートとの間に局部的に隙間が生じてしまうことがある。このようにディスク基板とカバーシートとの間に隙間が生じた状態のまま、真空雰囲気中で加圧部材によりディスク基板とカバーシートとを加圧して貼り合わせても、加圧中にディスク基板とカバーシートとの間から空気を完全に排出できず、ディスク基板のカバーシートとの間に微小な気泡（空気）が残留してしまうことがある。このようなディスク基板とカバーシートとの間に存在する気泡は、記録再生時に光ディスクに入射するレーザ光を散乱させ、また光ディスクの外観品質を低下させるので、光ディスクの製造歩留まりを低下させる原因の一つになる。

なお、変形癖が付いたカバーシートに対しては、ディスク基板に貼り合わされる前にデカール処理等の変形癖の除去処理を施すことにより、カバーシートから変形癖を除去し、又は減少することも可能であるが、このような処理を行うと、光ディスクの製造工程数が増加すると共に、光ディスク製造装置の構造が複雑になり、光ディスクの製造コストが増加してしまう。

本発明の目的は、上記事実を考慮して、カバーシートに変形癖が付いている場合でも、ディスク基板とカバーシートとの間に気泡を残留させることなく、ディスク基板とカバーシートとを効率的に貼り合わせることができる光ディスクの製造方法を提供することにある。

本発明に係る光ディスクの製造方法は、片側の面が記録面とされ、該記録面に情報記録層が形成されたディスク基板と、樹脂フィルムの片側の面に粘着膜が成膜されて構成され、該粘着膜を介して前記情報記録層を覆うように前記記録面に貼り合わされるカバーシートと、を有する光ディスクの製造方法であって、前記ディスク基板及び支持テーブル上に載置された前記カバーシートを１００Ｐａ以下の真空雰囲気中に保持しつつ、前記カバーシートに対向するように支持された前記ディスク基板を、その厚さ方向に沿って０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓの速度で前記カバーシート上まで移動させて前記ディスク基板の記録面を前記カバーシートの粘着膜上に載置した後、前記記録面とは反対側の面から前記ディスク基板を、弾性を有する加圧部材により加圧し、前記粘着膜を介して前記カバーシートを前記ディスク基板に貼り合わせる加圧貼合工程を有することを特徴とする。

先ず、本発明に係る光ディスクの製造方法では、ディスク基板及びカバーシートを１００Ｐａ以下の真空雰囲気中に保持しつつ、カバーシートに対向するように支持されたディスク基板を、その厚さ方向に沿って０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓの速度でカバーシート上まで移動させてディスク基板の記録面をカバーシートの粘着膜上に載置する。

ここで、０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓというディスク基板の下降速度は、ディスク基板をカバーシートに載置する際に設定されるディスク基板の通常（従来）の下降速度よりも大幅に遅いものであるので、ディスク基板がカバーシートと接する直前のタイミングからディスク基板全体が接するまでの期間の時間長を、ディスク基板とカバーシートとの間からの空気の移動速度に対して十分に長いものにすることができる。

この結果、例えば、カバーシートの一部が支持テーブルから浮き上っていることに起因し、ディスク基板の一部が支持テーブル上のカバーシートに接した時点で、ディスク基板とカバーシートとの間に比較的大きい外部へ開放された空間（隙間）が形成されるような場合でも、ディスク基板の一部がカバーシートに接してから、ディスク基板の重量によりカバーシートを平坦となるように矯正しつつ、ディスク基板全体がカバーシートに接するまでの期間内に、ディスク基板とカバーシートとの間に介在していた空気を効率よく排出しつつ、ディスク基板とカバーシートの間から隙間を消失させることができるので、ディスク基板全体がカバーシートに接した状態で、ディスク基板とカバーシートとの間に残留する空気を十分に減少できる。

次いで、本発明に係る光ディスクの製造方法では、ディスク基板及びカバーシートを１００Ｐａ以下の真空雰囲気中に保持しつつ、記録面とは反対側の面からディスク基板全体を、弾性を有する加圧部材により加圧し、粘着膜を介してカバーシートをディスク基板に貼り合わせる。

このとき、加圧部材により加圧開始する前の時点で、ディスク基板とカバーシートとの間に残留する空気量が十分に減少しており、更に加圧部材による加圧中にもディスク基板とカバーシートとの間に残留している空気の外部への排出が真空雰囲気により促進されることから、加圧部材による加圧完了後には、ディスク基板とカバーシートとの間に残留する空気を極めて微量なものとし、又は実質的に空気が残留しない状態にできる。

