JPWO2005105866A1 - Photocurable composition and antireflection film using the same - Google Patents

Photocurable composition and antireflection film using the same Download PDF

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Abstract

光硬化性組成物は、一般式(1):(式中、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示し、R4〜R6は、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示し、R7は、水素または1価の有機基を示し、R8は、4価の芳香族基を示す。ただし、R7およびR8の少なくとも一方は、ビフェニル骨格を含む。)で示される少なくとも1種の化合物(A)を含む光硬化性材料、および1.60以上の屈折率を有するフィラー(B)を含有する。反射防止フィルムは、プラスチック基材の一方の面に、前記光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が1.20〜1.50の低屈折率層が順次積層されている。The photocurable composition has the general formula (1): (wherein R1 to R3 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and R4 to R6 each independently represents an unsubstituted or substituted straight chain. A chain or branched alkylene group, R7 represents hydrogen or a monovalent organic group, and R8 represents a tetravalent aromatic group, provided that at least one of R7 and R8 includes a biphenyl skeleton. .) And a filler (B) having a refractive index of 1.60 or more. The antireflection film is formed by sequentially laminating a high refractive index hard coat layer formed of the photocurable composition and a low refractive index layer having a refractive index of 1.20 to 1.50 on one surface of a plastic substrate. Has been.

Description

本発明は、高い屈折率と、鉛筆硬度および耐擦傷性等のハードコート性とを兼ね備えるとともに耐光性にも優れた光硬化性組成物に関する。  The present invention relates to a photocurable composition that has both a high refractive index and hard coat properties such as pencil hardness and scratch resistance and is excellent in light resistance.

また、本発明は、ワードプロセッサ、コンピュータ、テレビジョン等のディスプレイデバイス、例えばプラズマディスプレイデバイス、CRTディスプレイデバイス、液晶ディスプレイデバイス、プロジェクションディスプレイデバイス、ELディスプレイデバイスの表面を保護する目的で使用される反射防止フィルムに関する。  The present invention also relates to an antireflection film used for the purpose of protecting the surface of a display device such as a word processor, a computer, a television, such as a plasma display device, a CRT display device, a liquid crystal display device, a projection display device, or an EL display device. About.

近年、高屈折率プラスチック材料の光学デバイスへの進出は著しく、各種ディスプレイデバイス用の反射防止フィルムとして盛んに検討されている。  2. Description of the Related Art In recent years, high-refractive-index plastic materials have made significant progress in optical devices, and are actively studied as antireflection films for various display devices.

反射防止フィルムに用いられる高屈折率材料には、高い屈折率に加え、鉛筆硬度および耐擦傷性等のハードコート性、透明性、低比重、耐光性等が必要であり、これまで、さまざまな材料が検討されている。  In addition to high refractive index, high refractive index materials used for antireflection films need hard coat properties such as pencil hardness and scratch resistance, transparency, low specific gravity, light resistance, etc. Materials are being considered.

例えば、高い屈折率を示す材料として、2つの(メタ)アクリレートとビフェニル骨格を有する化合物が開示されている。これは、ビフェニル骨格由来の高い屈折率を示すが、分子内に(メタ)アクリレートを2つしか持たないため、光照射時に重合系に取り込まれる確率が低く、結果的に鉛筆硬度等のハードコート性が低下しやすいという欠点があり、また、光照射時に重合系に効率よく取り込まれた場合においても、光硬化時の体積収縮が激しく、基材への密着性が劣化するという欠点があった。  For example, a compound having two (meth) acrylates and a biphenyl skeleton is disclosed as a material exhibiting a high refractive index. This shows a high refractive index derived from the biphenyl skeleton, but since it has only two (meth) acrylates in the molecule, it has a low probability of being incorporated into the polymerization system during light irradiation, resulting in a hard coat such as pencil hardness. In addition, there is a drawback in that the volumetric shrinkage during photocuring is severe and the adhesion to the substrate deteriorates even when efficiently incorporated into the polymerization system during light irradiation. .

このような欠点を改善するために、分子内のビフェニル骨格と(メタ)アクリレート間の距離を長くする検討が行われたが、鉛筆硬度等のハードコート性は向上するものの、系内のビフェニル骨格の濃度が低下し、充分な屈折率が得られないという欠点があった。また、他の方法として、他の光重合性材料を併用した場合も同様に、系内のビフェニル骨格の濃度が低下し、結果として充分な屈折率が得られないという欠点があった。(特開2003−64025号公報、特開2003−64026号公報)
以上のように、従来の技術では、高い屈折率と、高い鉛筆硬度・耐擦傷性等のハードコート性と、耐光性を兼ね備えた光硬化性材料は得られていなかった。
In order to remedy such drawbacks, studies have been made to increase the distance between the biphenyl skeleton in the molecule and (meth) acrylate, but the hard coat properties such as pencil hardness are improved, but the biphenyl skeleton in the system is improved. There is a drawback in that the concentration of the toner decreases and a sufficient refractive index cannot be obtained. Further, as another method, when another photopolymerizable material is used in combination, the concentration of the biphenyl skeleton in the system is similarly lowered, and as a result, a sufficient refractive index cannot be obtained. (JP 2003-64025 A, JP 2003-64026 A)
As described above, according to the conventional technique, a photocurable material having a high refractive index, a hard coat property such as high pencil hardness and scratch resistance, and a light resistance has not been obtained.

本発明は、高い屈折率と、優れたハードコート性と、耐光性を兼ね備えた光硬化性組成物を提供することを目的とする。  An object of this invention is to provide the photocurable composition which has high refractive index, the outstanding hard-coat property, and light resistance.

また、本発明は、優れたハードコート性と耐光性を兼ね備え、良好な光学特性を有する反射防止フィルムを提供することを目的とする。  Another object of the present invention is to provide an antireflection film having excellent hard coat properties and light resistance and having good optical properties.

本発明の第1の側面によれば、下記一般式(1)で示される化合物(A)を含む光硬化性材料、および屈折率が1.60以上のフィラー(B)を包含する光硬化性組成物が提供される。  According to the 1st side surface of this invention, the photocurable material containing the photocurable material containing the compound (A) shown by following General formula (1), and the filler (B) whose refractive index is 1.60 or more. A composition is provided.

一般式(1):

Figure 2005105866
General formula (1):
Figure 2005105866

(式中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示し、R〜Rは、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示し、Rは、水素または1価の有機基を示し、Rは、4価の芳香族基を示す。ただし、RおよびRの少なくとも一方は、ビフェニル骨格を含む。)
本発明の光硬化性組成物において、一般式(1)中のRおよびRの双方が、ビフェニル骨格を含むことが好ましい。
(Wherein R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 4 to R 6 each independently represents an unsubstituted or substituted linear or branched alkylene group. R 7 represents hydrogen or a monovalent organic group, and R 8 represents a tetravalent aromatic group, provided that at least one of R 7 and R 8 includes a biphenyl skeleton.)
In the photocurable composition of the present invention, it is preferable that both R 7 and R 8 in the general formula (1) include a biphenyl skeleton.

また、本発明の光硬化性組成物において、フィラー(B)は、金属酸化物であることが好ましい。  Moreover, in the photocurable composition of the present invention, the filler (B) is preferably a metal oxide.

本発明の第2の側面によれば、プラスチック基材の一つの面に、本発明の第1の側面による光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が1.20〜1.50の低屈折率層が順次積層されている反射防止フィルムが提供される。  According to the second aspect of the present invention, a high refractive index hard coat layer formed from the photocurable composition according to the first aspect of the present invention and a refractive index of 1. An antireflection film in which low refractive index layers of 20 to 1.50 are sequentially laminated is provided.

本発明の反射防止フィルムにおいて、高屈折率ハードコート層の屈折率は1.60〜1.75の範囲内であることが好ましく、高屈折率ハードコート層の鉛筆硬度は2H以上であることが好ましい。  In the antireflection film of the present invention, the refractive index of the high refractive index hard coat layer is preferably in the range of 1.60 to 1.75, and the pencil hardness of the high refractive index hard coat layer is 2H or more. preferable.

まず、本発明の光硬化性組成物について説明する。  First, the photocurable composition of the present invention will be described.

本発明の光硬化性組成物は、上記一般式(1)で示される化合物(A)を含む光硬化性材料、および1.60以上の屈折率を有するフィラー(B)を包含する。  The photocurable composition of the present invention includes a photocurable material containing the compound (A) represented by the general formula (1) and a filler (B) having a refractive index of 1.60 or more.

上記一般式(1)で示される化合物(A)は、高い屈折率と優れたハードコート性を付与する成分であり、ハロゲン原子を含まない場合には黄変化等が極めて低く、耐光性に優れるものである。特に、上記一般式(1)で示される化合物(A)のうち、重合性不飽和二重結合基1つあたりの数平均分子量が300より大きいものは、優れたハードコート性が得られるため好ましい。  The compound (A) represented by the general formula (1) is a component that imparts a high refractive index and excellent hard coat properties, and when it does not contain a halogen atom, yellowing or the like is extremely low and light resistance is excellent. Is. In particular, among the compounds (A) represented by the general formula (1), those having a number average molecular weight of more than 300 per polymerizable unsaturated double bond group are preferable because excellent hard coat properties can be obtained. .

一般式(1)において、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基である。In General formula (1), R < 1 > -R < 3 > is a hydrogen atom or a methyl group each independently.

