JP2005196067A - Antireflection film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は，ワードプロセッサ，コンピュータ，テレビジョン等のディスプレイ、例えばプラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の表面を保護する目的で使用される反射防止フィルムに関する。 The present invention relates to an antireflection film used for the purpose of protecting the surface of a display such as a word processor, a computer, and a television, such as a plasma display, a CRT display, a liquid crystal display, a projection display, and an EL display.
従来各種ディスプレイに用いられる反射防止フィルムは、光学特性などの点から三酢酸セルロースなどのセルロース系フィルムを基材に用い、その上にハードコート層、反射防止層を設けた構成が一般的であった。しかし、基材に用いるセルロース系フィルムは光学異方性がないなど、光学特性に優れるものの、耐衝撃性が十分でなく、またコストが高いという問題があった。
そのため、基材として、耐衝撃性に優れ、安価であるポリエステル系フィルムを用いたハードコートフィルムや反射防止フィルム（特許文献１、２参照）が必要とされてきている。
Conventionally, an antireflection film used for various displays generally has a configuration in which a cellulose-based film such as cellulose triacetate is used as a substrate, and a hard coat layer and an antireflection layer are provided thereon from the viewpoint of optical characteristics. It was. However, although the cellulose-based film used for the substrate is excellent in optical properties such as no optical anisotropy, it has a problem of insufficient impact resistance and high cost.
Therefore, a hard coat film or an antireflection film (see Patent Documents 1 and 2) using a polyester film that is excellent in impact resistance and is inexpensive has been required as a base material.
しかし、ポリエステル系基材は、その上に設けるハードコート層との密着性を良好に保つことは困難であり、それらを改善するために易接着処理として、ポリエステル系の基材にコロナ処理、プラズマ処理やアンカー層を設けるなどの前処理を施すことが提案されてきた。
しかしながら、コロナ処理やプラズマ処理だけでは、十分な密着性をだすことが難しく、アンカー層を設ける場合は、密着性は向上するものの、光学設計が難しく、干渉縞の発生を抑えることが困難であった。
However, it is difficult to achieve sufficient adhesion only by corona treatment or plasma treatment. When an anchor layer is provided, the adhesion is improved, but the optical design is difficult and it is difficult to suppress the occurrence of interference fringes. It was.
本発明は，前記問題を解決するため、ポリエステル系基材上にハードコート、反射防止層を設けてなる反射防止フィルムにおいて、基材との密着性がよく干渉縞のない良好な光学特性を有する反射防止フィルムを提供することにある。 In order to solve the above problems, the present invention provides an antireflection film in which a hard coat and an antireflection layer are provided on a polyester base material, and has good optical properties with good adhesion to the base material and no interference fringes. It is to provide an antireflection film.
請求項１に記載の発明は、ポリエステル系基材の一方の面に、下記一般式（１）からなる化合物Ａを含有する感光性樹脂組成物から形成されるハードコート層、反射防止層を順次積層してなることを特徴とする反射防止フィルムである。 In the first aspect of the present invention, a hard coat layer and an antireflection layer formed from a photosensitive resin composition containing the compound A composed of the following general formula (1) are sequentially formed on one surface of a polyester-based substrate. It is an antireflection film characterized by being laminated.
請求項２に記載の発明は、前記ハードコート層に、導電性微粒子を含むことを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルムである。 The invention according to claim 2 is the antireflection film according to claim 1, wherein the hard coat layer contains conductive fine particles.
請求項３に記載の発明は、前記ハードコート層の屈折率が１．６〜１．７５の範囲内であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムである。 The invention according to claim 3 is the antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the refractive index of the hard coat layer is in the range of 1.6 to 1.75.
請求項４に記載の発明は、前記ポリエステル系基材が、ポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムである。 The invention according to claim 4 is the antireflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyester base is polyethylene terephthalate.
請求項５に記載の発明は、ポリエステル系基材の他方の面に、電磁波シールド層、赤外線カット層、ネオン光補正層のいずれか１種以上を設けてなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムである。 The invention according to claim 5 is characterized in that at least one of an electromagnetic wave shielding layer, an infrared cut layer, and a neon light correction layer is provided on the other surface of the polyester-based substrate. 4. The antireflection film according to any one of 4 above.
本発明では、ハードコート層に、前記一般式（１）で表わされる感光性樹脂を含むことにより、干渉縞の発生を抑え、良好な光学特性を有し、かつ基材との密着性に優れた反射防止フィルムとすることができるものである。 In the present invention, by including the photosensitive resin represented by the general formula (1) in the hard coat layer, the occurrence of interference fringes is suppressed, the optical properties are good, and the adhesion to the substrate is excellent. It can be used as an antireflection film.
以下に，本発明の実施形態について詳細に説明する。
本発明における反射防止フィルムは、ポリエステル系基材上に、ハードコート層、反射防止層を順次設けてなるものであり、ハードコート層が下記一般式（１）で表わされる化合物（Ａ）を含有する感光性樹脂から形成されることを特徴とするものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The antireflection film in the present invention is obtained by sequentially providing a hard coat layer and an antireflection layer on a polyester base material, and the hard coat layer contains a compound (A) represented by the following general formula (1). It is formed from the photosensitive resin which carries out.
前記一般式（１）中、ｎは１．５〜２０であり、より好ましくは２〜１０である。小さすぎると硬化後の塗膜が脆くなり、２０を超えると硬化が困難になる。 In said general formula (1), n is 1.5-20, More preferably, it is 2-10. If it is too small, the cured coating film becomes brittle, and if it exceeds 20, curing becomes difficult.
また、前記一般式（１）中のＡ、Ｂで下記一般式（２）と（３）で表わされる基の比率が、１０：９０〜９０：１０であることを特徴とする。さらに、３０：７０〜７０：３０であると好ましく、４０：６０〜６０：４０であるとより好ましい。下記一般式（３）で表わされる基が９０を超えると製造過程でゲル化し易く、１０未満であると基材との密着性を十分に確保できない。 The ratio of the groups represented by the following general formulas (2) and (3) in A and B in the general formula (1) is 10:90 to 90:10. Furthermore, it is preferable in it being 30: 70-70: 30, and it is more preferable in it being 40: 60-60: 40. If the group represented by the following general formula (3) exceeds 90, gelation tends to occur in the production process, and if it is less than 10, sufficient adhesion to the substrate cannot be ensured.