この結果、加圧部材による加圧完了後に、ディスク基板とカバーシートとの間に残留する空気の影響によりカバーシートのディスク基板との貼り合わせが局部的に不完全になることを防止できると共に、カバーシートとディスク基板との間に気泡が残留することも効果的に防止できる。

以上説明したように本発明に係る光ディスクの製造方法によれば、カバーシートに変形癖が付いている場合でも、ディスク基板とカバーシートとの間に気泡を残留させることなく、ディスク基板とカバーシートとを効率的に貼り合わせることができる。

以下、本発明の実施形態に係る光ディスクの製造方法について図面を参照して説明する。

先ず、本発明の実施形態に係る光ディスクの構成について説明する。図１には、本発明の実施形態に係る光ディスクの製造方法により製造された光ディスクが示されている。この光ディスク１０は、従来のＤＶＤ−Ｒ等の光ディスクに対して高密度の情報記録が可能とされたものであり、例えば、従来の光ディスクと比較して、記録再生用のレーザ光として短波長の青紫レーザ光を用いると共に、ディスク駆動装置の対物レンズの開口数ＮＡを０．８５程度まで増大することで、１２ｃｍ径の光ディスク１０に対する片面記録容量を２７Ｇバイト程度まで高めることを想定している。

光ディスク１０には、円板状に形成されたディスク基板１２が設けられており、このディスク基板１２の片側の面は情報の記録面１４とされている。ディスク基板１２の記録面１４側には、光反射層１８及び光吸収層２０が順に積層されており、これらの光反射層１８及び光吸収層２０により情報記録層（以下、単に「記録層」という。）１６が構成されている。また光ディスク１０には、記録層１６を覆うようにディスク基板１２上に透明なカバー層２２が設けられている。このカバー層２２は、透明樹脂を素材とするカバーシート２４により構成され、その厚さが１００μｍ程度とされている。

ディスク基板１２は、ＰＣ（ポリカーボネイト）等の樹脂を素材としてモールド成形されている。またカバーシート２４は、ＰＣ（ポリカーボネイト）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の透明な樹脂フィルム２６及び、この樹脂フィルム２６の片側の面に形成された粘着膜２８からなる。粘着膜２８は、公知のアクリル系、ゴム系、シリコン系等の粘着剤により形成されるが、透明性及び耐久性の観点からは、アクリル系粘着剤が望ましい。またカバーシート２４における樹脂フィルム２６及び粘着膜２８のそれぞれの厚さは、カバー層２２の設定値に応じて決められるが、例えば、カバー層２２の厚さの設定値が１００μｍの場合には、樹脂フィルム２６の厚さが８０μｍに設定され、粘着膜２８の厚さが２０μｍに設定される。

ディスク基板１２の中心部には、光ディスク１０の回転中心となる軸心ＳＤに沿って円形のセンターホール２９が穿設されている。またカバー層２２の中心部には、軸心ＳＤを中心としてセンターホール２９よりも大径とされた円形の開口部３０が形成されている。

図２には、本発明の実施形態に係る光ディスク製造装置が示されている。この光ディスク製造装置４０は光ディスクの製造ラインに配置され、モールド成形等により成形されたディスク基板１２にカバーシート２４を貼り合わせて光ディスク１０を製造するためのものであり、光ディスク製造装置４０には、光ディスクの製造ラインにてそれぞれ独立した工程を経て製造されたディスク基板１２及びカバーシート２４が供給される。

光ディスク製造装置４０には、装置全体を制御するための制御ユニット３８（図４参照）を内蔵した本体ケーシング４２が設けられており、この本体ケーシング４２の上面部には、その中央付近に円板状の第１ターンテーブル４４が設置されている。この第１ターンテーブル４４は、その軸心Ｓ１を中心として本体ケーシング４２により回転可能に支持されている。第１ターンテーブル４４上の外周側には、それぞれ円板状に形成された６個のテーブル台４６が軸心Ｓ１を中心とする周方向に沿って等ピッチで配置されている。これらのテーブル台４６上には、それぞれ円板状の支持テーブル４８が同軸的に配置されている。支持テーブル４８の上面は、図３に示されるように、平滑な平面からなる載置面４９とされ、この載置面４９上には、カバーシート２４及びディスク基板１２が載置可能とされている。

