JP2013020111A - Optical film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層を備える、光学用フィルムに関する。 The present invention relates to an optical film provided with an ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer.
近年の高度情報化社会において、電子ディスプレイ等の光エレクトロニクス機器はテレビジョンやパーソナルコンピュータのモニター用等として著しい進歩を遂げ、広く普及している。中でもプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称す）は電子ディスプレイパネルの大型化や薄型化に伴って注目を浴びている。 In an advanced information society in recent years, optoelectronic devices such as electronic displays have made remarkable progress and are widely used for monitors of televisions and personal computers. Among them, plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs) are attracting attention as electronic display panels become larger and thinner.
これら電子ディスプレイパネルの表面には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の透明機材フィルムを基材とする光学用フィルムが貼着されているが、ＰＥＴやＴＡＣは絶縁特性が高い。そのため帯電しやすく、塵埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。そこで、透明基材フィルムの上に積層されているハードコート層に、帯電防止剤を添加することが従来から行われている。例えば特許文献１では、光学用フィルムの透明性、耐久性の点から、帯電防止剤として４級アンモニウム塩系帯電防止剤が提案されている。 An optical film based on a transparent material film such as polyethylene terephthalate (PET) or triacetylcellulose (TAC) is attached to the surface of these electronic display panels, but PET and TAC have high insulating properties. . Therefore, it is easy to be charged, and dirt due to adhesion of dust or the like is generated, and there is a problem that a failure occurs due to charging not only in use but also in a display manufacturing process. Therefore, it has been conventionally practiced to add an antistatic agent to the hard coat layer laminated on the transparent substrate film. For example, Patent Document 1 proposes a quaternary ammonium salt antistatic agent as an antistatic agent from the viewpoint of transparency and durability of an optical film.
また、電子ディスプレイは屋外や太陽光の当たる屋内で使用される機会が多い。その場合、光学用フィルムに使用されている透明基材フィルムやハードコート層は長時間太陽光（特に紫外線）に曝露することで劣化するため、長期の使用では透明基材フィルムとハードコート層との密着性が低下することが問題であった。そこで特許文献２では、トリアジン系紫外線吸収剤をハードコート層に添加することで、紫外線による劣化を防いでいる。 In addition, electronic displays are often used outdoors or indoors in sunlight. In that case, since the transparent base film and hard coat layer used in the optical film are deteriorated by exposure to sunlight (particularly ultraviolet rays) for a long time, the transparent base film and the hard coat layer It was a problem that the adhesion of the resin deteriorated. Therefore, in Patent Document 2, a triazine-based ultraviolet absorber is added to the hard coat layer to prevent deterioration due to ultraviolet rays.
特許文献１では、ハードコート層に帯電防止剤を添加していることで、帯電による塵埃付着の問題を解消している。しかし、太陽光（特に紫外線）による劣化の問題は解決されていない。 In patent document 1, the problem of dust adhesion due to electrification is solved by adding an antistatic agent to the hard coat layer. However, the problem of deterioration due to sunlight (particularly ultraviolet rays) has not been solved.
一方、特許文献２は紫外線劣化の問題を改善するものであるが、従来のトリアジン系紫外線吸収剤では、性能的に必ずしも満足し得るものではなかった。したがって、十分な耐光性を得ようとすると、紫外線吸収剤の添加量が大きくなり、ブリードするという問題点があった。また、紫外線吸収剤の総量を確保するために、ハードコート層の膜厚を過剰に厚くすると、紫外線硬化型樹脂の硬化収縮が大きくなるため、ハードコート層を備える光学用フィルムがカールして、加工性が悪化する問題がある。 On the other hand, Patent Document 2 improves the problem of ultraviolet deterioration, but the conventional triazine-based ultraviolet absorbers are not always satisfactory in terms of performance. Therefore, if sufficient light resistance is to be obtained, there is a problem that the amount of ultraviolet absorber added increases and bleeding occurs. Also, if the film thickness of the hard coat layer is excessively increased in order to ensure the total amount of the UV absorber, the curing shrinkage of the UV curable resin increases, so the optical film provided with the hard coat layer curls, There is a problem that workability deteriorates.
そこで、本発明は上記課題を解決するものであって、その目的とするところは、４級アンモニウム塩系帯電防止剤を含有する帯電防止性ハードコート層に、短波長側にエネルギーの高い吸収波長を持つ特定構造の紫外線吸収剤を添加することで、その添加量の低減と薄肉化を実現でき、以ってカール性の悪化を避けつつ十分な耐光性を有する光学フィルムを提供することにある。 Accordingly, the present invention solves the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to provide an antistatic hard coat layer containing a quaternary ammonium salt antistatic agent and a high absorption wavelength on the short wavelength side. It is to provide an optical film having sufficient light resistance while avoiding deterioration of curling property by adding an ultraviolet absorber having a specific structure having a reduction in the amount of addition and thinning. .