また、上記一般式（２）、（３）中のＸ、Ｙに用いられる置換基としては水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アリル基、ハロゲン原子などが挙げられる。 Examples of the substituent used for X and Y in the general formulas (2) and (3) include a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an allyl group, and a halogen atom.
また、前記一般式（１）中のＤ1、Ｄ2は、前述のように、種々の基を有する化合物から選ばれるものであり、Ｄ1、Ｄ2の合計１００個のうち、下記一般式（４）で表わされる基を３０個以上含むものである。３０個より少ないと、感光性能が低下し、ポリエステル系基材との密着性が低下し、低硬度となる。 In addition, as described above, D 1 and D 2 in the general formula (1) are selected from compounds having various groups, and among the total of 100 D 1 and D 2 , the following general formula It contains 30 or more groups represented by (4). When the number is less than 30, the photosensitive performance is lowered, the adhesiveness with the polyester base material is lowered, and the hardness becomes low.
ハードコート層の屈折率は、１．６０〜１．７５の範囲内であることが好ましい。この範囲内であると、ポリエステル系基材との干渉縞の発生を抑えることができ、好ましいものとなる。また、基材との屈折率の差が、０．１未満の範囲内であると、干渉縞の発生を抑えることができ、好ましいものとなる。 The refractive index of the hard coat layer is preferably in the range of 1.60 to 1.75. Within this range, generation of interference fringes with the polyester base material can be suppressed, which is preferable. Moreover, when the difference in refractive index from the substrate is within a range of less than 0.1, the generation of interference fringes can be suppressed, which is preferable.
ハードコート層には前述の一般式（１）で表わされる樹脂以外に、その他のバインダー樹脂、感光性成分などを加えても良い。 In addition to the resin represented by the general formula (1), other binder resins, photosensitive components, and the like may be added to the hard coat layer.
バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂などに重合性不飽和二重結合を導入したものが挙げられる。重合性不飽和二重結合の導入方法はどのようなものであっても構わない。これらの樹脂を単独で添加しても良いし、他の樹脂を含む複数の樹脂を混合して添加しても良い。 Examples of the binder resin include polyurethane resin, polyurea resin, polyurethane urea resin, polyester resin, polyether resin, polycarbonate resin, epoxy resin, amino resin, styrene resin, acrylic resin, melamine resin, polyamide resin, phenol resin, vinyl resin. And the like having a polymerizable unsaturated double bond introduced therein. Any method for introducing a polymerizable unsaturated double bond may be used. These resins may be added alone, or a plurality of resins including other resins may be mixed and added.
感光性成分としては、例えば、感光性不飽和二重結合を有する化合物を例示することができる。感光性不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物などが挙げられる。これら、感光性不飽和二重結合を有する化合物は、さらに水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基などの官能基を有していても良い。 As a photosensitive component, the compound which has a photosensitive unsaturated double bond can be illustrated, for example. Examples of the compound having a photosensitive unsaturated double bond include (meth) acrylic compounds, fatty acid vinyl compounds, alkyl vinyl ether compounds, α-olefin compounds, vinyl compounds, and ethynyl compounds. These compounds having a photosensitive unsaturated double bond may further have a functional group such as a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an amide group, or a silanol group.
（メタ）アクリル系化合物としては、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート、カルボキシル基と不飽和二重結合とを有する化合物、水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物などがある。また、単官能、多官能を適宜使用することができる。塗膜硬度の点からは、多官能のものが好ましい。 Examples of (meth) acrylic compounds include alkyl (meth) acrylates, alkylene glycol (meth) acrylates, compounds having carboxyl groups and unsaturated double bonds, (meth) acrylic compounds having hydroxyl groups, and nitrogen-containing ( And (meth) acrylic compounds. Moreover, monofunctional and polyfunctional can be used suitably. From the viewpoint of coating film hardness, polyfunctional ones are preferred.
単官能をさらに具体的に例示すると、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２２のアルキル（メタ）アクリレートがあり、極性の調節を目的とする場合には好ましくは炭素数２〜１０、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。レベリング性の調節等を目的とする場合には炭素数６以上であることが望ましい。 More specifically, monofunctional examples include alkyl (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (Meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate There are alkyl (meth) acrylates having 1 to 22 carbon atoms such as nonadecyl (meth) acrylate, icosyl (meth) acrylate, heicosyl (meth) acrylate, docosyl (meth) acrylate, etc. Includes an alkyl group-containing acrylate having a C 2-10 alkyl group, more preferably a C 2-8 alkyl group, or a corresponding methacrylate. For the purpose of adjusting leveling properties, it is desirable that the number of carbon atoms is 6 or more.
また、アルキレングリコール系（メタ）アクリレートとしては、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート等末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート等、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート等、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレートなど末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートがある。 Moreover, as alkylene glycol type (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexaethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono ( (Meth) acrylate, dipropylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol mono (meth) acrylate, tetrapropylene glycol mono (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (meth) acrylate, etc. Chain-containing monoacrylate or corresponding monomethacrylate, such as methoxyethylene glycol (meth) acrylate, methoxydiethyle Glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, ethoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, propoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, n-butoxytetraethylene glycol (meta ) Acrylate, n-pentoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, tripropylene glycol (meth) acrylate, tetrapropylene glycol (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (meth) acrylate, methoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, ethoxy Tetrapropylene glycol (meth) acrylate, propoxytetrapropylene glycol ( ) Acrylate, n-butoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, n-pentoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolytetramethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol ( Mono-acrylates having an alkoxy group at the end, such as (meth) acrylate, ethoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, and having a polyoxyalkylene chain, or corresponding monomethacrylates, such as phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethylene glycol (meth) acrylate , Phenoxytriethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylic Examples thereof include polyoxyalkylene-based acrylates having a phenoxy or aryloxy group at the terminal, such as rate, phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, and corresponding methacrylates.
さらに、カルボキシル基及び不飽和二重結合含有化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等を例示することができる。 Furthermore, as a compound containing a carboxyl group and an unsaturated double bond, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, or an alkyl or alkenyl monoester thereof, phthalic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, Examples thereof include isophthalic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, succinic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid and the like.