各支持テーブル４８には、その載置面４９の中心部から突出するようにセンターピン５０が配置されている。センターピン５０は、図４に示されるように、第１ターンテーブル４４、テーブル台４６及び支持テーブル４８をそれぞれ貫通するスライド穴５２内へ摺動可能に挿入されており、その先端側を支持テーブル４８の載置面４９の中心部から突出させている。センターピン５０は略丸棒状に形成されており、支持テーブル４８と同軸的に配置されている。

図３に示されるように、センターピン５０には、その先端部に基端側よりも外径が小さい細径部５４が設けられている。この細径部５４は、その外径がディスク基板１２のセンターホール２９の内径よりも僅かに小さくされている。センターピン５０は、細径部５４に対して基端側の部分が外径一定の大径部５６とされており、この大径部５６の外径は、カバーシート２４の開口部３０の内径よりも僅かに小さくされている。センターピン５０には、細径部５４と大径部５６との間に段差状のディスク支持部５８が形成されている。

図４に示されるように、センターピン５０は、その下端側を本体ケーシング４２内まで突出させており、センターピン５０の下端部にはブロック状のジョイント部材６０が取り付けられている。また本体ケーシング４２内には、センターピン５０の下側に第１リニアアクチュエータ６２が配置されている。第１リニアアクチュエータ６２は、シリンダ６４及びこのシリンダ６４から上方へ突出する駆動ロッド６６を備えており、駆動ロッド６６をシリンダ６４により高さ方向（矢印Ｈ方向）に沿ってスライド可能に支持している。駆動ロッド６６の先端部にはジョイント部材６１が取り付けられており、駆動ロッド６６は、ジョイント部材６０，６１を介してセンターピン５０に着脱可能に連結されている。

ここで、第１リニアアクチュエータ６２のシリンダ６４は、ブラケット（図示省略）を介して本体ケーシング４２における周回位置Ｐ３に対応する位置に固定されており、第１ターンテーブル４４が回転してカバーシート２４及びディスク基板１２が載置された支持テーブル４８が周回位置Ｐ３に移動してくると、その支持テーブル４８に配置されたセンターピン５０のジョイント部材６０が駆動ロッド６６のジョイント部材６１に嵌挿されて連結される。また支持テーブル４８上でのカバーシート２４とディスク基板１２との貼り合せが完了した後、第１ターンテーブル４４が回転して支持テーブル４８が周回位置Ｐ３から離脱すると、その支持テーブル４８のジョイント部材６０もジョイント部材６１から離脱する。

第１リニアアクチュエータ６２は、制御ユニット３８によりサーボ制御可能とされており、制御ユニット３８から入力した制御信号に対応する速度で駆動ロッド６６を所定の移動量だけ上昇又は下降させる。これにより、センターピン５０は、駆動ロッド６６の移動量に応じて支持テーブル４８の載置面４９からの突出長を変化させる。

図２に示されるように、光ディスク製造装置４０には、第１ターンテーブル４４の外周側に、シート供給ユニット６８、ディスク供給ユニット７０、第１ターンテーブル４４よりも小径の第２ターンテーブル７２及びディスク搬出ユニット７４が設置されている。なお、図２では、シート供給ユニット６８によりカバーシート２４の供給を受ける位置にある支持テーブル４８を起点とし、第１ターンテーブル４４の回転方向（反時計方向）に沿って６個の支持テーブル４８及びテーブル台４６が保持される位置をそれぞれ周回位置Ｐ１〜Ｐ６として以下の説明を行う。

シート供給ユニット６８は、周回位置Ｐ１に保持された支持テーブル４８の外周付近に配置されている。このシート供給ユニット６８は、周回位置Ｐ１にある支持テーブル４８上にカバーシート２４を供給するためのものである。またディスク供給ユニット７０は周回位置Ｐ２の外周付近に配置されており、このディスク供給ユニット７０には、複数枚のディスク基板１２が積載可能とされたディスク台７６及び、このディスク台７６上に積載された複数枚のディスク基板１２から１枚のディスク基板１２を把持し、このディスク基板１２を周回位置Ｐ２にある支持テーブル４８上へ搬送する搬送アーム７８が設けられている。