すなわち、本発明の光学用フィルムは、次のものである。
（１）透明基材フィルムの一方面に紫外線吸収性帯電防止ハードコート層が形成されている、紫外線吸収性及び帯電防止性を有する光学用フィルムであって、前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部と、（Ｂ）下記一般式（１）で表される４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）と、１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｂ−２）とをラジカル共重合して得られる４級アンモニウム塩系共重合体１〜２０質量部と、（Ｃ）光の波長３００〜３５０ｎｍに吸収を持つ下記一般式（２）で表される紫外線吸収剤１〜２０質量部と、（Ｄ）光の波長２２０〜４００ｎｍに吸収を持つ光重合開始剤０．１〜１０質量部と、を含む紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を紫外線硬化させた、厚みが０．５〜１０μｍの層であって、前記（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体は、該４級アンモニウム塩系共重合体１００質量部中、前記４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）を３０〜７０質量部、前記１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｂ−２）を７０〜３０質量部含むことを特徴とする、光学用フィルム。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＺ（ＣＨ２）ｋＮ＋（Ｒ２）３・Ｘ− ・・・（１）
（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ３、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数が１〜４の炭化水素基、Ｚは酸素原子またはＮＨ基、ｋは１〜１０の整数、Ｘ−は１価のアニオンを表す。）
（２）前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層が、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部に対してさらに（Ｅ）金属酸化物を１０〜１８０質量部含むことを特徴とする、（１）に記載の光学用フィルム。
（３）前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の上に、該紫外線吸収性帯電防止ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層が設けられていることを特徴とする、（１）または（２）に記載の光学用フィルム。
（４）前記透明基材フィルムの前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層が形成された側とは反対の他方面に、近赤外線吸収性を有する近赤外線吸収性粘着層が設けられていることを特徴とする、（１）ないし（３）のいずれかに記載の光学用フィルム。
なお、本発明において数値範囲を示す「○○〜××」とは、その下限（○○）及び上限（××）の数値を含む意味である。したがって、正確に表せば「○○以上××以下」となる。
That is, the optical film of the present invention is as follows.
(1) An ultraviolet absorbing and antistatic optical film having an ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer formed on one surface of a transparent substrate film, the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer (A) 100 parts by mass of an ultraviolet curable resin, (B) a compound (b-1) having a quaternary ammonium base represented by the following general formula (1), and a compound having one ethylenically unsaturated group 1 to 20 parts by mass of a quaternary ammonium salt copolymer obtained by radical copolymerization of (b-2), and (C) represented by the following general formula (2) having absorption at a light wavelength of 300 to 350 nm. UV absorbing antistatic hard coat layer coating liquid comprising 1 to 20 parts by weight of the ultraviolet absorber to be prepared and (D) 0.1 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator having absorption at a light wavelength of 220 to 400 nm UV cured A layer having a thickness of 0.5 to 10 μm, wherein the (B) quaternary ammonium salt copolymer is a compound having the quaternary ammonium base in 100 parts by mass of the quaternary ammonium salt copolymer ( An optical film comprising 30 to 70 parts by mass of b-1) and 70 to 30 parts by mass of the compound (b-2) having one ethylenically unsaturated group.
CH 2 = C (R 1 ) COZ (CH 2 ) k N + (R 2 ) 3 · X − (1)
(In the formula, R 1 is H or CH 3 , R 2 is independently a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, Z is an oxygen atom or NH group, k is an integer of 1 to 10, and X − is 1) Represents a valent anion.)
(2) The ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer further comprises (E) 10 to 180 parts by mass of a metal oxide with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin (1) An optical film as described in 1.
(3) A low refractive index layer having a refractive index lower than that of the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer is provided on the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer, (1) or The optical film as described in (2).
(4) A near-infrared-absorbing adhesive layer having near-infrared absorptivity is provided on the other surface of the transparent substrate film opposite to the side on which the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer is formed. The optical film according to any one of (1) to (3), which is characterized in that
In the present invention, “OO to XX” indicating a numerical range means that the numerical values of the lower limit (OO) and the upper limit (XX) are included. Therefore, if it is expressed accurately, it will be “XX or more and XX or less”.
本発明によれば、帯電防止ハードコート層に紫外線吸収剤を添加することで耐光性（紫外線吸収性）を付与でき、太陽光に暴露される環境においても、透明基材フィルムとハードコート層との密着性が低下することなく長期使用に耐え得る光学用フィルムとすることができる。 According to the present invention, light resistance (ultraviolet absorption) can be imparted by adding an ultraviolet absorber to the antistatic hard coat layer, and even in an environment exposed to sunlight, the transparent base film and the hard coat layer It can be set as the optical film which can endure long-term use, without the adhesiveness of this falling.