水酸基含（メタ）アクリル系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシビニルベンゼンなどが挙げられる。 Examples of hydroxyl-containing (meth) acrylic compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, and 4-hydroxyvinylbenzene. Etc.
窒素含有（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミドなどのモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチルール）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミドなどのジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてＣｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ3−（Ｑ：炭素数１〜１２のアルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の４級アンモニウム塩などがある。 Nitrogen-containing (meth) acrylic compounds include (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methoxymethyl- (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl- (meth) acrylamide, N-propoxymethyl- ( Monoalkylol (meth) acrylamide such as (meth) acrylamide, N-butoxymethyl- (meth) acrylamide, N-pentoxymethyl- (meth) acrylamide, N, N-di (methylol) acrylamide, N-methylol-N- Methoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-di (methylol) acrylamide, N-ethoxymethyl-N-methoxymethyl methacrylamide, N, N-di (ethoxymethyl) acrylamide, N-ethoxymethyl-N-propoxymethyl meta Acrylic N, N-di (propoxymethyl) acrylamide, N-butoxymethyl-N- (propoxymethyl) methacrylamide, N, N-di (butoxymethyl) acrylamide, N-butoxymethyl-N- (methoxymethyl) meta Acrylamide unsaturated compounds such as acrylamide, N, N-di (pentoxymethyl) acrylamide, N-methoxymethyl-N- (pentoxymethyl) methacrylamide and the like, and dimethylaminoethyl (meth) acrylate , Unsaturated compounds having a dialkylamino group such as diethylaminoethyl (meth) acrylate, methylethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminostyrene, diethylaminostyrene and the like, and Cl-, Br-, I-, etc. as counter ions Halogen ions or QSO 3 -: and the like quaternary ammonium salts of dialkylamino group-containing unsaturated compound having a (Q alkyl group having 1 to 12 carbon atoms).
さらにその他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類を挙げることができる。
また、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレンなどのパーフルオロアルキル、アルキレン類などのパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。
Further, other unsaturated compounds include perfluoromethylmethyl (meth) acrylate, perfluoroethylmethyl (meth) acrylate, 2-perfluorobutylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorohexylethyl (meth) acrylate, 2 -Perfluorooctylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoroisononylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorononylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorodecylethyl (meth) acrylate, perfluoropropylpropyl (meth) Perfluorooctylpropyl (meth) acrylate, perfluorooctyl amyl (meth) acrylate, perfluorooctyl undecyl (meth) acrylate, etc. Can be mentioned perfluoroalkyl alkyl (meth) acrylates having an alkyl group.
In addition, perfluoroalkyl such as perfluorobutylethylene, perfluorohexylethylene, perfluorooctylethylene, perfluorodecylethylene, and perfluoroalkyl group-containing vinyl monomers such as alkylene, vinyltrichlorosilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane , Vinyl triethoxysilane, alkoxysilyl group-containing vinyl compounds such as γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and derivatives thereof, glycidyl group-containing acrylates such as glycidyl acrylate and 3,4-epoxycyclohexyl acrylate, and the like. A plurality of these groups can be used.
脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルチミン酸ビニル、ステアリン酸ビニルなどが挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルなどが挙げられる。
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセンなどが挙げられる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリルなどのアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロロスチレンなどが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノールなどが挙げられる。
これらは、単独若しくは２種類以上を併用して用いることができる。
Examples of the fatty acid vinyl compound include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl propionate, vinyl hexanoate, vinyl caprylate, vinyl laurate, vinyl palmitate, and vinyl stearate.
Examples of the alkyl vinyl ether compound include butyl vinyl ether and ethyl vinyl ether.
Examples of the α-olefin compound include 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene and the like.
Examples of the vinyl compound include allyl compounds such as allyl acetate, allyl alcohol, allylbenzene, and allyl cyanide, vinyl cyanide, vinylcyclohexane, vinylmethylketone, styrene, α-methylstyrene, 2-methylstyrene, and chlorostyrene. It is done.
Examples of the ethynyl compound include acetylene, ethynylbenzene, ethynyltoluene, 1-ethynyl-1-cyclohexanol and the like.
These can be used alone or in combination of two or more.
また、ハードコート層には、導電性微粒子を加えることにより、帯電防止性能を付与することができる。導電性微粒子としては、無機酸化物粒子や導電性有機物微粒子を用いることができる。
無機酸化物微粒子としては、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、酸化亜鉛、インジウム酸化物、酸化錫、アンチモン錫酸化物、インジウム錫酸化物、亜鉛アルミニウム酸化物、リン錫酸化物などが挙げられる。
これら導電性微粒子の粒径は１〜１００ｎｍが好ましい。１ｎｍ未満では帯電防止性能が低下し、１００ｎｍを超えるとでは透過、反射光の散乱が起こり、濁度（ヘイズ）が上昇するため好ましくない。また、さらには３〜５０ｎｍであることが好ましい。
これら、導電性微粒子は、加えることで帯電防止能をだすとともに、屈折率の調整をかねることもできる。これらの配合量は、基材とハードコート層の屈折率の関係や帯電防止性能を考慮して決定され、具体的には、被硬化物（他の粒子等添加物を除いた感光性成分）１００重量部に対して、３０〜５００重量部であることが好ましい。５００重量部を超えると硬化膜の物性が低下し、ハードコートとしての性能を示さなくなり、３０重量部以下であると十分な帯電防止能が得られない。
さらに具体的には、例えば酸化アンチモン（五酸化アンチモン）を用いた場合、被硬化物１００重量部に対して２５０〜３５０重量部である。
なお、これら導電性微粒子を加えても屈折率の調整が不十分である場合は、後述の屈折率調整剤を用いてもよい。この場合、被硬化物（他の粒子等添加物を除いた感光性成分）１００重量部に対して、導電性微粒子と後述の屈折率調整剤の合計が５００重量部を超えない程度であればよい。
Further, antistatic performance can be imparted to the hard coat layer by adding conductive fine particles. As the conductive fine particles, inorganic oxide particles or conductive organic fine particles can be used.
Examples of the inorganic oxide fine particles include antimony oxide, zinc antimonate, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, antimony tin oxide, indium tin oxide, zinc aluminum oxide, and phosphorus tin oxide.