光ディスク製造装置４０には、周回位置Ｐ３にあるテーブル台４６の上方に真空槽８０が配置されている。真空槽８０は、図４に示されるように、下方に向った開いた容器状に形成されており、その下端面には全周に亘って弾性を有するシール部材（図示省略）が取り付けられている。また光ディスク製造装置４０には、真空槽８０の上方に支持フレーム８４が配置されており、この支持フレーム８４は、真空槽８０を吊り下げた状態でテーブル台４６の上方に支持している。また真空槽８０の頂面部にはサブフレーム８６が固定されている。

図４に示されるように、支持フレーム８４には、真空槽８０を昇降するための第２リニアアクチュエータ８８が搭載されている。この第２リニアアクチュエータ８８は、支持フレーム８４に固定されたシリンダ９０及び、このシリンダ９０から下方へ突出する駆動ロッド９２を備えており、駆動ロッド９２の先端部がサブフレーム８６に連結されている。第２リニアアクチュエータ８８は、制御ユニット３８により制御され、制御ユニット３８からの制御信号に従って真空槽８０をテーブル台４６の上方へ離間した開放位置（図４参照）及び真空槽８０の下端面をテーブル台４６に圧接させる密閉位置（図７参照）の何れかに保持する。ここで、密閉位置に保持された真空槽８０内には外部から密閉された気密室９４が形成される。

真空槽８０内には、略肉厚円板状に形成された加圧部材９６が支持テーブル４８に正対するように支持され、この加圧部材９６の下面部には弾性を有する弾性パッド９８が固着されている。一方、サブフレーム８６には、加圧部材９６を支持及び駆動するための第３リニアアクチュエータ１００が搭載されている。この第３リニアアクチュエータ１００は、サブフレーム８６に固定されたシリンダ１０２及び、このシリンダ１０２から下方へ突出する駆動ロッド１０４を備えており、この駆動ロッド１０４は、真空槽８０の頂板部に取付けられたシールリング１０６内を挿通して真空槽８０内まで突出し、その先端部が加圧部材９６の上面中央部に連結されている。

第３リニアアクチュエータ１００は、真空槽８０が密閉位置に保持された状態で、制御ユニット３８により制御され、制御ユニット３８からの制御信号を受けると、加圧部材９６を支持テーブル４８の上方へ待機した待機位置（図４参照）から支持テーブル４８上に載置されたカバーシート２４及びディスク基板１２に圧接する押圧位置まで下降させ、加圧部材９６によりカバーシート２４及びディスク基板１２を加圧した後、加圧部材９６を待機位置へ復帰させる。

図４に示されるように、真空槽８０には、フレキシブルホース１０８の一端部が内部に連通するように連結されており、このフレキシブルホース１０８を通して真空ポンプ等の真空発生装置（図示省略）が接続されている。この真空発生装置も、制御ユニット３８により制御され、制御ユニット３８は、真空槽８０が密閉位置へ下降して気密室９４が形成されると、真空発生装置により気密室９４内の空気を吸入して気密室９４内を所定の真空度まで減圧する。

第２ターンテーブル７２は、第１ターンテーブル４４上で製造された光ディスク１０を一時保管するためのものであり、図２に示されるように、周回位置Ｐ６に保持された支持テーブル４８の外周付近に配置されている。この第２ターンテーブル７２上には、その軸心Ｓ３を中心とする周方向に沿ってディスク基板１２が載置可能とされた４個のディスク支持台１１０が設けられている。なお、図２では、第１ターンテーブル４４に最も近接する位置にあるディスク支持台１１０を起点とし、第２ターンテーブル７２の回転方向（反時計方向）に沿って４個のディスク支持台１１０が保持される位置をそれぞれ周回位置Ｒ１〜Ｒ４として以下の説明を行う。

図２に示されるように、光ディスク製造装置４０には、第２ターンテーブル７２に隣接してディスク搬出ユニット７４が設置されており、このディスク搬出ユニット７４には、複数枚のディスク基板１２がそれぞれ積載可能とされたＮＧディスク台１１２及び良品ディスク台１１４が設けられると共に、周回位置Ｐ６に保持された支持テーブル４８、周回位置Ｒ１に保持されたディスク支持台１１０、ＮＧディスク台１１２及び良品ディスク台１１４の間で光ディスク１０を搬送する搬送アーム１１６が設けられている。

また、光ディスク製造装置４０には、第２ターンテーブル７２における周回位置Ｒ２に保持されたディスク支持台１１０の上方に光ディスク１０の表面（光入射面）から保護シート（図３参照）を剥離、回収する剥離ユニット１１８が設置されると共に、周回位置Ｒ３に保持されたディスク支持台１１０の上方に光ディスク１０の光入射面の平面性、軸心ＳＤを基準とする傾き量等を検査するための面状検査ユニット１２０が設置されている。