〜Rは、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示す。このアルキレン基が任意に有し得る置換基には、芳香族含有基(例えば、フェノキシ基)、ハロゲン原子、ヒドロキシル基が含まれる。アルキレン基は、1〜8個の炭素原子を有することが好ましい。Rは、通常、置換基として1つのヒドロキシル基を有し、このヒドロキシル基は、通常、Rが結合するアシル基の−O−基に対してβ位の炭素に結合している。R 4 to R 6 each independently represents an unsubstituted or substituted linear or branched alkylene group. The substituent which this alkylene group may optionally have includes an aromatic group (for example, phenoxy group), a halogen atom, and a hydroxyl group. The alkylene group preferably has 1 to 8 carbon atoms. R 6 usually has one hydroxyl group as a substituent, and this hydroxyl group is usually bonded to the β-position carbon relative to the —O— group of the acyl group to which R 6 is bonded.

は、水素または1価の有機基を表す。後者の有機基は、式:
−R−OC(O)−C(R)=CH
(ここで、RおよびRは、一般式(1)で定義した通り)によって表される基であるか、または式−CH−C(OH)CH−O−R71(ここで、R71は、置換または非置換のビフェニルである)で示される基であり得る。ビフェニルが任意に有し得る置換基の例には、ヒドロキシル基、シアノ基およびビニル基が含まれる。
R 7 represents hydrogen or a monovalent organic group. The latter organic group has the formula:
—R 6 —OC (O) —C (R 3 ) ═CH 2
(Wherein R 6 and R 3 are as defined in general formula (1)) or are represented by the formula —CH 2 —C (OH) CH 2 —O—R 71 (where , R 71 can be a substituted or unsubstituted biphenyl). Examples of the substituent that biphenyl may optionally include include a hydroxyl group, a cyano group, and a vinyl group.

は、4価の芳香族基である。芳香族基の例には、ベンゼン、ベンゾフェノン、ビフェニル、フェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジフェニルスルフィド、ペリレン、およびナフタレンが含まれる。R 8 is a tetravalent aromatic group. Examples of the aromatic group include benzene, benzophenone, biphenyl, phenyl ether, diphenyl sulfone, diphenyl sulfide, perylene, and naphthalene.

本発明において、RおよびRのいずれか一方はビフェニル基を含み、好ましくはRおよびRのそれぞれがビフェニル基を含む。In the present invention, one of R 7 and R 8 include a biphenyl group, preferably each of R 7 and R 8 comprises a biphenyl group.

一般式(1)で示される化合物(A)を製造するためには、まず、下記式(A):

Figure 2005105866
In order to produce the compound (A) represented by the general formula (1), first, the following formula (A):
Figure 2005105866

(ここで、Rは、一般式(1)で定義した通り)で示される芳香族テトラカルボン酸二無水物を下記式(B):
CH=C(R)COOROH
(ここで、RおよびRは、一般式(1)で定義した通り)で示される第1のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートおよび下記式(C):
CH=C(R)COOROH
(ここで、RおよびRは、一般式(1)で定義した通り)で示される第2のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートと反応させて式(D):

Figure 2005105866
(Wherein R 8 is as defined in the general formula (1)) an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (B):
CH 2 = C (R 1 ) COOR 4 OH
(Wherein R 1 and R 4 are as defined in the general formula (1)) and a first hydroxyl group-containing (meth) acrylate represented by the following formula (C):
CH 2 = C (R 2) COOR 5 OH
(Wherein R 2 and R 5 are as defined in the general formula (1)) and are reacted with a second hydroxyl group-containing (meth) acrylate represented by the formula (D):
Figure 2005105866

(ここで、R、R、R、RおよびRは、一般式(1)で定義した通り)で示される化合物を得ることができる。(Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 and R 8 are as defined in the general formula (1)) can be obtained.

式(A)で示される芳香族テトラカルボン酸二無水物の例には、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が含まれる。これら芳香族テトラカルボン酸二無水物のうち、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物は、ビフェニル骨格を有するものであり、ビフェニル骨格を化合物(A)の分子内に効率よく導入でき、さらに化合物(A)の屈折率を1.57以上にするため特に好ましい。  Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (A) include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, diphenyl Examples include sulfonetetracarboxylic dianhydride, diphenyl sulfide tetracarboxylic dianhydride, perylenetetracarboxylic dianhydride, and naphthalenetetracarboxylic dianhydride. Among these aromatic tetracarboxylic dianhydrides, biphenyltetracarboxylic dianhydride has a biphenyl skeleton, and the biphenyl skeleton can be efficiently introduced into the molecule of the compound (A). Further, the compound (A) Is particularly preferable because the refractive index is 1.57 or more.

第1および第2のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートは、同じであっても異なっていてもよい。そのようなヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの例には、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、および2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレートが含まれる。  The first and second hydroxyl group-containing (meth) acrylates may be the same or different. Examples of such hydroxyl group-containing (meth) acrylates include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate. 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate.

上記芳香族テトラカルボン酸二無水物と第1および第2のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートとの反応は、芳香族テトラカルボン酸二無水物の有する2つのカルボン酸無水物基と第1および第2のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートがそれぞれ有するヒドロキシル基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と第1および第2のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートとを、シクロヘキサノンのような有機溶媒中、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンのような触媒の存在下、50〜120℃の温度で反応させることができる。この場合、反応系に、メトキノン(methoquinone)のような重合禁止剤を添加することができる。  The reaction of the aromatic tetracarboxylic dianhydride with the first and second hydroxyl group-containing (meth) acrylates is carried out by reacting the two carboxylic anhydride groups of the aromatic tetracarboxylic dianhydride with the first and second carboxylic anhydride groups. The reaction with the hydroxyl groups each of the two hydroxyl group-containing (meth) acrylates is known per se. For example, the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the first and second hydroxyl group-containing (meth) acrylates are mixed in an organic solvent such as cyclohexanone with 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-. The reaction can be carried out at a temperature of 50 to 120 ° C. in the presence of a catalyst such as undecene. In this case, a polymerization inhibitor such as methoquinone can be added to the reaction system.

上記反応後、反応生成物である式(D)の化合物を含む反応混合物に、これを精製することなく、例えば、下記式(E):

Figure 2005105866
After the reaction, the reaction product containing the compound of the formula (D), which is a reaction product, can be purified without purification, for example, the following formula (E):
Figure 2005105866

(ここで、Rは、CH=C(R)−C(O)O−基(ここで、Rは、上記定義の通り)またはR71−O−基(ここで、R71は、上記定義の通り)であるエポキシ基含有化合物を添加し、反応させて一般式(1)で示される化合物を得ることができる。(Where R 0 is a CH 2 ═C (R 3 ) —C (O) O— group (where R 3 is as defined above) or an R 71 —O— group (where R 71 Can be obtained by adding an epoxy group-containing compound as defined above and reacting to obtain the compound represented by the general formula (1).

式(E)で示される化合物の例には、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートのようなエポキシ基含有(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテル、p−フェニルフェノールグリシジルエーテル、モノスチレン化フェノールグリシジルエーテル、4−シアノ−4−ヒドロキシビフェニルグリシジルエーテル、4,4’−ビフェノールモノグリシジルエーテル、4,4’−ビフェノールジグリシジルエーテルのような芳香族グリシジルエーテル化合物等が含まれる。  Examples of the compound represented by the formula (E) include glycidyl methacrylate, epoxy group-containing (meth) acrylate such as glycidyl acrylate, o-phenylphenol glycidyl ether, p-phenylphenol glycidyl ether, monostyrenated phenol glycidyl ether, Examples include aromatic glycidyl ether compounds such as 4-cyano-4-hydroxybiphenyl glycidyl ether, 4,4′-biphenol monoglycidyl ether, and 4,4′-biphenol diglycidyl ether.

式(D)で示される化合物と式(E)で示される化合物との反応は、式(D)で示される化合物の有するカルボキシル基と式(E)で示される化合物の有するエポキシ基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、この反応は、ジメチルベンジルアミン等のようなアミン触媒の存在下、50〜120℃の温度で行うことができる。  The reaction between the compound represented by formula (D) and the compound represented by formula (E) is a reaction between the carboxyl group possessed by the compound represented by formula (D) and the epoxy group possessed by the compound represented by formula (E). As such, it is well known in the art. For example, this reaction can be carried out at a temperature of 50 to 120 ° C. in the presence of an amine catalyst such as dimethylbenzylamine.

一般式(1)で示される化合物(A)を含む光硬化性組成物は、以下の方法で屈折率とハードコート性が適宜調整できる。  The refractive index and hard coat property of the photocurable composition containing the compound (A) represented by the general formula (1) can be appropriately adjusted by the following method.

<屈折率とハードコート性を調整する方法(1)>
予め、1分子中の重合性不飽和二重結合基、ビフェニル基の個数が異なる、複数の一般式(1)で示される化合物(A)を、別々に単体として調製しておき、後で任意の割合でこれらの単体を混合することで、屈折率およびハードコート性を適宜調整できる。この場合、単体の混合割合を容易に変えることができるため、目標となる屈折率およびハードコート性の値が、予め把握できていない場合において、目標物性に近づける検討を行いやすいという意味で、非常に有用である。
<Method for adjusting refractive index and hard coat property (1)>
A plurality of compounds (A) represented by the general formula (1) having different numbers of polymerizable unsaturated double bond groups and biphenyl groups in one molecule are separately prepared as a simple substance, and optionally later The refractive index and the hard coat property can be appropriately adjusted by mixing these simple substances at a ratio of In this case, since the mixing ratio of the simple substance can be easily changed, in the sense that it is easy to consider approaching the target physical properties when the target refractive index and hard coat property values are not grasped in advance. Useful for.