The particle size of these conductive fine particles is preferably 1 to 100 nm. If it is less than 1 nm, the antistatic performance deteriorates, and if it exceeds 100 nm, transmission and scattering of reflected light occur and turbidity (haze) increases, which is not preferable. Furthermore, it is preferable that it is 3-50 nm.
When these conductive fine particles are added, the antistatic ability can be produced and the refractive index can be adjusted. These blending amounts are determined in consideration of the relationship between the refractive index of the base material and the hard coat layer and antistatic performance. Specifically, the material to be cured (photosensitive component excluding additives such as other particles). It is preferable that it is 30-500 weight part with respect to 100 weight part. If it exceeds 500 parts by weight, the physical properties of the cured film will be lowered and the performance as a hard coat will not be exhibited, and if it is 30 parts by weight or less, sufficient antistatic ability will not be obtained.
More specifically, for example, when antimony oxide (antimony pentoxide) is used, the amount is 250 to 350 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the object to be cured.
In addition, when the adjustment of the refractive index is insufficient even when these conductive fine particles are added, a refractive index adjusting agent described later may be used. In this case, if the total of the conductive fine particles and the refractive index adjusting agent described later does not exceed 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the object to be cured (photosensitive component excluding additives such as other particles). Good.
また、ハードコート層を紫外線により硬化させる場合は、光重合開始剤を加える。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤はなくても良い。
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物などが使用できる。
When the hard coat layer is cured by ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is added. In addition, when making it harden | cure by an electron beam, there may not be an initiator.
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has a function capable of initiating vinyl polymerization by photoexcitation. For example, a monocarbonyl compound, dicarbonyl compound, acetophenone compound, benzoin ether compound, acylphosphine oxide compound, aminocarbonyl A compound etc. can be used.
具体的にはモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、４−メチル−ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル−エネタノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１，３−アクリロイル−１，４，７，１０，１３−ペンタオキソトリデシル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシエチル）メタアンモニウム蓚酸塩、２−／４−イソ−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ヒドロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈチオキサントン−２−イロキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト（１，２−ｄ）チアゾリンなどが挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２，１，１］ヘプタン−２，３−ジオン、ベンザイル、２−エチルアントラキノン、９，１０−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、４−フェニルベンザイルなどが挙げられる。
Specific examples of the monocarbonyl compound include benzophenone, 4-methyl-benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4- (4-methylphenylthio) phenyl- Enetanone, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4- (1,3-acryloyl-1,4,7,10,13-pentaoxotridecyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′- Tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 4-benzoyl-N, N, N-trimethyl-1-propanamine hydrochloride, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N-2- (1-oxo-2-) Propenyloxyethyl) methammonium succinate, 2- / 4-iso-propylthioxanthone, 2 4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-hydroxy-3- (3,4-dimethyl-9-oxo-9H thioxanthone-2-yloxy-N, N, N -Trimethyl-1-propanamine hydrochloride, benzoylmethylene-3-methylnaphtho (1,2-d) thiazoline and the like.
Examples of the dicarbonyl compound include 1,7,7-trimethyl-bicyclo [2,1,1] heptane-2,3-dione, benzyl, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, and methyl-α-oxobenzene. Examples include acetate and 4-phenylbenzyl.
アセトフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−スチリルプロパン−１−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，２−ジエトキシ−１，２ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−フェニル−１，２プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノ−プロパノニル）−９−ブチルカルバゾールなどが挙げられる。 Examples of the acetophenone compound include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- ( 4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-styrylpropan-1-one polymer, Diethoxyacetophenone, dibutoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,2-diethoxy-1, diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino- -(4-morpholinophenyl) butan-1-one, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 3,6-bis (2-methyl-2-morpholino-propanonyl)- Examples thereof include 9-butylcarbazole.
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル、などが挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ｎ−プロピルフェニル−ジ（２，６−ジクロロベンゾイル）ホスフィンオキシドなどが挙げられる。
アミノカルボニル化合物としては、メチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、エチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート２−ｎブトキシエチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、イソアミル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、４，４’−ビス−４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス−４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２，５’−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノンなどが挙げられる。
Examples of the benzoin ether compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin normal butyl ether, and the like.
Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 4-n-propylphenyl-di (2,6-dichlorobenzoyl) phosphine oxide.
Examples of aminocarbonyl compounds include methyl-4- (dimethylamino) benzoate, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate 2-nbutoxyethyl-4- (dimethylamino) benzoate, isoamyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2 -(Dimethylamino) ethylbenzoate, 4,4'-bis-4-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-bis-4-diethylaminobenzophenone, 2,5'-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, etc. Is mentioned.
これらは上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独または併用して用いることができる。
使用量に特に制限はないが、被硬化物の乾燥重量１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲内で使用することが好ましい。
また、増感剤として公知の有機アミンなどを加えることもできる。
さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかにカチオン重合用の開始剤も併用することができる。
These are not limited to the above compounds, and any compounds can be used as long as they have the ability to initiate polymerization by ultraviolet rays. These can be used alone or in combination.
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount, It is preferable to use within the range of 1-20 weight part with respect to 100 weight part of dry weight of to-be-cured material.
Moreover, a well-known organic amine etc. can also be added as a sensitizer.
Furthermore, an initiator for cationic polymerization can be used in combination with the initiator for radical polymerization.
また、必要に応じて様々な添加剤を添加することができる。
例えば、屈折率調整剤を添加することができる。
屈折率調整剤としては、酸化亜鉛（屈折率；１．９０）、酸化チタン（屈折率；２．３〜２．７）、酸化セリウム（屈折率；１．９５）、酸化イットリウム（屈折率；１．８７）、酸化ランタン（屈折率；１．９５）、酸化ジルコニウム（屈折率；２．１）などの無機酸化物粒子や酸化アンチモン−酸化チタン（屈折率；２．１〜２．６）、酸化亜鉛−酸化チタン（２．１〜２．６）、酸化チタン−酸化珪素（屈折率；１．７〜２．６）、酸化チタン−酸化錫（屈折率；１．９〜２．６）、酸化亜鉛−酸化珪素（屈折率；１．６〜２．０）、酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化錫（屈折率；１．９〜２．５）などの無機複合酸化物粒子などを用いることができる。
これら粒子の平均粒径は１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。
また、配合量は前記導電性微粒子を加える場合は、導電性を損なわず、十分屈折率を調整できる量を、前記導電性微粒子を加えない場合は十分屈折率を調整できる量を配合すれば良い。
Moreover, various additives can be added as needed.