なお、ディスク基板１２に貼り合わされるカバーシート２４（図３参照）は、図５（Ｂ）に示されるように、長尺帯状の樹脂フィルム２６、この樹脂フィルム２６の片側の面に形成された粘着膜２８、この粘着膜２８に貼り付けられた剥離シート３４及び、樹脂フィルム２６の粘着膜２８とは反対側の面に貼り付けられた保護シート３６からなる４層構造の積層シート材３２を加工素材として製造される。具体的には、環状の打抜刃（図示省略）により積層シート材３２における保護シート３６、樹脂フィルム２６及び粘着膜２８を円板状に打抜くことでカバーシート２４を成形する。このとき、カバーシート２４の粘着膜２８に貼り付けられた剥離シート３４は、打抜刃により打抜かれることなく長尺帯状のまま残される。この長尺帯状の剥離シート３４は、積層シート材３２から打抜かれたカバーシート２４を搬送するためのキャリアベースとして用いられる。このようにしてカバーシート２４が打抜き加工された積層シート材３２は、図５（Ａ）に示されるように、一旦ロール状に巻き取られた後、シート供給ユニット６８に装填される。

次に、上記のように構成された光ディスク製造装置４０を用いた光ディスク１０の製造方法について説明する。

光ディスク製造装置４０では、支持テーブル４８が周回位置Ｐ１に移動してくると、これに連動して、シート供給ユニット６８が積層シート材３２における剥離シート３４から１枚のカバーシート２４を剥離すると共に、このカバーシート２４を粘着膜２８が上方を向くように支持テーブル４８の載置面４９上に載置する。このとき、図６（Ａ）に示されるように、カバーシート２４の開口部３０内にセンターピン５０の大径部５６が挿入され、センターピン５０の大径部５６によりカバーシート２４の中心が支持テーブル４８の軸心Ｓ２と一致するように位置決めされる。

但し、積層シート材３２がロール状に巻き取られた状態で保管され、シート供給ユニット６８へ装填されることから、剥離シート３４から剥離されたカバーシート２４には、通常、積層シート材３２の撓み方向へカールしようとするカール癖が付いており、このカール癖は、積層シート材３２における内周側に巻き取られていたカバーシート２４ほど強いものになる。このような強いカール癖が付いたカバーシート２４をシート供給ユニット６８により支持テーブル４８の載置面４９上に載置した場合には、図８（Ａ）又は（Ｂ）に示されるように、カールが生じたカバーシート２４の一部が支持テーブル４８の載置面４９から浮き上ったままの状態になり易い。

具体的には、カバーシート２４の表面（光入射面）が外周側を向くように積層シート材３２が巻き取られていた場合には、カバーシート２４は、図８（Ａ）に示されるように、載置面４９へ向かって凸状になるようにカールし、載置面４９上で径方向に沿った両端部が載置面４９から浮き上った状態になり易く、またカバーシート２４の光入射面が内周側を向くように積層シート材３２が巻き取られていた場合には、カバーシート２４は、図８（Ｂ）に示されるように、載置面４９へ向かって凹状になるようにカールし、径方向に沿った中央部が載置面４９から浮き上った状態になり易い。

光ディスク製造装置４０では、シート供給ユニット６８により支持テーブル４８上にカバーシート２４が載置されると、第１ターンテーブル４４を反射時計方向へ所定の回転量（６０°）回転させ、カバーシート２４が供給された支持テーブル４８が周回位置Ｐ２に移動させる。カバーシート２４と共に支持テーブル４８を周回位置Ｐ２に移動すると、ディスク供給ユニット７０は、ディスク台７６上に積載された複数枚のディスク基板１２から１枚のディスク基板１２を把持し、このディスク基板１２を周回位置Ｐ２にある支持テーブル４８上へ搬送し、センターホール２９をセンターピン５０の細径部５４の外周側へ嵌挿しつつ、ディスク基板１２をセンターピン５０のディスク支持部５８上に載置する。