<屈折率とハードコート性を調整する方法(2)>
予め調製した式(D)の化合物に式(E)の化合物を反応させる際に、複数種の式(E)の化合物(例えば、RがCH=C(R)−C(O)O−基である式(E)の化合物と、RがR71−O−基である化合物)を、混合して添加し、反応させる。このとき、種の式(E)の化合物の混合割合を変えることで、屈折率とハードコート性を適宜調整できる。この場合、一段の反応で、複数種の化合物(A)の混合物が得られる。したがって、この方法は、目標となる屈折率およびハードコート性の値が、予め大まかに把握できている場合において、上記調整方法(1)に比べ、作成工程が短縮できるという意味で、非常に有用である。
<Method for adjusting refractive index and hard coat property (2)>
When the compound of the formula (E) is reacted with the compound of the formula (D) prepared in advance, a plurality of compounds of the formula (E) (for example, R 0 is CH 2 ═C (R 3 ) —C (O) A compound of the formula (E) that is an O-group and a compound in which R 0 is an R 71 -O- group) are mixed and added to react. At this time, the refractive index and the hard coat property can be appropriately adjusted by changing the mixing ratio of the compound of the formula (E). In this case, a mixture of a plurality of types of compounds (A) is obtained in a single reaction. Therefore, this method is very useful in the sense that the preparation process can be shortened compared to the adjustment method (1) when the target refractive index and hard coat property values can be roughly grasped in advance. It is.

また、一般式(1)で示される化合物(A)において、Rが水素原子である化合物は、式(D)で示される化合物のカルボキシル基のモル数よりも少ないモル数の式(E)の化合物を反応させることにより得ることができる。In addition, in the compound (A) represented by the general formula (1), the compound in which R 7 is a hydrogen atom is a compound of the formula (E) having a number of moles smaller than the number of moles of the carboxyl group of the compound represented by the formula (D). It can obtain by making this compound react.

なお、本発明において、光硬化性材料が、複数種の化合物(A)の混合物から構成される場合、RおよびRの少なくとも一方がビフェニル骨格を含む化合物は、該混合物の合計量の95モル%以上を占めることが好ましい。同様に、一般式(1)で示される化合物(A)において、Rが水素原子である化合物は、該混合物の合計量の5モル%以下を占めることが好ましい。In the present invention, the photocurable material, if composed of a mixture of a plurality of types of the compound (A), a compound in which at least one contains a biphenyl skeleton of R 7 and R 8, 95 of the total amount of the mixture It is preferable to occupy at least mol%. Similarly, in the compound (A) represented by the general formula (1), the compound in which R 7 is a hydrogen atom preferably occupies 5 mol% or less of the total amount of the mixture.

カルボキシル基を有する一般式(1)の化合物は、アルカリ現像性を有するので、光硬化後に未硬化部分をアルカリ現像してハードコート層を形成する場合に好適に用いることができる。また、このカルボキシル基を中和して水性化させることで、水性の光硬化性高屈折率ハードコート材料として使用することもできる。また、このカルボキシル基を有する化合物は、一般的な熱硬化剤、たとえば、エポキシ系、イソシアネート系、ビニルエーテル系等と混合し、熱硬化させることにより、光硬化性兼熱硬化性高屈折率ハードコート材料として使用することもできる。  Since the compound of the general formula (1) having a carboxyl group has alkali developability, it can be suitably used when a hard coat layer is formed by alkali development of an uncured portion after photocuring. Moreover, it can also be used as an aqueous | water-based photocurable high refractive index hard-coat material by neutralizing this carboxyl group and making it water-based. In addition, the compound having a carboxyl group is mixed with a general thermosetting agent, for example, an epoxy type, an isocyanate type, a vinyl ether type, and the like, and is cured by heat to form a photocurable / thermosetting high refractive index hard coat. It can also be used as a material.

屈折率が1.60以上のフィラー(B)は、ハードコート層の表面抵抗値を下げたり、屈折率を上げる働きをする成分である。フィラーの屈折率が1.60より低いと、一般式(1)で示される化合物(A)よりも屈折率が低くなってしまい、高屈折率化の働きが無くなってしまう。  The filler (B) having a refractive index of 1.60 or more is a component that functions to lower the surface resistance value of the hard coat layer or increase the refractive index. When the refractive index of the filler is lower than 1.60, the refractive index is lower than that of the compound (A) represented by the general formula (1), and the function of increasing the refractive index is lost.

フィラー(B)としては、例えば、金属酸化物、金属フッ化物、これらの混合物、複合化合物が挙げられるが、化学的安定性に優れ、導電性が高いため、金属酸化物が好適に用いられる。  Examples of the filler (B) include metal oxides, metal fluorides, mixtures thereof, and composite compounds, but metal oxides are preferably used because of excellent chemical stability and high conductivity.

金属酸化物としては、TiO(屈折率:2.3〜2.7)、Y(屈折率:1.9)、La(屈折率:2.0)、ZrO(屈折率:2.1)、Al(屈折率:1.6)、Nb(屈折率:1.9〜2.1)、In(屈折率:1.9〜2.1)、Sn(屈折率:1.9〜2.1)、In−Sn複合酸化物(ITO、屈折率:1.9〜2.1)、ZnO(屈折率:2.0〜2.1)、Sb(屈折率:1.8〜2.1)、CaO(屈折率:1.75〜1.90)、BaO(屈折率:1.80〜1.21)、Sb−Sn複合酸化物(屈折率:1.70〜1.90)、Sb−Zn複合酸化物(屈折率:1.70〜1.90)、Zn−Al複合酸化物(屈折率:1.80〜1.21)、P−Sn複合酸化物(屈折率:1.70〜1.90)等が挙げられる。また、金属酸化物以外のフィラーとしては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム等が挙げられる。これらのフィラーは、1種を単独で、または2種以上の混合物として用いられる。Examples of the metal oxide include TiO 2 (refractive index: 2.3 to 2.7), Y 2 O 3 (refractive index: 1.9), La 2 O 3 (refractive index: 2.0), ZrO 2 ( Refractive index: 2.1), Al 2 O 3 (refractive index: 1.6), Nb 2 O 3 (refractive index: 1.9 to 2.1), In 2 O 3 (refractive index: 1.9 to 2.1), Sn 2 O 3 (refractive index: 1.9 to 2.1), In—Sn composite oxide (ITO, refractive index: 1.9 to 2.1), ZnO (refractive index: 2. 0 to 2.1), Sb 2 O 5 (refractive index: 1.8 to 2.1), CaO (refractive index: 1.75 to 1.90), BaO (refractive index: 1.80 to 1.21). ), Sb—Sn composite oxide (refractive index: 1.70 to 1.90), Sb—Zn composite oxide (refractive index: 1.70 to 1.90), Zn—Al composite oxide (refractive index: 1.80 to 1.21) P-Sn complex oxide (refractive index: 1.70 to 1.90), and the like. Examples of fillers other than metal oxides include calcium carbonate, magnesium carbonate, and aluminum hydroxide. These fillers are used alone or as a mixture of two or more.

本発明の光硬化性組成物中の化合物(A)の配合量は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、6〜70重量%の範囲内であることが好ましく、6〜49重量%の範囲内であることがより好ましい。化合物(A)の配合量が上記範囲外の場合には、光硬化性組成物のハードコート性が低くなる。  The compounding amount of the compound (A) in the photocurable composition of the present invention is preferably in the range of 6 to 70% by weight based on the total solid content of the photocurable composition, and is 6 to 49. More preferably, it is in the range of% by weight. When the compounding quantity of a compound (A) is outside the said range, the hard coat property of a photocurable composition will become low.

また、フィラー(B)の配合量は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、30〜80重量%の範囲内であることが好ましく、50〜80重量%の範囲内であることがより好ましい。フィラー(B)の配合量が30重量%未満の場合には、高屈折率ハードコート層の屈折率が低くなり、80重量%を超える場合には、高屈折率ハードコート層の耐擦傷性が低くなる。  Moreover, it is preferable that the compounding quantity of a filler (B) exists in the range of 30-80 weight% on the basis of the total amount of solid content of a photocurable composition, and exists in the range of 50-80 weight%. Is more preferable. When the blending amount of the filler (B) is less than 30% by weight, the refractive index of the high refractive index hard coat layer is low, and when it exceeds 80% by weight, the scratch resistance of the high refractive index hard coat layer is low. Lower.

本発明の光硬化性組成物を紫外線により硬化させる場合は、該組成物に光重合開始剤を加える。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤はなくても良い。  When the photocurable composition of the present invention is cured by ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is added to the composition. In addition, when making it harden | cure by an electron beam, there may not be an initiator.

光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。  The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has a function capable of initiating vinyl polymerization by photoexcitation. For example, a monocarbonyl compound, a dicarbonyl compound, an acetophenone compound, a benzoin ether compound, an acylphosphine oxide compound, an aminocarbonyl A compound etc. can be used.