そのうえで、紫外線吸収剤として、上記一般式（２）で表される特定構造のヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤を添加している。当該紫外線吸収剤は短波長側（紫外線領域）にエネルギーの高い吸収波長を持つので、少量の添加でも効率よく紫外線を吸収できる。したがって、紫外線吸収剤の添加量を低減でき、ハードコート層の膜厚も小さくできる。これにより、カール性等の悪化を防止しつつ、良好な耐光性を有する光学用フィルムを得ることができる。 In addition, a hydroxyphenyl triazine-based ultraviolet absorber having a specific structure represented by the general formula (2) is added as an ultraviolet absorber. Since the ultraviolet absorber has a high energy absorption wavelength on the short wavelength side (ultraviolet region), it can efficiently absorb ultraviolet rays even when added in a small amount. Therefore, the addition amount of the ultraviolet absorber can be reduced, and the film thickness of the hard coat layer can be reduced. Thereby, it is possible to obtain an optical film having good light resistance while preventing deterioration of curling properties and the like.
本発明の光学用フィルムは、テレビやモニター等の電子画像表示装置（電子ディスプレイ）におけるＰＤＰに適用されるものであって、透明基材フィルムの一方の面に、少なくとも紫外線吸収性帯電防止ハードコート層が形成されている。 The optical film of the present invention is applied to a PDP in an electronic image display device (electronic display) such as a television or a monitor, and has at least an ultraviolet absorbing antistatic hard coat on one surface of the transparent substrate film. A layer is formed.
＜透明基材フィルム＞
光学用フィルムに用いられる透明基材フィルムは、透明性を有している限り特に制限されない。そのような透明基材フィルムを形成する材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリアリレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、またはポリエーテルスルフォンなどが挙げられる。これらのうち、ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性の点で好ましい。
<Transparent substrate film>
The transparent substrate film used for the optical film is not particularly limited as long as it has transparency. Examples of the material for forming such a transparent substrate film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyarylate, triacetyl cellulose (TAC), and polyether sulfone. Among these, a polyester film, particularly a polyethylene terephthalate film is preferable in terms of ease of molding.
透明基材フィルムの厚みも特に限定されないが、一般的には２５〜４００μｍであり、好ましくは５０〜２００μｍである。透明基材フィルムの厚みが２５μｍより薄い場合や４００μｍより厚い場合には、光学用フィルムの製造時及び使用時における取り扱い性が低下してしまう。なお、透明基材フィルムには、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤としては、例えば紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤などが挙げられる。 Although the thickness of a transparent base film is not specifically limited, Generally, it is 25-400 micrometers, Preferably it is 50-200 micrometers. When the thickness of the transparent substrate film is thinner than 25 μm or thicker than 400 μm, the handleability during the production and use of the optical film is lowered. In addition, various additives may contain in the transparent base film. Examples of such additives include ultraviolet absorbers, antistatic agents, stabilizers, plasticizers, lubricants, flame retardants, and the like.
＜紫外線吸収性帯電防止ハードコート層＞
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂と、一般式（１）で表される４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）、及び１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｂ−２）を必須の構成成分とする（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体と、（Ｃ）一般式（２）で表されるヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤と、（Ｄ）光重合開始剤とを含む紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を、紫外線硬化させた層である。紫外線吸収性帯電防止ハードコート層は、前記各成分を含む紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液に紫外線を照射して硬化することにより形成される。
<Ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer>
The ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer has (A) an ultraviolet curable resin, a compound (b-1) having a quaternary ammonium base represented by the general formula (1), and one ethylenically unsaturated group. (B) a quaternary ammonium salt copolymer having the compound (b-2) as an essential component, (C) a hydroxyphenyltriazine-based ultraviolet absorber represented by the general formula (2), and (D ) A layer obtained by UV-curing a UV-absorbing antistatic hard coat layer coating solution containing a photopolymerization initiator. The ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer is formed by irradiating an ultraviolet-absorbing anti-static hard coat layer coating solution containing the above components with ultraviolet rays and curing.
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の厚みは、少なくとも０．５〜１０μｍとし、好ましくは１〜６μｍとする。紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の厚みが０．５μｍ未満では、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層中への紫外線吸収剤の添加量にも限界があるので、結果として光学フィルムにおける紫外線吸収剤の量が相対的に少なくなり、十分な紫外線吸収効果を得られない。一方、１０μｍを超えると、硬化時のカールを低減することができなくなる。 The thickness of the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer is at least 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 6 μm. If the thickness of the UV-absorbing antistatic hard coat layer is less than 0.5 μm, there is a limit to the amount of UV-absorbing agent added to the UV-absorbing antistatic hard coat layer. The amount is relatively small, and a sufficient ultraviolet absorption effect cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 10 μm, curling during curing cannot be reduced.
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の屈折率は、１．４５〜１．７０程度であればよい。なお、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層には、該紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の屈折率調整剤として、必要に応じて（Ｅ）金属酸化物が含有されていてもよい。 The refractive index of the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer may be about 1.45 to 1.70. In addition, the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer may contain (E) a metal oxide as necessary as a refractive index adjuster of the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer.
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層を透明基材フィルム上に設ける方法としては、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液をウェットコート法により塗布する方法であれば特に制限されず、例えばグラビアコート法、スピンコート法、ダイコート法等の従来公知の塗工方法を採用することができる。 The method for providing the UV-absorbing antistatic hard coat layer on the transparent substrate film is not particularly limited as long as the UV-absorbing antistatic hard coat layer coating solution is applied by a wet coating method. For example, a gravure coating method Conventionally known coating methods such as spin coating and die coating can be employed.