このとき、第１リニアアクチュエータ６２によりセンターピン５０が上限位置に保持されており、この上限位置では、図６に示されるようにセンターピン５０における大径部５６の先端側が載置面４９から上方へ突出している。これにより、図６（Ｂ）に示されるように、センターピン５０の細径部５４によりディスク基板１２の中心が支持テーブル４８の軸心Ｓ２と一致するように位置決めされると共に、センターピン５０のディスク支持部５８によりディスク基板１２がカバーシート２４の上方へ離間した状態で支持される。

光ディスク製造装置４０では、ディスク供給ユニット７０によりディスク基板１２がセンターピン５０のディスク支持部５８上に載置されると、第１ターンテーブル４４を反射時計方向へ６０°回転させ、カバーシート２４及びディスク基板１２が供給された支持テーブル４８を周回位置Ｐ３に移動させる。カバーシート２４及びディスク基板１２と共に支持テーブル４８が周回位置Ｐ３に移動すると、制御ユニット３８は、図７（Ａ）に示されるように、第２リニアアクチュエータ８８により真空槽８０を開放位置から密閉位置へ下降させる。これにより、真空槽８０内には外部から密閉された気密室９４が形成される。次いで、制御ユニット３８は、真空発生装置により気密室９４内から空気を吸引して気密室９４内を所定の真空度まで減圧する。このとき、真空発生装置は、気密室９４内を５〜１００Ｐａの範囲から設定された目標真空度（本実施形態では、３０Ｐａ以下）まで減圧し、カバーシート２４とディスク基板１２との貼り合わせが完了するまで気密室９４内を３０Ｐａ以下に維持する。

制御ユニット３８は、気密室９４内が３０Ｐａ以下まで減圧されると、制御ユニット３８は、第１リニアアクチュエータ６２により上限位置にあるセンターピン５０を所定の下限位置まで下降させる。この下限位置では、センターピン５０は、図７（Ｂ）に示されるように、支持テーブル４８の載置面４９から突出しないように、その先端が載置面４９よりも下方に位置する。センターピン５０が上限位置から下限位置へ下降することにより、センターピン５０のディスク支持部５８上に載置されていたディスク基板１２は、カバーシート２４上まで移動し、ディスク基板１２の記録面１４がカバーシート２４の粘着膜２８上に載置される。このとき、制御ユニット３８は、センターピン５０が０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓの範囲から選択された一定の速度で上限位置から下限位置へ下降するように第１リニアアクチュエータ６２の作動速度を制御する。

制御ユニット３８は、センターピン５０が下限位置へ下降した後、第３リニアアクチュエータ１００により加圧部材９６を待機位置（図７（Ａ）参照）から押圧位置（図７（Ｂ）参照）まで下降させ、加圧部材９６の弾性パッド９８によりディスク基板１２及びカバーシート２４を所定の加圧力で加圧した後、加圧部材９６を待機位置へ復帰させる。ここで、制御ユニット３８は、加圧部材９６の弾性パッド９８からディスク基板１２及びカバーシート２４へ加えられる加圧力が０．２ｋＰａ〜１．０ｋＰａの範囲内から選択された目標値（本実施形態では、０．５ｋＰａ）となるように、第３リニアアクチュエータ１００が発生する押圧力を制御し、この押圧力を０．２秒維持した後、第３リニアアクチュエータ１００により加圧部材９６を押圧位置から待機位置へ復帰させる。これにより、ディスク基板１２の記録面１４全体がカバーシート２４の粘着膜２８に均一に密着し、カバーシート２４がディスク基板１２へ十分な接合力で貼り合わされ、製品素材としての光ディスク１０（図１参照）の製造が完了する。

制御ユニット３８は、加圧部材９６を待機位置に復帰させると、真空発生装置を通して気密室９４内を大気へ開放した後、第２リニアアクチュエータ８８により真空槽８０を密閉位置から開放位置へ復帰させる。

光ディスク製造装置４０では、真空槽８０が開放位置に復帰すると、第１ターンテーブル４４を反時計方向へ回転して光ディスク１０が載置された支持テーブル４８を周回位置Ｐ５まで移動させた後、更に周回位置Ｐ６まで移動させる。これに連動し、光ディスク製造装置４０は、ディスク搬出ユニット７４の搬送アーム７８により周回位置Ｐ６にある支持テーブル４８上に載置された光ディスク１０を把持し、この光ディスク１０の表裏を反転しつつ、光ディスク１０を第２ターンテーブル７２における周回位置Ｒ１にあるディスク支持台１１０上に載置する。