具体的にはモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4−メチル−ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチル−o−ベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、4−(4−メチルフェニルチオ)フェニル−エネタノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、4−(1,3−アクリロイル−1,4,7,10,13−ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミン塩酸塩、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシエチル)メタアンモニウム蓚酸塩、2−/4−イソ−プロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9Hチオキサントン−2−イロキシ−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−3−メチルナフト(1,2−d)チアゾリン等が挙げられる。  Specific examples of the monocarbonyl compound include benzophenone, 4-methyl-benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4- (4-methylphenylthio) phenyl- Enetanone, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4- (1,3-acryloyl-1,4,7,10,13-pentaoxotridecyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′- Tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 4-benzoyl-N, N, N-trimethyl-1-propanamine hydrochloride, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N-2- (1-oxo-2-) Propenyloxyethyl) methammonium succinate, 2- / 4-iso-propylthioxanthone 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-hydroxy-3- (3,4-dimethyl-9-oxo-9H thioxanthone-2-yloxy-N, N , N-trimethyl-1-propanamine hydrochloride, benzoylmethylene-3-methylnaphtho (1,2-d) thiazoline, and the like.

ジカルボニル化合物としては、1,7,7−トリメチル−ビシクロ[2,1,1]ヘプタン−2,3−ジオン、ベンザイル、2−エチルアントラキノン、9,10−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、4−フェニルベンザイル等が挙げられる。  Examples of the dicarbonyl compound include 1,7,7-trimethyl-bicyclo [2,1,1] heptane-2,3-dione, benzyl, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, and methyl-α-oxobenzene. Examples include acetate and 4-phenylbenzyl.

アセトフェノン化合物としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−スチリルプロパン−1−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2,2−ジエトキシ−1,2ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、1−フェニル−1,2プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、3,6−ビス(2−メチル−2−モルホリノ−プロパノニル)−9−ブチルカルバゾール等が挙げられる。  Examples of the acetophenone compound include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- ( 4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-styrylpropan-1-one polymer, Diethoxyacetophenone, dibutoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,2-diethoxy-1, diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino- -(4-morpholinophenyl) butan-1-one, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 3,6-bis (2-methyl-2-morpholino-propanonyl)- Examples thereof include 9-butylcarbazole.

ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル、等が挙げられる。  Examples of the benzoin ether compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin normal butyl ether.

アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−n−プロピルフェニル−ジ(2,6−ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。  Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-n-propylphenyl-di (2,6-dichlorobenzoyl) phosphine oxide, and the like.

アミノカルボニル化合物としては、メチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート2−nブトキシエチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4’−ビス−4−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ビス−4−ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5’−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。  Examples of aminocarbonyl compounds include methyl-4- (dimethylamino) benzoate, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate 2-nbutoxyethyl-4- (dimethylamino) benzoate, isoamyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2 -(Dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4'-bis-4-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-bis-4-diethylaminobenzophenone, 2,5'-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, etc. Is mentioned.

光重合開始剤は上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。  The photopolymerization initiator is not limited to the above compound, and any photopolymerization initiator may be used as long as it has the ability to initiate polymerization by ultraviolet rays. These can be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤の使用量に特に制限はないが、被硬化物の乾燥重量100重量部に対して1〜20重量部の範囲内で使用することが好ましい。  Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a photoinitiator, It is preferable to use within the range of 1-20 weight part with respect to 100 weight part of dry weight of to-be-cured material.

また、増感剤として公知の有機アミン等を加えることもできる。  Moreover, a well-known organic amine etc. can also be added as a sensitizer.

さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかにカチオン重合用の開始剤も併用することができる。  Furthermore, an initiator for cationic polymerization can be used in combination with the initiator for radical polymerization.

本発明の光硬化性組成物には、前述の一般式(1)で示される化合物(A)以外に、その他のバインダー樹脂、光硬化性成分を加えても良い。  In addition to the compound (A) represented by the above general formula (1), other binder resins and photocurable components may be added to the photocurable composition of the present invention.

バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で添加しても良いし、2種類以上の複数の樹脂を添加しても良い。バインダー樹脂は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、20重量%以下の範囲内で配合することが好ましい。  Examples of the binder resin include polyurethane resin, polyurea resin, polyurethane urea resin, polyester resin, polyether resin, polycarbonate resin, epoxy resin, amino resin, styrene resin, acrylic resin, melamine resin, polyamide resin, phenol resin, and vinyl resin. Etc. These resins may be added alone, or two or more kinds of resins may be added. The binder resin is preferably blended within a range of 20% by weight or less based on the total amount of the solid content of the photocurable composition.

光硬化性成分としては、例えば、(メタ)アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物等の重合性不飽和二重結合基を有する化合物を用いることができる。これらの重合性不飽和二重結合基を有する化合物は、さらに水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基等の官能基を有していても良い。化合物(A)以外の光硬化性成分は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、49重量%以下の範囲内、特に6〜49重量%の範囲内で配合することが好ましい。  As a photocurable component, for example, a compound having a polymerizable unsaturated double bond group such as a (meth) acrylic compound, a fatty acid vinyl compound, an alkyl vinyl ether compound, an α-olefin compound, a vinyl compound, or an ethynyl compound is used. Can do. These compounds having a polymerizable unsaturated double bond group may further have a functional group such as a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an amide group, or a silanol group. The photocurable component other than the compound (A) is preferably blended within a range of 49% by weight or less, particularly within a range of 6 to 49% by weight, based on the total amount of the solid content of the photocurable composition.

(メタ)アクリル系化合物としては、ベンジル(メタ)アクリレート、アルキル系(メタ)アクリレート、アルキレングリコール系(メタ)アクリレート、カルボキシル基と重合性不飽和二重結合基とを有する化合物、水酸基を有する(メタ)アクリル系化合物、窒素含有(メタ)アクリル系化合物等がある。また、単官能、多官能の化合物を適宜使用することができる。塗膜硬度の点からは、多官能のものが好ましい。  Examples of the (meth) acrylic compound include benzyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, alkylene glycol (meth) acrylate, a compound having a carboxyl group and a polymerizable unsaturated double bond group, and a hydroxyl group ( Examples include meth) acrylic compounds and nitrogen-containing (meth) acrylic compounds. Moreover, a monofunctional and polyfunctional compound can be used suitably. From the viewpoint of coating film hardness, polyfunctional ones are preferred.

単官能の(メタ)アクリル系化合物を具体的に例示すると、アルキル系(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ノナデシル(メタ)アクリレート、イコシル(メタ)アクリレート、ヘンイコシル(メタ)アクリレート、ドコシル(メタ)アクリレート等の炭素数1〜22のアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。極性の調節を目的とする場合には、炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートを用いることが好ましい。また、レベリング性の調節等を目的とする場合には、炭素数6以上のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。  Specific examples of monofunctional (meth) acrylic compounds include alkyl (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and pentyl. (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (Meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl Meth) acrylate, nonadecyl (meth) acrylate, eicosyl (meth) acrylate, heneicosyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylates having 1 to 22 carbon atoms such as docosyl (meth) acrylate. For the purpose of adjusting the polarity, it is preferable to use an alkyl group-containing acrylate having 2 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, or a corresponding methacrylate. Moreover, when aiming at adjustment of leveling property etc., it is preferable to use the alkyl (meth) acrylate which has a C6 or more alkyl group.

また、アルキレングリコール系(メタ)アクリレートとしては、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート等の末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、n−ブトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、n−ペンタキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、n−ブトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、n−ペンタキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等の末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート等の末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートが挙げられる。  Moreover, as alkylene glycol type (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexaethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono ( It has a hydroxyl group at the terminal such as (meth) acrylate, dipropylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol mono (meth) acrylate, tetrapropylene glycol mono (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (meth) acrylate, and polyoxy Monoacrylate having an alkylene chain or the corresponding monomethacrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, methoxydiethyle Glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, ethoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, propoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, n-butoxytetraethylene glycol (meta ) Acrylate, n-pentoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, tripropylene glycol (meth) acrylate, tetrapropylene glycol (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (meth) acrylate, methoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, ethoxy Tetrapropylene glycol (meth) acrylate, propoxytetrapropylene glycol ( ) Acrylate, n-butoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, n-pentoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolytetramethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol ( (Meth) acrylate, ethoxypolyethyleneglycol (meth) acrylate, etc., having an alkoxy group at the terminal and having a polyoxyalkylene chain or a corresponding monomethacrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethylene glycol (meth) acrylate, Phenoxytriethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate Polyoxyalkylene-based acrylates having a phenoxy or aryloxy group at the terminal, such as phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, and phenoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, or corresponding methacrylates Can be mentioned.

さらに、カルボキシル基及び重合性不飽和二重結合基を有する化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−(メタ)アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−(メタ)アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−(メタ)アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等が挙げられる。  Furthermore, examples of the compound having a carboxyl group and a polymerizable unsaturated double bond group include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, alkyl or alkenyl monoesters thereof, and phthalic acid β- (meth) acryloxy. Examples include ethyl monoester, isophthalic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, succinic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, and cinnamic acid.

水酸基含有(メタ)アクリル系化合物としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシビニルベンゼン、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。  Examples of hydroxyl group-containing (meth) acrylic compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, and 4-hydroxyvinylbenzene. , 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and the like.