For example, a refractive index adjusting agent can be added.
Examples of the refractive index adjusting agent include zinc oxide (refractive index; 1.90), titanium oxide (refractive index; 2.3 to 2.7), cerium oxide (refractive index; 1.95), and yttrium oxide (refractive index; 1.87), inorganic oxide particles such as lanthanum oxide (refractive index; 1.95), zirconium oxide (refractive index; 2.1), and antimony oxide-titanium oxide (refractive index; 2.1 to 2.6). , Zinc oxide-titanium oxide (2.1-2.6), titanium oxide-silicon oxide (refractive index; 1.7-2.6), titanium oxide-tin oxide (refractive index; 1.9-2.6) ), Zinc oxide-silicon oxide (refractive index; 1.6-2.0), titanium oxide-zirconium oxide-tin oxide (refractive index: 1.9-2.5), etc. be able to.
The average particle size of these particles is 100 nm or less, more preferably 50 nm or less.
In addition, when the conductive fine particles are added, the amount of the refractive index can be adjusted sufficiently without impairing the conductivity, and when the conductive fine particles are not added, the amount of the refractive index can be adjusted sufficiently. .
また、溶剤染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、球状フィラーなどを加えても良い。 Further, solvent dyes, antioxidants, polymerization inhibitors, leveling agents, humectants, viscosity modifiers, antiseptics, antibacterial agents, antiblocking agents, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, spherical fillers, and the like may be added.
ハードコート層は、上記材料を含む塗液を塗工後、硬化処理することにより得ることができる。
なお、塗液には溶剤を加えても良い。溶剤を含む場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理をおこなえば良い。
溶剤としては、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。例えばシクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピレングリコールアセテート、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、テトラヒドロフラン、メチルピロリドン等が挙げられる。
The hard coat layer can be obtained by applying a coating liquid containing the above materials and then performing a curing treatment.
A solvent may be added to the coating liquid. When a solvent is included, the curing process may be performed after the solvent is volatilized.
As the solvent, various known organic solvents can be used. Examples thereof include cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl propylene glycol acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, tetrahydrofuran, methyl pyrrolidone and the like.
硬化処理としては、公知の技術を用いることができる。例えば、活性エネルギー線として、紫外線、電子線、波長４００〜５００ｎｍの可視光線を使用し、それらを照射することにより硬化処理をおこなうことができる。
紫外線および波長４００〜５００ｎｍの可視光線の線源（光源）には、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプなどを使用することができる。電子線源には熱電子放射銃、電解放射銃などを使用することができる。
照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪの範囲内であることが好ましく、さらには工程上管理しやすい点から５０〜１０００ｍＪの範囲内であることが好ましい。
また、これら紫外線、電子線、波長４００〜５００ｎｍの可視光線と赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱などによる熱処理も併用できる。
As the curing treatment, a known technique can be used. For example, ultraviolet rays, electron beams, visible light having a wavelength of 400 to 500 nm are used as active energy rays, and the curing treatment can be performed by irradiating them.
For example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used as the ultraviolet ray and a visible light source (light source) having a wavelength of 400 to 500 nm. As the electron beam source, a thermionic emission gun, an electrolytic emission gun, or the like can be used.
The active energy dose to be irradiated is preferably in the range of 5 to 2000 mJ, and more preferably in the range of 50 to 1000 mJ from the viewpoint of easy management in the process.
Moreover, these ultraviolet rays, electron beams, visible light having a wavelength of 400 to 500 nm, heat treatment by infrared rays, far infrared rays, hot air, high frequency heating and the like can be used in combination.
ハードコート層は、基材に塗液を塗工後、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行っても良いし、塗工後硬化処理を行った後に自然または強制乾燥させてもよいが、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行った方がより好ましい。
電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行った方がより好ましい。
また、硬化処理のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。
The hard coat layer may be subjected to a curing treatment after natural or forced drying after coating the coating liquid on the substrate, or may be natural or forced drying after performing a curing treatment after coating, It is more preferable to perform the curing treatment after natural or forced drying.
In the case of curing with an electron beam, it is more preferable to perform a curing treatment after natural or forced drying in order to prevent curing inhibition by water or a decrease in strength of the coating film due to residual organic solvent.
Moreover, the timing of a hardening process may be simultaneous with coating, and may be after coating.
本発明に用いる基材はポリエステル系の基材を用いることを特徴としている。ポリエステル系の基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、屈折率；１．６０〜１．６７）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、屈折率；１．６８〜１．７２）などが挙げられる。
また、これら基材はコロナ処理、プラズマ処理などの前処理を施しても良い。前処理を行うことによりさらに密着性が向上するものである。
The substrate used in the present invention is characterized by using a polyester-based substrate. Examples of the polyester base material include polyethylene terephthalate (PET, refractive index: 1.60 to 1.67), polyethylene naphthalate (PEN, refractive index: 1.68 to 1.72), and the like.
These base materials may be subjected to pretreatment such as corona treatment and plasma treatment. By performing the pretreatment, the adhesion is further improved.
ハードコート層の上に設ける反射防止層は、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を交互に積層したものや、前記低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有する中屈折率材料からなる層と高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を順次に積層したもの、低屈折率材料からなる層単層を用いることができる。
具体的な例としては、例えば、低屈折率層単層、高屈折率層／低屈折率層、高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層などがあり、光学設計により、平均反射率が低く、反射防止性能、視認性の優れたものとなるものであれば、これらに限るものではない。
The antireflective layer provided on the hard coat layer is one in which layers made of a high refractive index material and layers made of a low refractive index material are alternately laminated, or an intermediate refractive index between the low refractive index material and the high refractive index material. A layer made of a medium refractive index material, a layer made of a high refractive index material, and a layer made of a low refractive index material, or a single layer made of a low refractive index material can be used.
Specific examples include a low refractive index layer single layer, a high refractive index layer / low refractive index layer, a high refractive index layer / low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer, and a medium refractive index layer. / High refractive index layer / Low refractive index layer and the like, and the optical design is not limited to these as long as the average reflectance is low and the antireflection performance and visibility are excellent.