第２ターンテーブル７２は、周回位置Ｒ１にあるディスク支持台１１０上に光ディスク１０が載置されると、反時計方向へ間欠的に回転し、光ディスク１０が載置された支持テーブル４８を周回位置Ｒ２及び周回位置Ｒ３にそれぞれ一旦停止させた後、周回位置Ｒ４まで移動させる。このとき、剥離ユニット１１８は、周回位置Ｒ２に一旦停止しているディスク支持台１１０上に載置された光ディスク１０から保護シートを剥離し、この保護シートを回収する。

また面状検査ユニット１２０は、周回位置Ｒ３に一旦停止しているディスク支持台１１０上に載置された光ディスク１０の上面（光入射面）の平面性、傾き量等の面状を検査する。この面状検査ユニット１２０による検査結果は、光ディスク製造装置４０の制御ユニット（図示省略）へ送信される。制御ユニットは、面状検査ユニット１２０による検査結果に基づいて、第２ターンテーブル７２により周回位置Ｒ３まで搬送されてきた光ディスク１０が予め決められた品質基準を満たしていないＮＧ品か、品質基準を満たしている良品かを判断する。

面状検査ユニット１２０による検査完了後に、第２ターンテーブル７２により光ディスク１０が周回位置Ｐ４まで搬送されてくると、光ディスク製造装置４０の制御ユニットは、周回位置Ｐ４にある光ディスク１０がＮＧ品である場合には、この光ディスク１０を搬送アーム１１６により把持させ、ディスク支持台１１０上からＮＧディスク台１１２上に搬送してＮＧディスク台１１２上に積載し、また周回位置Ｐ４にある光ディスク１０が良品である場合には、この光ディスク１０を搬送アーム１１６により把持させ、ディスク支持台１１０上から良品ディスク台１１４上に搬送して良品ディスク台１１４上に積載する。これらのディスク台１１２，１１４上に積載されたＮＧ品及び良品としての光ディスク１０は、それぞれ所定のロット枚数まで貯まると、ディスク台１１２，１１４上から再検査工程、塗装工程等の他の工程が行われる装置等へ搬出される。

以上説明したように、本実施形態に係る光ディスクの製造方法では、ディスク基板１２及びカバーシート２４を５Ｐａ〜１００Ｐａの範囲内から設定された目標真空度の真空雰囲気中に保持しつつ、カバーシート２４に対向するように支持されたディスク基板１２を、その厚さ方向に沿って０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓの速度の範囲内から設定された下降速度でカバーシート２４上まで移動させてディスク基板１２の記録面１４をカバーシート２４の粘着膜２８上に載置する。

このとき、０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓというディスク基板１２の下降速度は、ディスク基板１２をカバーシート２４に載置する際に設定されるディスク基板１２の通常の下降速度よりも大幅に遅いものであるので、ディスク基板１２がカバーシート２４と接する直前のタイミングからディスク基板１２全体が接するまでの期間の時間長を、ディスク基板１２とカバーシート２４との間からの空気の移動速度に対して十分に長いものにすることができる。

この結果、例えば、図８（Ａ）又は（Ｂ）に示されるようにカバーシート２４の一部が載置面４９から浮き上っていることに起因し、ディスク基板１２の一部が載置面４９上のカバーシート２４に接した時点で、ディスク基板１２とカバーシート２４との間に比較的大きい外部へ開放された空間（隙間）が形成されるような場合でも、ディスク基板１２の一部がカバーシート２４に接してからディスク基板１２の重量によりカバーシート２４を平坦となるように矯正しつつ、ディスク基板１２全体がカバーシート２４に接するまでの期間内に、ディスク基板１２とカバーシート２４との間に介在していた空気を効率よく排出し、ディスク基板１２とカバーシート２４の間から隙間を消失させることができるので、ディスク基板１２全体がカバーシート２４に接した状態で、ディスク基板１２とカバーシート２４との間に残留する空気を十分に減少できる。

このとき、気密室９４内の真空度が１００Ｐａよりも高いと、カバーシート２４とディスク基板１２との間に形成される隙間に残留する空気の密度が高くなって、ディスク基板１２の下降速度を０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓの範囲に設定しても、カバーシート２４とディスク基板１２との間から十分に空気を排出することが困難になる。またロータリポンプ等の一般的な真空発生装置では、気密室９４内の真空度を５Ｐａよりも低くすることは難しく、またオイルデフュージョンポンプ等の高真空を発生できる真空発生装置を用いても長時間を要するので、光ディスク１０の製造効率の点から現実的ではない。またディスク基板１２の下降速度は、気密室９４内の真空度が１００Ｐａ以下に保たれていれば、０．１５ｍ／ｓ以下に設定することにより、ディスク基板１２とカバーシート２４との間に残留する空気を十分に減少できることが実験的に明らかなっているが、０．０３ｍ／ｓよりも低くく設定することは、第３リニアアクチュエータ１００に対する制御が複雑になり、また光ディスク１０の製造効率の点からも現実的ではない。