窒素含有(メタ)アクリル系化合物としては、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル−(メタ)アクリルアミド、N−エトキシメチル−(メタ)アクリルアミド、N−プロポキシメチル−(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル−(メタ)アクリルアミド、N−ペントキシメチル−(メタ)アクリルアミド等のモノアルキロール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ(メチロール)アクリルアミド、N−メチロール−N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ(メチルール)アクリルアミド、N−エトキシメチル−N−メトキシメチルメタアクリルアミド、N,N−ジ(エトキシメチル)アクリルアミド、N−エトキシメチル−N−プロポキシメチルメタアクリルアミド、N,N−ジ(プロポキシメチル)アクリルアミド、N−ブトキシメチル−N−(プロポキシメチル)メタアクリルアミド、N,N−ジ(ブトキシメチル)アクリルアミド、N−ブトキシメチル−N−(メトキシメチル)メタアクリルアミド、N,N−ジ(ペントキシメチル)アクリルアミド、N−メトキシメチル−N−(ペントキシメチル)メタアクリルアミド等のジアルキロール(メタ)アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、メチルエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてCl、Br、I等のハロゲンイオンまたはQSO3−(Q:炭素数1〜12のアルキル基)を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の4級アンモニウム塩等がある。Nitrogen-containing (meth) acrylic compounds include (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methoxymethyl- (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl- (meth) acrylamide, N-propoxymethyl- ( Monoalkylol (meth) acrylamide such as (meth) acrylamide, N-butoxymethyl- (meth) acrylamide, N-pentoxymethyl- (meth) acrylamide, N, N-di (methylol) acrylamide, N-methylol-N- Methoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-di (methylol) acrylamide, N-ethoxymethyl-N-methoxymethyl methacrylamide, N, N-di (ethoxymethyl) acrylamide, N-ethoxymethyl-N-propoxymethyl meta Acrylic net N, N-di (propoxymethyl) acrylamide, N-butoxymethyl-N- (propoxymethyl) methacrylamide, N, N-di (butoxymethyl) acrylamide, N-butoxymethyl-N- (methoxymethyl) methacrylamide N, N-di (pentoxymethyl) acrylamide, N-methoxymethyl-N- (pentoxymethyl) methacrylamide and other acrylamide-based unsaturated compounds such as dialkyl (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, Unsaturated compounds having a dialkylamino group such as diethylaminoethyl (meth) acrylate, methylethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminostyrene, diethylaminostyrene and the like, such as Cl , Br and I And quaternary ammonium salts of dialkylamino group-containing unsaturated compounds having a halogen ion or QSO3- (Q: an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms).

さらに、その他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル(メタ)アクリレート、パーフルオロエチルメチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロブチルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロイソノニルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロノニルエチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロデシルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルアミル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル(メタ)アクリレート等の炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル(メタ)アクリレート類を挙げることができる。  Furthermore, as other unsaturated compounds, perfluoromethylmethyl (meth) acrylate, perfluoroethylmethyl (meth) acrylate, 2-perfluorobutylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorohexylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorooctylethyl (meth) acrylate, 2-perfluoroisononylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorononylethyl (meth) acrylate, 2-perfluorodecylethyl (meth) acrylate, perfluoropropylpropyl ( Perfluoro having 1 to 20 carbon atoms such as (meth) acrylate, perfluorooctylpropyl (meth) acrylate, perfluorooctyl amyl (meth) acrylate, perfluorooctyl undecyl (meth) acrylate Perfluoroalkyl (meth) acrylates having an alkyl group can be exemplified.

また、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルアクリレート等のグリシジル基含有アクリレートが挙げられる。  In addition, perfluoroalkyl such as perfluorobutylethylene, perfluorohexylethylene, perfluorooctylethylene, perfluorodecylethylene, and perfluoroalkyl group-containing vinyl monomers such as alkylene, vinyltrichlorosilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) Examples thereof include alkoxysilyl group-containing vinyl compounds such as silane, vinyltriethoxysilane, and γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and derivatives thereof, and glycidyl group-containing acrylates such as glycidyl acrylate and 3,4-epoxycyclohexyl acrylate.

脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルチミン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。  Examples of the fatty acid vinyl compound include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl propionate, vinyl hexanoate, vinyl caprylate, vinyl laurate, vinyl palmitate, and vinyl stearate.

アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。  Examples of the alkyl vinyl ether compound include butyl vinyl ether and ethyl vinyl ether.

α−オレフィン化合物としては、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン等が挙げられる。  Examples of the α-olefin compound include 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene and the like.

ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α−メチルスチレン、2−メチルスチレン、クロロスチレン等が挙げられる。  Examples of the vinyl compound include allyl compounds such as allyl acetate, allyl alcohol, allylbenzene, and allyl cyanide, vinyl cyanide, vinylcyclohexane, vinyl methyl ketone, styrene, α-methylstyrene, 2-methylstyrene, chlorostyrene, and the like. It is done.

エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等が挙げられる。  Examples of the ethynyl compound include acetylene, ethynylbenzene, ethynyltoluene, 1-ethynyl-1-cyclohexanol and the like.

これらは、単独で、若しくは2種類以上を組み合わせて用いることができる。  These can be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の光硬化性組成物には、溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤等を加えても良い。  Further, the photocurable composition of the present invention includes a solvent, a dye, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a leveling agent, a moisturizer, a viscosity modifier, an antiseptic, an antibacterial agent, an antiblocking agent, an ultraviolet absorber, an infrared ray. An absorbent or the like may be added.

溶剤を加える場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理を行えば良い。溶剤としては、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピレングリコールアセテート、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、テトラヒドロフラン、メチルピロリドン等が挙げられる。  When adding a solvent, the curing process may be performed after the solvent is volatilized. As the solvent, various known organic solvents can be used. Examples of the organic solvent include cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl propylene glycol acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, tetrahydrofuran, methyl pyrrolidone, and the like.

次に、本発明の反射防止フィルムについて説明する。  Next, the antireflection film of the present invention will be described.

本発明の反射防止フィルムは、プラスチック基材の一方の面に、本発明の光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が1.20〜1.50の低屈折率層が順次積層されているものであり、高屈折率ハードコート層は、本発明の光硬化性組成物をプラスチック基材上に膜厚が0.1〜30μmになるように塗工後、硬化処理することにより形成することができる。  The antireflection film of the present invention has a high refractive index hard coat layer formed from the photocurable composition of the present invention on one surface of a plastic substrate and a low refractive index of 1.20 to 1.50. The refractive index layer is sequentially laminated, and the high refractive index hard coat layer is coated on the plastic substrate so that the film thickness is 0.1 to 30 μm on the plastic substrate, It can be formed by curing treatment.

塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット等の各種コーティング方法を用いることができる。  As a coating method, a known method can be used. For example, a method using a rod or a wire bar, or various coating methods such as a micro gravure, a gravure, a die, a curtain, a lip, or a slot can be used.

また、硬化処理は、公知の技術を用いて、例えば、紫外線、電子線、波長400〜500nmの可視光線等の活性エネルギー線を照射することにより行うことができる。紫外線および波長400〜500nmの可視光線の線源(光源)には、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放射銃等を使用することができる。  Moreover, a hardening process can be performed by irradiating active energy rays, such as an ultraviolet-ray, an electron beam, and visible light with a wavelength of 400-500 nm, using a well-known technique. For example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used as a source (light source) of ultraviolet rays and visible light having a wavelength of 400 to 500 nm. As the electron beam source, a thermionic emission gun, an electrolytic emission gun, or the like can be used.

照射する活性エネルギー線量は、5〜2000mJの範囲内であることが好ましく、さらには工程上管理しやすい点から50〜1000mJの範囲内であることが好ましい。  The active energy dose to be irradiated is preferably in the range of 5 to 2000 mJ, and more preferably in the range of 50 to 1000 mJ from the viewpoint of easy management in the process.

また、これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱処理を併用することができる。  In addition, these active energy ray irradiations can be used in combination with heat treatment by infrared rays, far infrared rays, hot air, high frequency heating or the like.

高屈折率ハードコート層は、プラスチック基材に光硬化性組成物を塗工し、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行って形成しても良いし、塗工し硬化処理を行った後に自然または強制乾燥させてもよいが、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行う方がより好ましい。  The high refractive index hard coat layer may be formed by applying a photo-curable composition to a plastic substrate and performing natural or forced drying followed by a curing treatment, or after coating and curing treatment. Although natural or forced drying may be performed, it is more preferable to perform the curing treatment after natural or forced drying.

特に、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行う方がより好ましい。  In particular, when curing with an electron beam, it is more preferable to perform the curing treatment after natural or forced drying in order to prevent the inhibition of curing by water or the decrease in strength of the coating film due to the remaining organic solvent.

また、硬化処理のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。  Moreover, the timing of a hardening process may be simultaneous with coating, and may be after coating.

プラスチック基材としては、ポリエステル系、アクリル系、トリアセテート系等の基材を用いることができるが、強度および屈折率の高さから、ポリエステル系の基材を用いることが好ましい。ポリエステル系の基材としては、ポリエチレンテレフタレート(PET、屈折率:1.60〜1.67)、ポリエチレンナフタレート(PEN、屈折率:1.68〜1.72)等が挙げられる。  As the plastic substrate, a polyester-based, acrylic-based, triacetate-based or the like can be used, but it is preferable to use a polyester-based substrate from the viewpoint of strength and refractive index. Examples of the polyester base material include polyethylene terephthalate (PET, refractive index: 1.60 to 1.67), polyethylene naphthalate (PEN, refractive index: 1.68 to 1.72), and the like.