低屈折率層としては、屈折率の低いＭｇＦ2（屈折率；約１．４）、ＳｉＯ2（屈折率；約１．２〜１．５）、ＬｉＦ（屈折率；約１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3（屈折率；約１．４）、Ｎａ3ＡｌＦ6（屈折率；約１．３３）などを用いることができる。また、これらＭｇＦ2、ＳｉＯ2等の微粒子を紫外線および電子線硬化型樹脂や珪素アルコキシド系のマトリックスに分散させたものを用いることができるが、これに限定されるものではない。 As the low refractive index layer, MgF 2 (refractive index; about 1.4) having a low refractive index, SiO 2 (refractive index; about 1.2 to 1.5), LiF (refractive index; about 1.4), 3NaF · AlF 3 (refractive index; about 1.4), Na 3 AlF 6 (refractive index; about 1.33), or the like can be used. In addition, although fine particles such as MgF 2 and SiO 2 dispersed in ultraviolet and electron beam curable resin or silicon alkoxide matrix can be used, the present invention is not limited to this.
低屈折率層の形成方法としては、前記低屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、低屈折微粒子を含むマトリックスを、膜厚が、０．０１〜１μｍになるように塗工し、必要に応じて、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行うことで形成できる。 As a method for forming the low refractive index layer, when the low refractive index layer is formed using the matrix containing the low refractive fine particles, the matrix containing the low refractive fine particles is applied so that the film thickness is 0.01 to 1 μm. Then, it can be formed by performing a drying process, an ultraviolet irradiation process, and an electron beam irradiation process.
塗工の方法としては公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロットなどの各種コーティング方法を用いることができる。 As a coating method, a known method can be used. For example, a method using a rod or a wire bar, or various coating methods such as a micro gravure, a gravure, a die, a curtain, a lip, or a slot can be used.
また、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等のを用いて形成してもよい。 Alternatively, a vacuum evaporation method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an ion plating method, an electroplating method, or the like may be used.
また、高屈折率層としては，屈折率の高いＴｉＯ2（屈折率；２．３〜２．７）、Ｙ2Ｏ3（屈折率；１．９）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率；２．０）、ＺｒＯ2（屈折率；２．１）、Ａｌ2Ｏ3（屈折率；１．６）、Ｎｂ2Ｏ3（屈折率；１．９〜２．１）、Ｉｎ2Ｏ3（屈折率；１．９〜２．１）、Ｓｎ2Ｏ3（屈折率；１．９〜２．１）、Ｉｎ−Ｓｎ複合酸化物（ＩＴＯ 屈折率；１．９〜２．１）などを用いることができる。またこれらＴｉＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｎｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、Ｓｎ2Ｏ3、Ｉｎ−Ｓｎ複合酸化物等からなる微粒子を微粒子を紫外線および電子線硬化型樹脂や珪素アルコキシド系のマトリックスに分散させたものを用いることができるが、これに限定されるものではない。 As the high refractive index layer, TiO 2 having a high refractive index (refractive index; 2.3 to 2.7), Y 2 O 3 (refractive index; 1.9), La 2 O 3 (refractive index; 2). 0.0), ZrO 2 (refractive index; 2.1), Al 2 O 3 (refractive index; 1.6), Nb 2 O 3 (refractive index; 1.9 to 2.1), In 2 O 3 ( Refractive index; 1.9 to 2.1), Sn 2 O 3 (refractive index; 1.9 to 2.1), In-Sn composite oxide (ITO refractive index; 1.9 to 2.1), etc. Can be used. In addition, fine particles composed of TiO 2 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , Nb 2 O 3 , In 2 O 3 , Sn 2 O 3 , In—Sn composite oxide, etc. Can be used in which UV is dispersed in an ultraviolet and electron beam curable resin or a silicon alkoxide matrix, but is not limited thereto.
前記高屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、高屈折微粒子を含むマトリックスを、膜厚が、０．０１〜１μｍになるように塗工し、必要に応じて、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行うことで形成できる。なお、塗工方法としては前記低屈折率層形成のときに述べたのと同様の方法を用いることができる。 When forming with the matrix containing the high refractive fine particles, the matrix containing the high refractive fine particles is applied so that the film thickness is 0.01 to 1 μm, and if necessary, drying treatment, ultraviolet irradiation treatment, electron It can be formed by performing a beam irradiation process. In addition, as a coating method, the same method as described when forming the low refractive index layer can be used.
また、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等のを用いて形成してもよい。 Alternatively, a vacuum evaporation method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an ion plating method, an electroplating method, or the like may be used.
中屈折率層としては、前記低屈折率材料と高屈折率材料のうち、用いる低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有する物質を用いることができる。形成方法は、前記低屈折率層、高屈折率層の形成法方法と同様である。 As the medium refractive index layer, a substance having a refractive index intermediate between the low refractive index material and the high refractive index material to be used can be used among the low refractive index material and the high refractive index material. The formation method is the same as the formation method of the low refractive index layer and the high refractive index layer.
また、本発明ではさらに他の機能層を設けても良い。機能層としては例えば、汚染防止層、帯電防止層、電磁波シールド層、ネオン光補正層、赤外線カット層などを設けることができる。これらの機能層は公知の材料を用い、公知の方法で形成することができる。また、一つの層で複数の機能を有していても良い。
また、汚染防止層は、ディスプレイ用途に用いた場合、表面側となる反射防止層上に設けることが好ましい。
また、本発明の反射防止フィルムを、プラズマディスプレイ用途に用いる場合、電磁波シールド層、ネオン光補正層、赤外線カット層のいずれか一つ以上または全部を設けることが好ましく、どこに設けても構わないが、視認性などを考慮すると、基材の反射防止層を設けた側とは反対側に設けることが好ましい。
In the present invention, another functional layer may be further provided. As the functional layer, for example, a contamination prevention layer, an antistatic layer, an electromagnetic wave shielding layer, a neon light correction layer, an infrared cut layer and the like can be provided. These functional layers can be formed by a known method using a known material. One layer may have a plurality of functions.
Moreover, when used for a display application, the anti-contamination layer is preferably provided on the anti-reflection layer on the surface side.