＜（Ａ）紫外線硬化型樹脂＞
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層を形成する紫外線硬化型樹脂としては、この種の光学用フィルムにおいて従来から一般的に使用されている、紫外線を照射することにより硬化反応を生じる公知の樹脂であればその種類は特に制限されない。そのような樹脂として、例えば単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂などである。なお、本明細書において（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの双方を含む総称を意味する。また、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル系、及び（メタ）アクリロイルの記載も同様である。
<(A) UV curable resin>
The UV-curable resin for forming the UV-absorbing antistatic hard coat layer may be a known resin that is conventionally used in this type of optical film and that generates a curing reaction when irradiated with UV rays. The type is not particularly limited. Examples of such a resin include monofunctional (meth) acrylate, polyfunctional (meth) acrylate, epoxy resin, urethane resin, and silicon resin. In the present specification, (meth) acrylate means a generic name including both acrylate and methacrylate. The description of (meth) acrylic acid, (meth) acrylic, and (meth) acryloyl is the same.
＜（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体＞
４級アンモニウム塩系共重合体は、帯電防止剤として添加され、下記一般式（１）で表される４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）、及び１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｂ−２）を必須の構成成分とする。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＺ（ＣＨ２）ｋＮ＋（Ｒ２）３・Ｘ− ・・・（１）
（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ３、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数が１〜４の炭化水素基、Ｚは酸素原子またはＮＨ基、ｋは１〜１０の整数、Ｘ−は１価のアニオンを表す。）
<(B) Quaternary ammonium salt copolymer>
A quaternary ammonium salt copolymer is added as an antistatic agent, and has a compound (b-1) having a quaternary ammonium base represented by the following general formula (1) and a compound having one ethylenically unsaturated group (B-2) is an essential component.
CH 2 = C (R 1 ) COZ (CH 2 ) k N + (R 2 ) 3 · X − (1)
(In the formula, R 1 is H or CH 3 , R 2 is independently a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, Z is an oxygen atom or NH group, k is an integer of 1 to 10, and X − is 1) Represents a valent anion.)
＜４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）＞
４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）は、前記一般式（１）で表され、その構造中に４級アンモニウム塩を含有する（メタ）アクリル類であれば特に制限さない。そのような化合物として、例えば、アミノ基を有する（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類が挙げられる。
<Compound (b-1) having a quaternary ammonium base>
The compound (b-1) having a quaternary ammonium base is not particularly limited as long as it is a (meth) acrylic compound represented by the general formula (1) and containing a quaternary ammonium salt in the structure thereof. Examples of such compounds include (meth) acrylates and (meth) acrylamides having an amino group.
一般式（１）におけるＲ２である炭素数が１〜４の炭化水素基は、置換又は無置換のものが選択できる。Ｒ２の炭素数が５よりも大きい場合、生成される（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体の疎水性が高まる結果、（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体を含有する紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の吸湿性が低下し、良好な帯電防止性能を得られない場合がある。 As the hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms which is R 2 in the general formula (1), a substituted or unsubstituted one can be selected. When the carbon number of R 2 is larger than 5, the resulting (B) quaternary ammonium salt copolymer is increased in hydrophobicity, and as a result, (B) an ultraviolet absorber containing the quaternary ammonium salt copolymer. In some cases, the hygroscopicity of the antistatic hard coat layer is lowered and good antistatic performance cannot be obtained.
一般式（１）におけるＲ２は、無置換のものが好ましく、無置換のアルキル基がより好ましい。無置換のアルキル基としては、分岐を有するもの、有しないもの、いずれをも使うことができる。無置換のアルキル基としては、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、メチル基やエチル基等の無置換のアルキル基を有するものが入手し易いという点で好ましい。 R 2 in the general formula (1) is preferably unsubstituted, and more preferably an unsubstituted alkyl group. As the unsubstituted alkyl group, any having or not having a branch can be used. As an unsubstituted alkyl group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and an unsubstituted alkyl group having an unsubstituted alkyl group such as a methyl group or an ethyl group is preferable.
一般式（１）におけるＺが酸素原子の４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）を形成するためのアミノ基を有する（メタ）アクリレート類の例としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート塩化メチル４級塩、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート塩化メチル４級塩などである。 Examples of (meth) acrylates having an amino group for forming a compound (b-1) in which Z in the general formula (1) has a quaternary ammonium base having an oxygen atom include dimethylaminoethyl (meth) acrylate chloride Methyl quaternary salts, dimethylaminopropyl (meth) acrylate methyl chloride quaternary salts, and the like.
一般式（１）におけるＺがＮＨ基の４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）を形成するためのアミノ基を有する（メタ）アクリルアミド類の例としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド塩化メチル４級塩、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド塩化メチル４級塩などである。 Examples of (meth) acrylamides having an amino group for forming a compound (b-1) in which Z in the general formula (1) has an NH group quaternary ammonium base include dimethylaminoethyl (meth) acrylamide chloride Methyl quaternary salts, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide methyl chloride quaternary salts, and the like.