また、プラスチック基材には、コロナ処理、プラズマ処理等の前処理を施しても良い。前処理を行うことにより、ハードコート層のプラスチック基材に対する密着性が向上する。  The plastic substrate may be subjected to pretreatment such as corona treatment or plasma treatment. By performing the pretreatment, the adhesion of the hard coat layer to the plastic substrate is improved.

高屈折率ハードコート層の屈折率は、基材との屈折率の差が0.01未満の範囲内であると、干渉縞の発生を抑えることができ好ましい。例えば、プラスチック基材としてポリエステル系基材を用いる場合には、高屈折率ハードコート層の屈折率が1.60〜1.75の範囲内であると、干渉縞の発生を抑えることができるため好ましい。  The refractive index of the high refractive index hard coat layer is preferably such that the difference in refractive index from the substrate is in the range of less than 0.01, since the occurrence of interference fringes can be suppressed. For example, when a polyester-based substrate is used as the plastic substrate, the occurrence of interference fringes can be suppressed when the refractive index of the high refractive index hard coat layer is in the range of 1.60 to 1.75. preferable.

また、高屈折率ハードコート層の鉛筆硬度は、プラスチック基材を保護するため2H以上であることが好ましい。  The pencil hardness of the high refractive index hard coat layer is preferably 2H or more in order to protect the plastic substrate.

高屈折率ハードコート層の上に積層される低屈折率層には、屈折率の低いMgF(屈折率:約1.4)、SiO(屈折率:約1.2〜1.5)、LiF(屈折率:約1.4)、3NaF・AlF(屈折率:約1.4)、NaAlF(屈折率:約1.33)等を用いることができる。また、これらMgF、SiO等の微粒子を紫外線および電子線硬化型樹脂や珪素アルコキシド系のマトリックスに分散させたものを用いることができるが、これに限定されるものではない。The low refractive index layer laminated on the high refractive index hard coat layer includes a low refractive index MgF 2 (refractive index: about 1.4), SiO 2 (refractive index: about 1.2 to 1.5). LiF (refractive index: about 1.4), 3NaF.AlF 3 (refractive index: about 1.4), Na 3 AlF 6 (refractive index: about 1.33), and the like can be used. In addition, although fine particles such as MgF 2 and SiO 2 dispersed in ultraviolet and electron beam curable resins or silicon alkoxide matrices can be used, the present invention is not limited to this.

低屈折率層は、前記低屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、低屈折微粒子を含むマトリックスを、膜厚が0.01〜1μmになるように塗工し、必要に応じて、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行うことで形成できる。  When the low refractive index layer is formed of the matrix containing the low refractive fine particles, the low refractive index fine particles are coated so that the film thickness is 0.01 to 1 μm, and if necessary, a drying treatment, It can be formed by performing ultraviolet irradiation treatment or electron beam irradiation treatment.

塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット等の各種コーティング方法を用いることができる。  As a coating method, a known method can be used. For example, a method using a rod or a wire bar, or various coating methods such as a micro gravure, a gravure, a die, a curtain, a lip, or a slot can be used.

また、低屈折率層は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等を用いて形成してもよい。  Further, the low refractive index layer may be formed using a vacuum deposition method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an ion plating method, an electroplating method, or the like.

本発明の反射防止フィルムには、低屈折率層1層だけでなく、屈折率の異なる層を複数積層してもよい。例えば、高屈折率ハードコート層上に、低屈折率層、この低屈折率層より屈折率の高い高屈折率層、さらに低屈折率層を設けた構成等が挙げられるが、これに限る物ではない。  In the antireflection film of the present invention, not only one low refractive index layer but also a plurality of layers having different refractive indexes may be laminated. Examples include, but are not limited to, a structure in which a low refractive index layer, a high refractive index layer having a higher refractive index than the low refractive index layer, and a low refractive index layer are provided on the high refractive index hard coat layer. is not.

また、本発明の反射防止フィルムには、さらに他の機能層を設けても良い。機能層としては、例えば、汚染防止層、帯電防止層、電磁波シールド層、ネオン光補正層、赤外線カット層等が挙げられる。これらの機能層は、公知の材料を用い、公知の方法で形成することができる。また、機能層は、一つの層で複数の機能を有していても良い。  Moreover, you may provide another functional layer in the antireflection film of this invention. Examples of the functional layer include a contamination prevention layer, an antistatic layer, an electromagnetic wave shielding layer, a neon light correction layer, and an infrared cut layer. These functional layers can be formed by a known method using a known material. In addition, the functional layer may have a plurality of functions in one layer.

汚染防止層は、本発明の反射防止フィルムをディスプレイ用途に用いる場合、表面側となる反射防止層上に設けることが好ましい。  When the antireflection film of the present invention is used for display applications, the antifouling layer is preferably provided on the antireflection layer on the surface side.

また、本発明の反射防止フィルムをプラズマディスプレイ用途に用いる場合、電磁波シールド層、ネオン光補正層、赤外線カット層のいずれか一つ、または全部を設けることが好ましく、どこに設けても構わないが、視認性等を考慮すると、基材の反射防止層を設けた側とは反対側に設けることが好ましい。  In addition, when the antireflection film of the present invention is used for plasma display applications, it is preferable to provide one or all of an electromagnetic wave shielding layer, a neon light correction layer, and an infrared cut layer, and may be provided anywhere. When visibility etc. are considered, it is preferable to provide in the opposite side to the side which provided the antireflection layer of the base material.

以下に、製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の製造例、実施例において、特に断らない限り「部」は「重量部」を意味する。  Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to production examples and examples, but the present invention is not limited thereto. In the following production examples and examples, “parts” means “parts by weight” unless otherwise specified.

<製造例1:光硬化性化合物(a)の製造>
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 525部、
β−ヒドロキシエチルアクリレート 475部、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン 10部、
メトキノン 0.25部、
シクロヘキサノン 111部
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、90℃で反応させた。反応中、合計889部のシクロヘキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780−1cmおよび1850cm−1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、215mgKOH/gであった。
<Production Example 1: Production of photocurable compound (a)>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, gas inlet tube, and dropping funnel,
525 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride,
475 parts β-hydroxyethyl acrylate,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene 10 parts,
0.25 parts of methoquinone,
111 parts of cyclohexanone was charged, the temperature was gradually raised while stirring, and the reaction was carried out at 90 ° C. in a dry air atmosphere. During the reaction, stirring was continued while a total of 889 parts of cyclohexanone was appropriately diluted according to the viscosity. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 −1 cm and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured by a conventional method and found to be 215 mgKOH / g.

続いて、この溶液中に、
グリシジルメタクリレート 164部、
o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(三光株式会社製「OPP−G」)607部、
ジメチルベンジルアミン 13部
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、90度で反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が10mgKOH/g以下になったところで冷却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物(a)の最終的な酸価は5mgKOH/gであり、1分子中のビフェニル骨格の個数は平均1.70、重合性不飽和二重結合基1つあたりの数平均分子量は264、1分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均3.30であった。また、得られた反応生成物におけるビフェニル基とメタクリル基とのモル比は、0.7:0.3であった。
Subsequently, in this solution,
164 parts of glycidyl methacrylate,
607 parts of o-phenylphenol glycidyl ether (“OPP-G” manufactured by Sanko Co., Ltd.)
13 parts of dimethylbenzylamine was added, the temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 90 degrees in the presence of dry air. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically. When the acid value became 10 mgKOH / g or less, the reaction product was cooled to stop the reaction. The final acid value of the obtained photocurable compound (a) is 5 mgKOH / g, the average number of biphenyl skeletons in one molecule is 1.70, and the number per polymerizable unsaturated double bond group. The average molecular weight was 264, and the average number of polymerizable unsaturated double bond groups in one molecule was 3.30. Moreover, the molar ratio of the biphenyl group and the methacryl group in the obtained reaction product was 0.7: 0.3.

<製造例2:光硬化性化合物(b)の製造>
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 525部、
β−ヒドロキシエチルアクリレート 475部、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン 10部、
メトキノン 0.25部、
シクロヘキサノン 111部
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、90度で反応させた。反応中、合計889部のシクロヘキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続した。反応物のIR測定で酸無水基のピーク、すなわち、1780cm−1および1850cm−1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、215mgKOH/gであった。
<Production Example 2: Production of photocurable compound (b)>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, gas inlet tube, and dropping funnel,
525 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride,
475 parts β-hydroxyethyl acrylate,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene 10 parts,
0.25 parts of methoquinone,
111 parts of cyclohexanone was charged, the temperature was gradually raised while stirring, and the reaction was performed at 90 degrees in a dry air atmosphere. During the reaction, stirring was continued while a total of 889 parts of cyclohexanone was appropriately diluted according to the viscosity. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured by a conventional method and found to be 215 mgKOH / g.