In addition, when the antireflection film of the present invention is used for a plasma display, it is preferable to provide one or more or all of an electromagnetic wave shielding layer, a neon light correction layer, and an infrared cut layer, and may be provided anywhere. Considering visibility, it is preferable to provide the base on the side opposite to the side on which the antireflection layer is provided.
上記本発明の反射防止フィルムは、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイなどの各種ディスプレイの表面に用いることができる。 The antireflection film of the present invention can be used on the surface of various displays such as a plasma display, a liquid crystal display, a CRT display, a projection display, and an electroluminescence display.
以下、本発明を具体的な実施例を元に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on specific examples.
基材として厚み１００μｍの片面易接着処理を施してあるポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績株式会社製 Ａ４１００）を用い、その易接着処理をしていない面を水との接触角３０°になるよう、コロナ処理を行う。
この基材のコロナ処理面上に下記組成のハードコート塗液をワイヤーバーを用い、乾燥塗布膜厚が４μｍになるよう塗布した。その後７０℃で１分間乾燥した後、メタルハライドランプを用い、積算光量が５００ｍＪとなるよう、紫外線照射を行い、ハードコート層を得た。得られたハードコート層の屈折率は１．６６であった。
Using a polyethylene terephthalate film (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) with a single-sided easy-adhesion treatment having a thickness of 100 μm as a substrate, the surface not subjected to the easy-adhesion treatment has a corona contact angle of 30 ° Process.
A hard coat coating solution having the following composition was applied onto the corona-treated surface of the substrate using a wire bar so that the dry coating thickness was 4 μm. Then, after drying at 70 ° C. for 1 minute, using a metal halide lamp, ultraviolet irradiation was performed so that the integrated light amount was 500 mJ, and a hard coat layer was obtained. The resulting hard coat layer had a refractive index of 1.66.
（化合物Ａ）
攪拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにＮＣ−７０００Ｌ（日本化薬株式会社製）１５２ｇ、ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として１００モル％のアクリル酸４８ｇ、４−メトキシフェノール０．１ｇ、シクロヘキサノン２００ｇ、ジメチルベンジルアミン２ｇを仕込んだ。空気を吹き込みながら、８５℃まで昇温して溶解し、次いで、１１０℃で８時間攪拌し反応させ、化合物Ａの溶液を得た。
(Compound A)
A 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, NC-7000L (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 152 g, as a carboxyl group with respect to 100 mol% of glycidyl group in NC-7000L 100 g of acrylic acid 48 g, 4-methoxyphenol 0.1 g, cyclohexanone 200 g, and dimethylbenzylamine 2 g were charged. While blowing air, the mixture was heated to 85 ° C. for dissolution, and then stirred at 110 ° C. for 8 hours for reaction to obtain a compound A solution.
（ハードコート塗液）
化合物Ａ ２．５重量部（固形分）
シクロヘキサノン ２．５重量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ社製）
０．１２５重量部
を溶解、均一になるまで攪拌し、樹脂溶液を得た。五酸化アンチモンゾル（固形分 ３０％；メチルイソブチルケトン分散）３０重量部を攪拌しながら、前記樹脂溶液を全量加え、均一になるまで攪拌し、ハードコート塗液を得た。
(Hard coat coating solution)
Compound A 2.5 parts by weight (solid content)
Cyclohexanone 2.5 parts by weight Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals)
0.125 parts by weight was dissolved and stirred until uniform to obtain a resin solution. While stirring 30 parts by weight of antimony pentoxide sol (solid content 30%; methyl isobutyl ketone dispersion), the whole amount of the resin solution was added and stirred until uniform to obtain a hard coat coating solution.
次に、ハードコート層上に、下記反射防止塗液をワイヤーバーを用い、硬化塗膜厚さ約０．１μｍになるよう塗布、乾燥し、窒素雰囲気下で積算光量が４００ｍＪとなるよう、紫外線照射を行い、反射防止層を得、反射防止フィルムを作成した。 Next, on the hard coat layer, the following antireflection coating liquid was applied using a wire bar so that the cured coating film thickness was about 0.1 μm, dried, and ultraviolet light was applied so that the accumulated light amount became 400 mJ in a nitrogen atmosphere. Irradiation was performed to obtain an antireflection layer, and an antireflection film was prepared.
（反射防止塗液）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（日本化薬株式会社製 ＰＥＴ−３０）１０重量部をイソプロピルアルコール２００重量部に溶解し、イルガキュア１８４を０．８重量部を加え溶解するまで攪拌した。シリカゾル（屈折率；１．３ エタノール溶媒 固形分 １５ｗｔ％）を４４重量部を攪拌し、ここにペンタエリスリトール溶液を全量加え均一になるまで攪拌し、低屈折率塗液を得た。
(Anti-reflective coating solution)
Ten parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate (PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in 200 parts by weight of isopropyl alcohol, and 0.8 parts by weight of Irgacure 184 was added and stirred until dissolved. 44 parts by weight of silica sol (refractive index; 1.3 ethanol solvent solid content 15 wt%) was stirred, and all the pentaerythritol solution was added thereto and stirred until uniform to obtain a low refractive index coating solution.
実施例１の五酸化アンチモンゾルをＴｉＯ2−Ｓｂ2Ｏ5ゾルに変更し添加量を１２重量部とした以外は実施例１と同様にし、反射防止フィルムを作成した。なお、ハードコート層の屈折率は１．６７であった。 An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the antimony pentoxide sol of Example 1 was changed to TiO 2 —Sb 2 O 5 sol and the addition amount was 12 parts by weight. The refractive index of the hard coat layer was 1.67.
実施例２のハードコート層と低屈折率層の間に下記組成の帯電防止性中間塗液を硬化塗膜厚約０．１μｍとなるよう塗布乾燥し、窒素雰囲気下で４００ｍＪのＵＶ照射を行い帯電防止性中間層を設けた以外は実施例２と同様に行った。
（中間層塗液）
ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０重量部をメチルエチルケトン１０重量部に溶解。ここにインジウムー錫酸化物を４０重量部加え、３本ロールで２時間分散を行った。分散終了後メチルエチルケトン２９０重量部を加え均一になるまで攪拌した。その後、イルガキュア１８４を０．８重量部加え完全に溶解するまで攪拌し、中間層塗液を得た。
An antistatic intermediate coating solution having the following composition was applied and dried between the hard coat layer and the low refractive index layer of Example 2 so as to have a cured coating thickness of about 0.1 μm, and UV irradiation of 400 mJ was performed in a nitrogen atmosphere. The same operation as in Example 2 was conducted except that an antistatic intermediate layer was provided.