＜１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｂ−２）＞
１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（ｂ−２）としては、エチレン性不飽和基を１つ含有するモノマーであれば特に限定されない。そのような化合物として、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートが挙げられる。また、化合物（ｂ−２）は２種類以上を併用しても良い。
<Compound (b-2) having one ethylenically unsaturated group>
The compound (b-2) having one ethylenically unsaturated group is not particularly limited as long as it is a monomer containing one ethylenically unsaturated group. Examples of such compounds include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and hydroxyethyl. Various (meth) acrylates such as (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate are exemplified. Two or more kinds of compounds (b-2) may be used in combination.
（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体は、化合物（ｂ−１）・（ｂ−２）をラジカル共重合して得ることができる。化合物（ｂ−１）・（ｂ−２）の使用量は、４級アンモニウム塩系共重合体の合計１００質量部中、化合物（ｂ−１）は、帯電防止性能の観点から３０〜７０質量部、化合物（ｂ−２）は、生成される（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体の帯電防止性、溶解性を整える目的で７０〜３０質量部とする。 (B) The quaternary ammonium salt copolymer can be obtained by radical copolymerization of the compounds (b-1) and (b-2). The compound (b-1) and (b-2) are used in an amount of 100 parts by mass in total of the quaternary ammonium salt copolymer, and the compound (b-1) is 30 to 70 masses from the viewpoint of antistatic performance. Part of the compound (b-2) is 70 to 30 parts by mass for the purpose of adjusting the antistatic property and solubility of the (B) quaternary ammonium salt copolymer to be produced.
（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体の使用量は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００重量部に対し、１〜２０重量部であり、３〜１０重量部がより好ましい。１重量部未満では十分な帯電防止性能を得ることができず、２０重量部を超えると形成される紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の耐擦傷性が低下する。 (B) The usage-amount of a quaternary ammonium salt type copolymer is 1-20 weight part with respect to 100 weight part of (A) ultraviolet curable resin, and 3-10 weight part is more preferable. If it is less than 1 part by weight, sufficient antistatic performance cannot be obtained, and if it exceeds 20 parts by weight, the scratch resistance of the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer formed is lowered.
＜（Ｃ）紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤は、光の波長３００〜３５０ｎｍに吸収を持ち、下記一般式（２）〔２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン〕で表される。
The ultraviolet absorber has absorption at a light wavelength of 300 to 350 nm, and has the following general formula (2) [2- (2-hydroxy-4- [1-octyloxycarbonylethoxy] phenyl) -4,6-bis (4 -Phenylphenyl) -1,3,5-triazine].
紫外線吸収剤の含有量は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して１〜２０質量部であり、５〜２０質量部がより好ましい。紫外線吸収剤の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、光学用フィルムの可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、１質量部より少ない場合には、光学用フィルムの紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。 Content of a ultraviolet absorber is 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) ultraviolet curable resin, and 5-20 mass parts is more preferable. When there is more content of an ultraviolet absorber than 20 mass parts, while there exists a tendency for the sclerosis | hardenability by the ultraviolet-ray of a curable composition to fall, there also exists a possibility that the visible light transmittance | permeability of an optical film may fall. On the other hand, when the amount is less than 1 part by mass, the ultraviolet absorptivity of the optical film cannot be exhibited sufficiently.
紫外線吸収剤は、波長３００〜３５０ｎｍに吸収を持つ上記一般式（２）で表される紫外線吸収剤を少なくとも使用していれば、その他の波長に吸収を持つ紫外線吸収剤も併用することができる。また、無機系の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）や酸化防止剤などの安定剤を併用してもよい。 As long as the ultraviolet absorber is at least the ultraviolet absorber represented by the general formula (2) having absorption at a wavelength of 300 to 350 nm, an ultraviolet absorber having absorption at other wavelengths can be used in combination. . Moreover, you may use together stabilizers, such as an inorganic type ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer (HALS), and antioxidant.
無機系の紫外線吸収剤としては、公知従来のものが使用できる。例えば酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化チタン等が挙げられる。 As the inorganic ultraviolet absorber, known conventional ones can be used. Examples thereof include cerium oxide, zinc oxide, and titanium oxide.
ヒンダードアミン系光安定剤としては、公知従来のものが使用できる。例えばデカン二酸ビス(２，２，６，６−テトラメチル−１−(オクチルオキシ)−４−ピペリジニル)エステル１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、ビス(１，２，２，６，６−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケートとメチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケートの混合物、２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ］−６−（２−ヒドロキシエチルアミン）−１，３，５−トリアジン）等が挙げられる。 As the hindered amine light stabilizer, known ones can be used. For example, decanedioic acid bis (2,2,6,6-tetramethyl-1- (octyloxy) -4-piperidinyl) ester 1,1-dimethylethyl hydroperoxide and the reaction product of octane, bis (1,2, 2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate and methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidylsebacate, 2,4-bis [N-butyl-N- (1- Cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino] -6- (2-hydroxyethylamine) -1,3,5-triazine) and the like.