次いで、本実施形態に係る光ディスクの製造方法では、ディスク基板１２及びカバーシート２４を５Ｐａ〜１００Ｐａの範囲内から設定された目標真空度の真空雰囲気中に保持しつつ、ディスク基板１２の記録面１４とは反対側の面からディスク基板１２全体を、加圧部材９６の弾性パッド９８により加圧し、粘着膜２８を介してカバーシート２４をディスク基板１２に貼り合わせる。

このとき、加圧部材９６により加圧開始する前の時点で、ディスク基板１２とカバーシート２４との間に残留する空気量が十分に減少しており、更に加圧部材９６による加圧中にもディスク基板１２とカバーシート２４との間に残留している空気の排出が真空雰囲気により促進されることから、加圧部材９６による加圧完了後には、ディスク基板１２とカバーシート２４との間に残留する空気を極めて微量なものとし、又は実質的に空気が残留しない状態にできる。この結果、加圧部材９６による加圧完了後に、ディスク基板１２とカバーシート２４との間に残留する空気の影響によりカバーシート２４のディスク基板１２との貼り合わせが局部的に不完全になることを防止できると共に、カバーシート２４とディスク基板１２との間に気泡が残留することも効果的に防止できる。

本発明の実施形態に係る光ディスクの構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態に係る光ディスクの製造方法が実施される光ディスク製造装置の構成を示す平面図である。 図２に示される光ディスク製造装置における支持テーブル及びセンターピンの構成を示す斜視図である。 図２に示される光ディスク製造装置における真空槽及び真空槽を支持及び駆動するための機構の構成を示す側面断面図である。 本発明の実施形態に係る光ディスクの製造方法に用いられるカバーシートの素材である積層シート材の構成を示す斜視図及び側面断面図である。 （Ａ）は支持テーブル上にカバーシートが載置された状態を示す側面図、（Ｂ）は支持テーブル上にカバーシート及びディスク基板が載置された状態を示す側面図である。 （Ａ）は真空槽が密閉位置に下降して真空槽内に密閉室が形成された状態を示す側面断面図、（Ｂ）は密閉室内で加圧部材が加圧位置まで下降してディスク基板及びカバーシートを加圧した状態を示す側面断面図である。 支持テーブル上に載置されたカバーシートにカールが生じてカバーシートの一部が載置面から浮き上った状態を示し側面図である。

符号の説明

１０ 光ディスク
１２ ディスク基板
１４ 記録面
２４ カバーシート
２８ 粘着膜
４０ 光ディスク製造装置
４８ 支持テーブル
４９ 載置面
８０ 真空槽
９６ 加圧部材
９８ 弾性パッド

Claims (2)

1. 片側の面が記録面とされ、該記録面に情報記録層が形成されたディスク基板と、樹脂フィルムの片側の面に粘着膜が成膜されて構成され、該粘着膜を介して前記情報記録層を覆うように前記記録面に貼り合わされるカバーシートと、を有する光ディスクの製造方法であって、
   前記ディスク基板及び支持テーブル上に載置された前記カバーシートを１００Ｐａ以下の真空雰囲気中に保持しつつ、
   前記カバーシートに対向するように支持された前記ディスク基板を、その厚さ方向に沿って０．０３ｍ／ｓ〜０．１５ｍ／ｓの速度で前記カバーシート上まで移動させて前記ディスク基板の記録面を前記カバーシートの粘着膜上に載置した後、
   前記記録面とは反対側の面から前記ディスク基板を、弾性を有する加圧部材により加圧し、前記粘着膜を介して前記カバーシートを前記ディスク基板に貼り合わせる加圧貼合工程を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
2. 前記加圧部材による前記カバーシート上に載置された前記ディスク基板に対する加圧力を、０．２ＫＰａ〜１．０ＫＰａの範囲から選択された値に設定することを特徴とする請求項１記載の光ディスクの製造方法。

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