続いて、この溶液中に
グリシジルメタクリレート 382部、
o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(三光株式会社製「OPP−G」)260部、
ジメチルベンジルアミン 13部
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、90度で反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が10mgKOH/g以下になったところで冷却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物(b)の最終的な酸価は6mgKOH/gであり、1分子中のビフェニル骨格の個数は平均1.30、重合性不飽和二重結合基1つあたりの数平均分子量は226、1分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均3.70であった。また、得られた反応生成物におけるビフェニル基とメタクリル基とのモル比は、0.3:0.7であった。
Subsequently, 382 parts of glycidyl methacrylate in this solution,
260 parts of o-phenylphenol glycidyl ether (“OPP-G” manufactured by Sanko Co., Ltd.)
13 parts of dimethylbenzylamine was added, the temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 90 degrees in the presence of dry air. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically. When the acid value became 10 mgKOH / g or less, the reaction product was cooled to stop the reaction. The final acid value of the obtained photocurable compound (b) is 6 mgKOH / g, the number of biphenyl skeletons in one molecule is 1.30 on average, and the number per polymerizable unsaturated double bond group The average molecular weight was 226, and the average number of polymerizable unsaturated double bond groups in one molecule was 3.70. Moreover, the molar ratio of the biphenyl group and the methacryl group in the obtained reaction product was 0.3: 0.7.

<製造例3:光硬化性化合物(c)の製造>
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 525部、
β−ヒドロキシエチルアクリレート 475部、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0」−7−ウンデセン 10部、
メトキノン 0.25部、
シクロヘキサノン 111部
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、90度で反応させた。反応中、合計889部のシクロヘキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続した。反応物のIR測定で酸無水基のピーク、すなわち、1780cm−1および1850cm−1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、215mgKOH/gであった。
<Production Example 3: Production of photocurable compound (c)>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, gas inlet tube, and dropping funnel,
525 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride,
475 parts β-hydroxyethyl acrylate,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene 10 parts,
0.25 parts of methoquinone,
111 parts of cyclohexanone was charged, the temperature was gradually raised while stirring, and the reaction was performed at 90 degrees in a dry air atmosphere. During the reaction, stirring was continued while a total of 889 parts of cyclohexanone was appropriately diluted according to the viscosity. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured by a conventional method and found to be 215 mgKOH / g.

続いて、この溶液中に
グリシジルメタクリレート 463部、
o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(三光株式会社製「OPP−G」)130部、
ジメチルベンジルアミン 13部
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、90度で反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が10mgKOH/g以下になったところで冷却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物(c)の最終的な酸価は4mgKOH/gであり、1分子中のビフェニル骨格の個数は平均1.15、重合性不飽和二重結合基1つあたりの数平均分子量は203、1分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均3.85であった。また、得られた反応生成物におけるビフェニル基とメタクリル基とのモル比は、0.15:0.85であった。
Subsequently, 463 parts of glycidyl methacrylate in this solution,
130 parts of o-phenylphenol glycidyl ether (“OPP-G” manufactured by Sanko Co., Ltd.)
13 parts of dimethylbenzylamine was added, the temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 90 degrees in the presence of dry air. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically. When the acid value became 10 mgKOH / g or less, the reaction product was cooled to stop the reaction. The final acid value of the obtained photocurable compound (c) is 4 mgKOH / g, the number of biphenyl skeletons in one molecule is 1.15 on average, and the number per polymerizable unsaturated double bond group The average molecular weight was 203, and the average number of polymerizable unsaturated double bond groups in one molecule was 3.85. Moreover, the molar ratio of the biphenyl group and the methacryl group in the obtained reaction product was 0.15: 0.85.

<製造例4:光硬化性化合物(d)の製造>
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 525部、
β−ヒドロキシエチルアクリレート 475部、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン 10部、
メトキノン 0.25部、および
シクロヘキサノン 111部
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、90度で反応させた。反応中、合計889部のシクロヘキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続した。反応物のIR測定で酸無水基のピーク、すなわち、1780cm−1および1850cm−1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、215mgKOH/gであった。
<Production Example 4: Production of photocurable compound (d)>
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, gas inlet tube, and dropping funnel,
525 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride,
475 parts β-hydroxyethyl acrylate,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene 10 parts,
Metoquinone (0.25 part) and cyclohexanone (111 parts) were charged, gradually heated while stirring, and reacted at 90 degrees in a dry air atmosphere. During the reaction, stirring was continued while a total of 889 parts of cyclohexanone was appropriately diluted according to the viscosity. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured by a conventional method and found to be 215 mgKOH / g.

続いて、この溶液中に
4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル
(日本化成株式会社製) 767部、および
ジメチルベンジルアミン 14部
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、90度で反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が10mgKOH/g以下になったところで冷却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物(d)の最終的な酸価は5mgKOH/gであり、1分子中のビフェニル骨格の個数は平均1.00、重合性不飽和二重結合基1つあたりの数平均分子量は246、1分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均4.00であった。
Subsequently, 767 parts of 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) and 14 parts of dimethylbenzylamine are added to this solution, and the temperature is gradually raised, and the reaction is carried out at 90 degrees in the presence of dry air. It was. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically. When the acid value became 10 mgKOH / g or less, the reaction product was cooled to stop the reaction. The final acid value of the obtained photocurable compound (d) is 5 mgKOH / g, the number of biphenyl skeletons in one molecule is 1.00 on average, and the number per polymerizable unsaturated double bond group The average molecular weight was 246, and the average number of polymerizable unsaturated double bond groups in one molecule was 4.00.

実施例1〜5、比較例1〜3
製造例1〜5で調製した光硬化性化合物(a)〜(d)を用いて、表1に示す組成の光硬化性組成物を調製し、50μm厚のPETフィルムにバーコーダーで膜厚が4μmになるように塗工した後、メタルハライドランプで400mJの紫外線を照射し、高屈折率ハードコート層を形成した。得られた高屈折率ハードコート層について、下記の方法で、耐光性、屈折率、耐擦傷性、鉛筆硬度および表面抵抗値を評価した。その結果を表1に示す。
Examples 1-5, Comparative Examples 1-3
Using the photocurable compounds (a) to (d) prepared in Production Examples 1 to 5, a photocurable composition having the composition shown in Table 1 was prepared, and the film thickness of the PET film having a thickness of 50 μm was measured with a bar coder. After coating to 4 μm, 400 mJ ultraviolet rays were irradiated with a metal halide lamp to form a high refractive index hard coat layer. The obtained high refractive index hard coat layer was evaluated for light resistance, refractive index, scratch resistance, pencil hardness and surface resistance by the following methods. The results are shown in Table 1.

また、高屈折率ハードコート層上に、ワイヤーバーを用いて、下記の低屈折率層用塗液を硬化塗膜厚さが約0.1μmになるよう塗工後、メタルハライドランプで400mJの紫外線を照射して、低屈折率層を積層し、反射防止フィルムを作成した。得られた反射防止フィルムについて、下記の方法で、干渉縞の有無を評価した。その結果を表1に示す。

Figure 2005105866
In addition, the following low refractive index layer coating solution is applied on the high refractive index hard coat layer using a wire bar so that the cured coating thickness is about 0.1 μm, and then a 400 mJ ultraviolet ray is applied with a metal halide lamp. , And a low refractive index layer was laminated to produce an antireflection film. About the obtained anti-reflective film, the following method evaluated the presence or absence of an interference fringe. The results are shown in Table 1.
Figure 2005105866

表1において、
ベンジルメタクリレート:共栄社化学株式会社製「ライトエステルBZ」
フェノールEO変性アクリレート:東亞合成株式会社製「アロニックスM102」
ヒドロキシフェノキシプロピルアクリレート:日本化薬株式会社製「カヤラッドR128H」
MIBK:メチルイソブチルケトン
五酸化アンチモン分散体:五酸化アンチモンのMIBK分散体、固形分30重量%
光重合開始剤:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製「イルガキュア184」
<低屈折率層用塗液>
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(日本化薬株式会社製「PET−30」)10部をイソプロピルアルコール200部に溶解し、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製「イルガキュア184」)0.8部を加え、溶解するまで撹拌した。シリカゾル(屈折率1.3、エタノール溶媒、固形分15重量%)44部を撹拌し、ここに、先に調製したペンタエリスリトールテトラアクリレート溶液全量を加え、均一になるまで撹拌し、低屈折率層用塗液を得た。
In Table 1,
Benzyl methacrylate: “Light Ester BZ” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Phenol EO-modified acrylate: “Aronix M102” manufactured by Toagosei Co., Ltd.
Hydroxyphenoxypropyl acrylate: “Kayarad R128H” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
MIBK: methyl isobutyl ketone antimony pentoxide dispersion: antimony pentoxide MIBK dispersion, solid content 30% by weight
Photopolymerization initiator: “Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
<Coating liquid for low refractive index layer>
10 parts of pentaerythritol tetraacrylate (“PET-30” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) are dissolved in 200 parts of isopropyl alcohol, and 0.8 parts of photopolymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) And stirred until dissolved. Stir 44 parts of silica sol (refractive index 1.3, ethanol solvent, solid content 15% by weight), add the total amount of the pentaerythritol tetraacrylate solution prepared above, stir until uniform, low refractive index layer A coating solution was obtained.

(1)耐光性
光連続照射時の経時での黄変は、用途展開上、非常に好ましくない。そこで、光連続照射時の黄変性を確認した。
(1) Light resistance Yellowing over time during continuous light irradiation is very undesirable for application development. Therefore, yellowing during continuous light irradiation was confirmed.

