JP2005200558A - ガスハイドレート製造装置、およびガスハイドレート製造方法 - Google Patents
ガスハイドレート製造装置、およびガスハイドレート製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 主成分と副成分からなる二種以上の成分を含有する混合ガスを原料とし、気液接触させてガスハイドレートを生成させるガスハイドレート製造装置100は、混合ガスと水とを気液接触させて混合ガスハイドレートを生成させる第1の反応部10と、水補給手段22を備え、第1の反応部10を通過したガスと補給水とを気液接触させてガスハイドレートを生成させる第2の反応部20と、を備える。
【選択図】図1
Description
本発明の第1の態様では、第1の反応部と第2の反応部を分けることによって、第1の反応部では混合ガスハイドレートを生成させ、第2の反応部では純度の高い主成分ガスからガスハイドレートを製造することができる。ガスハイドレートの生成を、混合ガスと高純度の主成分ガスとに分けて行うことによってハイドレート化率を向上させ、ガス包蔵量を高めることが可能になる。
原料ガスとしては、主成分と副成分からなる二種以上の成分を含有する混合ガスであれば特に制限はなく、例えば、天然ガスのほか、バイオガス(メタンを主成分とし、二酸化炭素や硫化水素を含む嫌気消化ガス)などが対象となる。前記したとおり、天然ガス中には、主成分としてのメタンのほか、エタンやプロパンなどが副成分として含まれている。一般的な天然ガスの組成例として、メタン86.88%、エタン5.20%、プロパン1.86%、i−ブタン0.42%、n−ブタン0.47%、i−ペンタン0.15%などを含むものが挙げられる。
<第1の反応工程>
第1の反応工程では、混合ガスと水とを気液接触させて混合ガスハイドレートを生成させる。ここで、反応における温度、圧力は、混合ガスの種類に応じて既知のハイドレート生成条件に設定することが可能である。天然ガスの場合には、混合ガスの組成、比率により平衡がメタンハイドレートの場合から移動するが(通常は高温、低圧側にシフトする)、この移動した平衡条件よりも低温・高圧側に設定することによってハイドレートを製造できる。
<第2の反応工程>
第2の反応工程では、前記第1の反応工程で副成分の大部分がハイドレート化して除去された高純度(およそ95%以上)の主成分ガスに、水を追加導入して気液接触させ、ガスハイドレートを生成させる。第2の反応工程では、高純度の主成分ガスが原料となるため、第1の反応工程のように混合ガスハイドレートではなく、主成分ガスによるほぼ単一なケージを持つガスハイドレートが形成される。例えば、原料ガスが天然ガスの場合には、副成分として含有されるエタンやプロパンは、第1の反応工程でほぼハイドレート化してしまうため、第2の反応工程では、95%以上の純度のメタンガスによりメタンハイドレートが優勢的に生成することになる。
図1は、本発明の1実施形態に係る天然ガスハイドレート製造装置100の概要を示す図面である。このハイドレート製造100は、混合ガスと水とを気液接触させて混合ガスハイドレートを生成させる第1の反応部10と、第1の反応部10を通過したガスと補給水とを気液接触させてガスハイドレートを生成させる第2の反応部20と、を具備している。
一段式のガスハイドレート製造装置で混合状態のガスをハイドレート化すると、前記したようにケージへのガスの取り込み量(包蔵量)が上がらず、頭打ちになるという問題がある。この理由は明らかではないが、以下のように考えれば合理的な説明が可能になる。なお、ここでは天然ガスハイドレートを例に挙げて説明する。
実施例1
2段式混合ガスハイドレート製造装置による製造:
図3に示す試験装置を使用して天然ガスハイドレートを製造した。
<実験手順>
2段式混合ガスハイドレート製造装置30の反応容器31aおよび反応容器31bに、それぞれ精製水を0.5リットルずつ充填した。蓄圧器51に所定圧、濃度の混合ガスを充填し、そこから蓄圧器51から反応容器31aに所定圧5MPaになるまで混合ガスを充填した。
1段式混合ガスハイドレート製造装置による製造:
図4に示す試験装置を使用して天然ガスハイドレートを製造した。
<実験手順>
反応容器31cに、精製水を0.5リットル充填した。蓄圧器51に所定圧、濃度の混合ガスを充填し、そこから反応容器31cに所定圧5MPaになるまで混合ガスを充填した。
図5に初期原料ガスと反応容器31aで得られる気相ガス(つまり、反応容器31bの原料ガス;2次原料ガス)のプロパンの濃度を、図6に1段式のガスハイドレート製造装置40で生成したガスハイドレート(比較例1)と、2段式のガスハイドレート製造装置30の反応容器31bで生成したガスハイドレート(実施例1)のガス包蔵量を示す。
すなわち、管状のハイドレート生成装置110の内部に原料となる生成水とガス(例えば天然ガス)とを流送しながらハイドレート形成を行わせる方式において、原料ガスが所定濃度(例えば95%)に達するまでの領域を第1の反応部111として、第2の反応部112の開始部位には水補給手段22を設ける構成を採用することができる。
11 ガス導入手段
12 水導入手段
13 ガス排出手段
20 第2の反応部
21 ガス導入手段
22 水補給手段
23 ハイドレート排出手段
100 ハイドレート製造装置
110 ハイドレート生成容器
111 第1の反応部
112 第2の反応部
200 ハイドレート製造装置
Claims (5)
- 主成分と副成分からなる二種以上の成分を含有する混合ガスを原料とし、気液接触させてガスハイドレートを生成させるガスハイドレート製造装置であって、
混合ガスと水とを気液接触させて混合ガスハイドレートを生成させる第1の反応部と、
水補給手段を備え、前記第1の反応部を通過したガスと補給水とを気液接触させてガスハイドレートを生成させる第2の反応部と、
を備えたガスハイドレート製造装置。 - 請求項1において、前記第1の反応部と前記第2の反応部を、別々の生成容器により構成したことを特徴とする、ガスハイドレート製造装置。
- 主成分と副成分からなる二種以上の成分を含有する混合ガスを原料とし、気液接触させてガスハイドレートを生成させるガスハイドレート製造方法であって、
混合ガスと水とを気液接触させて混合ガスハイドレートを生成させる第1の反応工程と、
前記第1の反応工程で副成分の大部分がハイドレート化して除去された高純度の主成分ガスに、水を追加導入して気液接触させ、ガスハイドレートを生成させる第2の反応工程と、
を備えたガスハイドレート製造方法。 - 請求項3において、前記第1の反応工程で、気相中の主成分ガスの濃度が95%以上になった段階で第2の反応工程に移行させることを特徴とする、ガスハイドレート製造方法。
- 請求項3または4において、前記混合ガスが天然ガスであることを特徴とする、ガスハイドレート製造方法。
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