＜（Ｄ）光重合開始剤＞
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層を形成する光重合開始剤としては、光の波長２２０〜４００ｎｍに吸収を持つものであれば、その種類は特に限定されない。光の吸収波長が４００ｎｍを超える光重合開始剤は少なくコストが嵩むと共に、紫外線による光重合開始能の発現が不足するおそれがある。一方、光の吸収波長が２２０ｎｍ未満の場合、オゾンが発生しやすくなるため好ましくない。なお、光重合開始剤の最大吸収波長は、３００〜３５０ｎｍの範囲外であることが好ましい。光重合開始剤の最大吸収波長が３００〜３５０ｎｍの範囲では、紫外線が紫外線吸収剤に吸収され、光重合開始剤の光重合開始能が十分に発現しないおそれがあるからである。
<(D) Photopolymerization initiator>
The type of the photopolymerization initiator for forming the ultraviolet light absorbing antistatic hard coat layer is not particularly limited as long as it has absorption at a light wavelength of 220 to 400 nm. There are few photopolymerization initiators whose light absorption wavelength exceeds 400 nm, and the cost is high, and there is a possibility that the photopolymerization initiating ability due to ultraviolet rays is insufficient. On the other hand, when the light absorption wavelength is less than 220 nm, ozone is likely to be generated, which is not preferable. In addition, it is preferable that the maximum absorption wavelength of a photoinitiator is outside the range of 300-350 nm. This is because when the maximum absorption wavelength of the photopolymerization initiator is in the range of 300 to 350 nm, ultraviolet rays are absorbed by the ultraviolet absorber, and the photopolymerization initiator may not sufficiently develop the photopolymerization initiation ability.
光の波長２２０〜４００ｎｍに吸収を持つ光重合開始剤としては、例えば１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどが挙げられる。中でも、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが好ましい。 Examples of the photopolymerization initiator having absorption at a light wavelength of 220 to 400 nm include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2-methyl-1 -[4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and the like. Of these, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone is preferred.
光重合開始剤の含有量は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部に対し、０．１〜１０質量部とする。光重合開始剤の含有量が０．１質量部未満の場合には紫外線硬化型樹脂の重合硬化が不十分となり、１０質量部を越える場合には、光重合開始に使用されなかった光重合開始剤が残存し、可視光線透過率が低下するなどの弊害が生じるおそれがある。 Content of a photoinitiator shall be 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) ultraviolet curable resin. When the content of the photopolymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the polymerization and curing of the UV curable resin is insufficient, and when it exceeds 10 parts by mass, the photopolymerization is not used for initiating the photopolymerization. There is a risk that the agent will remain, causing adverse effects such as a decrease in visible light transmittance.
＜（Ｅ）金属酸化物＞
金属酸化物は、必要に応じて紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液に含有させることにより屈折率を上昇する目的で添加するものであれば、その種類は特に制限されない。そのような金属酸化物としては、例えば酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化インジウム錫などが挙げられる。金属酸化物は、微粒子状のものが好適に使用される。金属酸化物の含有量は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して１０〜１８０質量部の範囲で、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層において求められる屈折率に応じて調整すればよい。金属酸化物の含有量が１８０質量部より多いときには、硬化性組成物の紫外線硬化性に支障をきたしたり、可視光線透過率が低下するなどの弊害が生じる恐れがあり、１０質量部より少ないと、屈折率の調整効果が小さくなる。
<(E) Metal oxide>
The type of the metal oxide is not particularly limited as long as it is added for the purpose of increasing the refractive index by being contained in the UV-absorbing antistatic hard coat layer coating solution as necessary. Examples of such metal oxides include zirconium oxide, zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, tin oxide, aluminum oxide, silane oxide, and indium tin oxide. As the metal oxide, fine particles are preferably used. The content of the metal oxide may be adjusted in the range of 10 to 180 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) ultraviolet curable resin according to the refractive index required in the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer. . When the content of the metal oxide is more than 180 parts by mass, the ultraviolet curable composition may have an adverse effect on the ultraviolet curability or the visible light transmittance may be reduced. The refractive index adjustment effect is reduced.
＜低屈折率層＞
低屈折率層は、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層よりも屈折率の低い層であり、電子ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止する層である。低屈折率層は、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の上（表面側）に設けられる。
<Low refractive index layer>
The low-refractive index layer is a layer having a lower refractive index than the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer, and is a layer that prevents reflection or reflection of external light such as a fluorescent lamp that affects the image display of an electronic display. . The low refractive index layer is provided on the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer (on the surface side).