まず、耐光性試験機(光源:キセノンランプ、照度:100W/cm、ブラックパネル温度:60℃、60%RH)にて塗工物を、24時間曝露した。その後、白色紙上に塗工物を置き、測色機(ミノルタCR−300)を用いて着色を測定した。測色値はLab*にて表示し、黄変性の目安をb値にて判断した。b値の値が小さいほど、黄変の程度が小さく、耐光性が良好であることをあらわす。実用的な要求物性を考慮して、b値が
3.5未満のものを○、
3.5以上のものを×
と判定した。
First, the coated material was exposed for 24 hours with a light resistance tester (light source: xenon lamp, illuminance: 100 W / cm 2 , black panel temperature: 60 ° C., 60% RH). Thereafter, the coated material was placed on white paper, and coloring was measured using a colorimeter (Minolta CR-300). The colorimetric value was displayed as Lab *, and the standard of yellowing was judged by the b value. The smaller the b value, the smaller the degree of yellowing and the better the light resistance. In consideration of practical required physical properties, those having a b value of less than 3.5
X 3.5 or more
It was determined.

(2)屈折率
アッベ屈折計(アタゴ株式会社)を用いて、塗工物の屈折率を測定した。
(2) Refractive index The refractive index of the coated material was measured using an Abbe refractometer (Atago Co., Ltd.).

(3)耐擦傷性
塗工物を、がく震型耐摩擦試験機にセットし、スチールウールのNo.0000を用いて、荷重250gで10回、がく震させた。取り出した塗工物について、キズの付き具合を以下の5段階で目視で判断した。数値が大きいほど、耐擦傷性が良好であることを示す。
(3) Scratch resistance The coated material was set on a seismic vibration test machine, and steel wool No. Using 0000, it was shaken 10 times with a load of 250 g. About the taken-out coating material, the cracking degree was visually judged in the following five steps. The larger the value, the better the scratch resistance.

5…キズが全く無い
4…わずかにキズが付いている
3…キズは付いているが、基材は見えていない
2…キズが付き、一部塗工物が剥がれている
1…塗工物が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態
(4)鉛筆硬度
鉛筆硬度試験機(HEIDON社製Scratching Tester HEIDON−14)を用い、鉛筆の芯の堅さを種々変えて、荷重500gにて5回試験をした。5回中、1回も傷が付かない、もしくは1回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その塗工物の鉛筆硬度とした。実用的な要求物性を考慮して、鉛筆硬度が
2H以上のものを○
2Hより低いものを×
と判定した。
5 ... No scratches 4 ... Slightly scratched 3 ... Scratches are attached, but the base material is not visible 2 ... Scratches are present and some of the coated material is peeled off 1 ... Coated (4) Pencil hardness Using a pencil hardness tester (Scratching Tester HEIDON-14 manufactured by HEIDON), variously changing the hardness of the pencil core, and 5 times at a load of 500 g Tested. The hardness of the core when the scratch was not scratched or scratched only once out of 5 times was defined as the pencil hardness of the coated material. In consideration of practical required physical properties, a pencil with a hardness of 2H or more ○
X lower than 2H
It was determined.

(5)干渉縞
反射防止フィルムの高屈折率ハードコート層が形成されていない面をサンドペーパーで荒らし、裏面の反射防止処理を行った。得られたサンプルを、20W蛍光灯の直近20cmの距離から目視で観察し、干渉縞の有無を評価した。
(5) Interference fringes The surface of the antireflection film on which the high refractive index hard coat layer was not formed was roughened with sandpaper, and the back surface was subjected to antireflection treatment. The obtained sample was visually observed from the distance of 20 cm closest to the 20 W fluorescent lamp, and the presence or absence of interference fringes was evaluated.

表1の評価結果から明らかなように、本発明の光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層は、1.64以上の高い屈折率を有すると共に、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐光性に優れていた。この結果は、本発明の光硬化性組成物が、従来検討されてきた材料では達し得なかった、高い屈折率、鉛筆硬度および耐擦傷性等のハードコート性、耐光性の全てを兼ね備えていることを示している。また、表1に示す結果からわかるように、光硬化性化合物にフィラーを配合しないと、屈折率が要求水準に達しない。また、光硬化性化合物を含まず、微粒子と他の樹脂からなる組成物では、塗膜が脆くなり、耐擦傷性、鉛筆硬度が要求水準に達しない。  As is clear from the evaluation results in Table 1, the high refractive index hard coat layer formed from the photocurable composition of the present invention has a high refractive index of 1.64 or more, pencil hardness, scratch resistance, Excellent light resistance. As a result, the photocurable composition of the present invention has all of high refractive index, hard hardness such as pencil hardness and scratch resistance, and light resistance, which could not be achieved by materials that have been studied conventionally. It is shown that. As can be seen from the results shown in Table 1, the refractive index does not reach the required level unless a filler is added to the photocurable compound. Moreover, in the composition which does not contain a photocurable compound and consists of microparticles | fine-particles and another resin, a coating film becomes brittle and abrasion resistance and pencil hardness do not reach a required level.

以上述べたように、本発明により、高い屈折率と、優れたハードコート性と、耐光性の、全てを兼ね備えた光硬化性組成物を提供することができる。また、本発明により、優れたハードコート性と耐光性を兼ね備え、良好な光学特性を有する反射防止フィルムを提供することができる。  As described above, according to the present invention, a photocurable composition having all of high refractive index, excellent hard coat properties, and light resistance can be provided. Moreover, according to the present invention, an antireflection film having excellent hard coat properties and light resistance and having good optical properties can be provided.

Claims (12)

一般式(1):
Figure 2005105866
(式中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示し、R〜Rは、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示し、Rは、水素または1価の有機基を示し、Rは、4価の芳香族基を示す。ただし、RおよびRの少なくとも一方は、ビフェニル骨格を含む。)で示される少なくとも1種の化合物(A)を含む光硬化性材料、および1.60以上の屈折率を有するフィラー(B)を含む光硬化性組成物。
General formula (1):
Figure 2005105866
(Wherein R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 4 to R 6 each independently represents an unsubstituted or substituted linear or branched alkylene group. R 7 represents hydrogen or a monovalent organic group, R 8 represents a tetravalent aromatic group, provided that at least one of R 7 and R 8 includes a biphenyl skeleton. A photocurable composition comprising a photocurable material containing at least one compound (A) and a filler (B) having a refractive index of 1.60 or more.
およびRの双方が、ビフェニル骨格を含む請求項1記載の組成物。The composition of claim 1, wherein both R 7 and R 8 comprise a biphenyl skeleton. 〜Rが、アルキレン部位が1〜8個の炭素原子を有する非置換もしくは置換アルキレン基である請求項1に記載の組成物。The composition according to claim 1, wherein R 4 to R 6 are unsubstituted or substituted alkylene groups having an alkylene moiety having 1 to 8 carbon atoms. が、β−ヒドロキシアルキレン基である請求項3に記載の組成物。The composition according to claim 3, wherein R 6 is a β-hydroxyalkylene group. が、式:
−R−OC(O)−C(R)=CH
(ここで、RおよびRは、一般式(1)で定義した通り)によって表される基であるか、または式−CH−C(OH)CH−O−R71(ここで、R71は、置換または非置換のビフェニルである)で示される基である請求項3に記載の組成物。
R 7 has the formula:
—R 6 —OC (O) —C (R 3 ) ═CH 2
(Wherein R 6 and R 3 are as defined in general formula (1)) or are represented by the formula —CH 2 —C (OH) CH 2 —O—R 71 (where , R 71 is a substituted or unsubstituted biphenyl).
が、式:−CH−C(OH)CH−O−R71(ここで、R71は、置換または非置換のビフェニルである)で示される基である請求項5に記載の組成物。6. The group according to claim 5, wherein R 7 is a group represented by the formula: —CH 2 —C (OH) CH 2 —O—R 71, wherein R 71 is substituted or unsubstituted biphenyl. Composition. が、ベンゼン、ベンゾフェノン、ビフェニル、フェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジフェニルスルフィド、ペリレン、またはナフタレンである請求項5に記載の組成物。The composition according to claim 5, wherein R 8 is benzene, benzophenone, biphenyl, phenyl ether, diphenyl sulfone, diphenyl sulfide, perylene, or naphthalene. が、ビフェニルである請求項7に記載の組成物。 8. A composition according to claim 7, wherein R8 is biphenyl. フィラー(B)が、金属酸化物である請求項1〜8のいずれか1項に記載の光硬化性組成物。Filler (B) is a metal oxide, The photocurable composition of any one of Claims 1-8. プラスチック基材の一つ面に、請求項1に記載の光硬化性組成物から形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が1.20〜1.50の低屈折率層が順次積層されている反射防止フィルム。A high refractive index hard coat layer formed from the photocurable composition according to claim 1 and a low refractive index layer having a refractive index of 1.20 to 1.50 are sequentially laminated on one surface of a plastic substrate. Antireflection film. 高屈折率ハードコート層の屈折率が1.60〜1.75の範囲内である請求項10に記載の反射防止フィルム。The antireflection film according to claim 10, wherein the refractive index of the high refractive index hard coat layer is in the range of 1.60 to 1.75. 高屈折率ハードコート層の鉛筆硬度が2H以上である請求項10に記載の反射防止フィルム。The antireflection film according to claim 10, wherein the pencil hardness of the high refractive index hard coat layer is 2H or more.
JP2006512843A 2004-04-28 2005-04-28 Photocurable composition and antireflection film using the same Pending JPWO2005105866A1 (en)

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