(Interlayer coating liquid)
Dissolve 10 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate in 10 parts by weight of methyl ethyl ketone. To this, 40 parts by weight of indium-tin oxide was added, and dispersion was performed with three rolls for 2 hours. After completion of the dispersion, 290 parts by weight of methyl ethyl ketone was added and stirred until uniform. Thereafter, 0.8 part by weight of Irgacure 184 was added and stirred until completely dissolved to obtain an intermediate layer coating solution.
＜比較例１＞
実施例の化合物Ａをペンタエリスリトールテトラアクリレートにした以外はすべて実施例１と同様にした。
<Comparative Example 1>
The same procedure as in Example 1 was conducted except that Compound A of Example was changed to pentaerythritol tetraacrylate.
＜比較例２＞
基材を未処理（コロナ処理を行わない）ＰＥＴとした以外は比較例１と同様にした。
<Comparative example 2>
The same procedure as in Comparative Example 1 was performed except that the base material was untreated (no corona treatment) PET.
＜比較例３＞
基材をコロナ処理のかわりに両面易接着処理を施したＰＥＴ（東洋紡績株式会社製 Ａ４３００）にした以外は比較例１と同様にした。
<Comparative Example 3>
Comparative Example 1 was performed except that the base material was PET (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) subjected to double-sided easy adhesion treatment instead of corona treatment.
各実施例、比較例で作成した反射防止フィルムの性能は，下記の方法に従って評価した。
＜密着性＞
碁盤目セロハンテープ剥離試験を行い９５％以上の残存を示したものを◎、９５％未満を×とした。
＜反射率＞
塗布面の裏面をサンドペーパーで荒らしたサンプルを作成。本サンプルの反射防止面を測定面として日立製作所製 自動分光光度計Ｕ−４０００を用い５°の正反射で反射スペクトルを測定した。このスペクトルデータから反射率が最も低い値を読みとり最低反射率の値とした。
＜干渉縞＞
反射防止と反対の面をサンドペーパーで荒らし裏面の反射防止処理を行った。本サンプルを２０Ｗ蛍光灯の直近２０ｃｍの距離から干渉縞の目視評価を行った。
The performance of the antireflection film prepared in each example and comparative example was evaluated according to the following method.
<Adhesion>
A cross-cell cellophane tape peel test was conducted and 95% or more remaining was marked with ◎, and less than 95% with x.
<Reflectance>
Create a sample where the back of the coated surface is roughed with sandpaper. The reflection spectrum was measured with specular reflection at 5 ° using an automatic spectrophotometer U-4000 manufactured by Hitachi, Ltd. with the antireflection surface of this sample as the measurement surface. The lowest reflectance value was read from the spectrum data and used as the minimum reflectance value.
<Interference fringes>
The surface opposite to the antireflection was roughened with sandpaper, and the antireflection treatment on the back surface was performed. This sample was visually evaluated for interference fringes from a distance of 20 cm closest to the 20 W fluorescent lamp.
評価結果を表１に示す。 The evaluation results are shown in Table 1.
表１より、実施例１、２のサンプルは、密着性、反射防止性能にも優れ、干渉縞のない、優れた反射防止フィルムとなった。実施例３も極僅かに干渉縞がみえるものの、低い反射率を有し、密着性に優れた反射防止フィルムとなった。
それに対し、比較例１のサンプルは、干渉縞はないものの、密着性の乏しいものとなった。比較例２のサンプルは、干渉縞が発生し、密着性の悪いものとなった。比較例３は密着性は良好なものの、激しい干渉縞が発生したものとなった。
From Table 1, the samples of Examples 1 and 2 were excellent in adhesion and antireflection performance, and became excellent antireflection films without interference fringes. Although Example 3 also showed a slight interference fringe, it was an antireflection film having a low reflectance and excellent adhesion.
In contrast, the sample of Comparative Example 1 had no interference fringes but had poor adhesion. The sample of Comparative Example 2 had interference fringes and poor adhesion. In Comparative Example 3, although the adhesion was good, intense interference fringes were generated.
Claims (5)
The antireflection according to any one of claims 1 to 4, wherein at least one of an electromagnetic wave shielding layer, an infrared cut layer, and a neon light correction layer is provided on the other surface of the polyester-based substrate. the film.
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007181994A (en) * | 2006-01-09 | 2007-07-19 | Mitsubishi Polyester Film Copp | Laminated polyester film |
| WO2007139268A1 (en) * | 2006-05-30 | 2007-12-06 | Cheil Industries Inc. | Antireflective hardmask composition |
| JP2008026493A (en) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Lintec Corp | Antireflection film |
| KR100826103B1 (en) * | 2006-05-30 | 2008-04-29 | 제일모직주식회사 | Hardmask composition having antireflective property |
| KR100833212B1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-05-28 | 제일모직주식회사 | Hardmask composition having antireflective property |
| JP2010054913A (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Protection film for image display device, polarizing plate, and image display device |
| JP2010256771A (en) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Toppan Printing Co Ltd | Durable antireflection film, and method of manufacturing the same |
| US10470319B2 (en) | 2016-06-24 | 2019-11-05 | Samsung Display Co., Ltd. | Window and a display apparatus including the same |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007181994A (en) * | 2006-01-09 | 2007-07-19 | Mitsubishi Polyester Film Copp | Laminated polyester film |
| WO2007139268A1 (en) * | 2006-05-30 | 2007-12-06 | Cheil Industries Inc. | Antireflective hardmask composition |
| KR100826103B1 (en) * | 2006-05-30 | 2008-04-29 | 제일모직주식회사 | Hardmask composition having antireflective property |
| JP2008026493A (en) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Lintec Corp | Antireflection film |
| KR100833212B1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-05-28 | 제일모직주식회사 | Hardmask composition having antireflective property |
| JP2010054913A (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Protection film for image display device, polarizing plate, and image display device |
| JP2010256771A (en) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Toppan Printing Co Ltd | Durable antireflection film, and method of manufacturing the same |
| US10470319B2 (en) | 2016-06-24 | 2019-11-05 | Samsung Display Co., Ltd. | Window and a display apparatus including the same |
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