低屈折率層を形成する材料としては、屈折率が１．２０〜１．５０の範囲であれば、この種の光学用フィルムにおいて低屈折率層を形成する公知の材料を用いることができる。例えば、バインダー樹脂に、積極的に屈折率を低下させる中空シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子を添加したもの、あるいはフッ素系樹脂などを用いることができる。バインダー樹脂としては、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層を形成する（Ａ）紫外線硬化型樹脂と同様の（メタ）アクリレート等を使用できる。低屈折率層は、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層と同様の方法で、低屈折率層塗布液を塗布硬化することで形成できる。 As a material for forming the low refractive index layer, a known material for forming the low refractive index layer in this type of optical film can be used as long as the refractive index is in the range of 1.20 to 1.50. For example, a binder resin to which low refractive index inorganic fine particles such as hollow silica and magnesium fluoride that actively lower the refractive index are added, or a fluorine-based resin can be used. As the binder resin, the same (meth) acrylate as the (A) ultraviolet curable resin for forming the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer can be used. The low refractive index layer can be formed by applying and curing a low refractive index layer coating solution in the same manner as the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer.
＜近赤外線吸収性粘着層＞
近赤外線吸収性粘着層は、近赤外線吸収機能と粘着機能を併せ持った層であり、プラズマディスプレイの場合、パネルから発生する強度の近赤外線を吸収する層である。近赤外線吸収性粘着層は、この種の光学用フィルムにおいて従来から一般的に使用されている公知のものを特に制限無く使用でき、例えば変性（メタ）アクリル系重合体、重合性不飽和基を有するカルボン酸成分、光重合開始剤、シラン化合物、及び近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収性塗布液に、紫外線等の活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成される。
<Near-infrared absorbing adhesive layer>
The near-infrared absorbing adhesive layer is a layer having both a near-infrared absorbing function and an adhesive function. In the case of a plasma display, the near-infrared absorbing adhesive layer is a layer that absorbs near-infrared rays generated from a panel. As the near-infrared absorbing pressure-sensitive adhesive layer, known ones that have been generally used in this type of optical film can be used without particular limitation. For example, a modified (meth) acrylic polymer, a polymerizable unsaturated group can be used. It is formed by irradiating a near-infrared absorbing coating solution containing a carboxylic acid component, a photopolymerization initiator, a silane compound, and a near-infrared absorber with an active energy ray such as ultraviolet rays and curing.
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、これに限られるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples and comparative examples, but is not limited thereto.
（４級アンモニウム塩系共重合体の調整）
（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体は、（ｂ−１）及び（ｂ−２）を下記表１に示す組成のように共重合することで得た。なお、表１中に示す各具体的材料は、次の通りである。
α1：ジメチルアミノエチルアクリレート塩化メチル４級
一般式（１）：R1＝CH3、R２＝CH3、Z＝Ｏ、ｋ＝２、X−＝Cl−
α２：ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル4 級
一般式（１）：R1＝H、R２＝CH3、Z＝NH基、ｋ＝３、X−＝Cl−
β１：ブチルメタクリレート
β２：ベンジルメタクリレート
(Preparation of quaternary ammonium salt copolymer)
(B) A quaternary ammonium salt copolymer was obtained by copolymerizing (b-1) and (b-2) as shown in Table 1 below. The specific materials shown in Table 1 are as follows.
α1: dimethylaminoethyl acrylate methyl chloride quaternary general formula (1): R 1 = CH 3 , R 2 = CH 3 , Z = O, k = 2, X − = Cl −
α2: dimethylaminopropylacrylamide methyl chloride quaternary general formula (1): R 1 = H, R 2 = CH 3 , Z = NH group, k = 3, X − = Cl −
β1: Butyl methacrylate β2: Benzyl methacrylate
（紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液の調製）
紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液は、（Ａ）紫外線硬化型樹脂と、（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体と、上記一般式（２）の（Ｃ）紫外線吸収剤と、（Ｄ）光重合開始剤と、（Ｅ）金属酸化物とを、下記表２〜４に示す組成のように混合し、固形分濃度が４０質量部となるようにイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を混合して紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を得た。なお、表２〜４中に示す各具体的材料は、次の通りである。
Ａ１：ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）
Ｃ１：ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：チヌビン４７９〔２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン〕
Ｃ２：ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：チヌビン１２３〔デカン二酸ビス(２，２，６，６−テトラメチル−１−(オクチルオキシ)−４−ピペリジニル)エステル１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物〕
Ｄ１：ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：イルガキュア１８４
Ｄ２：ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：イルガキュア９０７
(Preparation of UV-absorbing antistatic hard coat layer coating solution)
The ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer coating solution comprises (A) an ultraviolet curable resin, (B) a quaternary ammonium salt copolymer, (C) an ultraviolet absorber of the above general formula (2), ( D) A photopolymerization initiator and (E) a metal oxide are mixed as shown in the compositions shown in Tables 2 to 4 below, and isopropyl alcohol (IPA) is mixed so that the solid content concentration is 40 parts by mass. Thus, a UV-absorbing antistatic hard coat layer coating solution was obtained. The specific materials shown in Tables 2 to 4 are as follows.
A1: DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate)
C1: Product name manufactured by BASF Japan Ltd .: Tinuvin 479 [2- (2-hydroxy-4- [1-octyloxycarbonylethoxy] phenyl) -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3 5-triazine]
C2: Product name manufactured by BASF Japan Ltd .: Tinuvin 123 [bis (2,2,6,6-tetramethyl-1- (octyloxy) -4-piperidinyl) ester 1,1-dimethylethyl hydroperoxide] And the reaction product of octane)
D1: Product name manufactured by BASF Japan Ltd .: Irgacure 184
D2: Product name manufactured by BASF Japan Ltd .: Irgacure 907
（低屈折率層塗布液γ１の調製）
低屈折率層塗布液γ１は、粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子６０質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）４０質量部と、光重合開始剤〔ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：イルガキュア９０７〕２質量部とを、固形分濃度が５質量部となるようにイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を混合して得た。
(Preparation of low refractive index layer coating solution γ1)
The low refractive index layer coating solution γ1 is composed of 60 parts by mass of hollow silica fine particles having a particle size of 60 nm, 40 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), a photopolymerization initiator [product name: Irgacure manufactured by BASF Japan Ltd. 907] was obtained by mixing 2 parts by mass with isopropyl alcohol (IPA) so that the solid content concentration was 5 parts by mass.
（近赤外線吸収性粘着層塗布液δ１の調製）
アクリル系共重合体〔根上工業製の製品名：パラクロンＡＷ４５００Ｈ〕５８６質量部、酢酸エチル８９０質量部、ジブチル錫ラウレート０．３質量部を仕込み、撹拌しながら４０℃に加熱した。続いて、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート〔昭和電工（株）製の製品名：カレンズＭＯＩ〕１．８質量部を酢酸エチル１２０質量部に溶解し、前記混合物中に温度を４０℃に保持しながら滴下した。滴下終了後、反応液の滴定分析により、イソシアネート基の消失を確認するまで４０℃で５時間反応を継続することにより、変性（メタ）アクリル系重合体を得た。
(Preparation of near-infrared absorbing adhesive layer coating solution δ1)
586 parts by mass of an acrylic copolymer [product name: Paraclone AW4500H manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.], 890 parts by mass of ethyl acetate, and 0.3 part by mass of dibutyltin laurate were charged and heated to 40 ° C. while stirring. Subsequently, 1.8 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate [Product name: Karenz MOI manufactured by Showa Denko KK] was dissolved in 120 parts by mass of ethyl acetate, and the temperature was maintained at 40 ° C. in the mixture. It was dripped. After completion of the dropwise addition, a modified (meth) acrylic polymer was obtained by continuing the reaction at 40 ° C. for 5 hours until the disappearance of the isocyanate group was confirmed by titration analysis of the reaction solution.
次いで、前記変性（メタ）アクリル系重合体を固形分換算で８５．０質量部、アクリル酸〔大阪有機化学工業（株）製の製品名：９８％アクリル酸〕１５．０質量部、光重合開始剤〔ＢＡＳＦジャパン株式会社製の製品名：イルガキュア８１９〕０．７質量部、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン〔信越化学工業（株）製の製品名：ＫＢＥ−９００７〕１．５質量部、ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラキス[ｐ−フェニレンジアミン] ２．２質量部、テトラアザポルフィリン化合物〔山本化成（株）製の商品名：ＰＤ−３２０〕０．１８質量部、メチルエチルケトン３００質量部を混合して、近赤外線吸収性粘着層塗布液を得た。 Next, 85.0 parts by mass of the modified (meth) acrylic polymer in terms of solid content, 15.0 parts by mass of acrylic acid [product name: 98% acrylic acid manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.], photopolymerization Initiator [Product name: BASF Japan Ltd. product name: Irgacure 819] 0.7 parts by mass, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane [Product name: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product: KBE-9007] 1.5 parts by mass, Bis (hexafluoroantimonic acid) -N, N, N ′, N′-tetrakis [p-phenylenediamine] 2.2 parts by mass, tetraazaporphyrin compound [trade name: PD-320, manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.] 0.18 parts by mass and 300 parts by mass of methyl ethyl ketone were mixed to obtain a near-infrared absorbing adhesive layer coating solution.
（光学用フィルムの作製）
＜実施例＞
ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に、各実施例用の紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を、グラビアコート法で乾燥膜厚が１μｍになるよう塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ２の出力にて紫外線を照射して硬化させることにより、紫外線吸収性帯電防止ハードコートフィルムを作製した。
(Preparation of optical film)
<Example>
On one surface of the polyethylene terephthalate film, the UV-absorbing antistatic hard coat layer coating solution for each example was applied by a gravure coating method so that the dry film thickness was 1 μm, and after drying, 400 mJ / in a nitrogen atmosphere. An ultraviolet-absorbing antistatic hard coat film was prepared by irradiating and curing ultraviolet rays at an output of cm 2 .
＜比較例1＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止性ハードコート層塗布液から（Ｃ）紫外線吸収剤を抜いた以外は、実施例１と同様に光学用フィルムを作成した。
<Comparative Example 1>
In Example 1-1, an optical film was prepared in the same manner as in Example 1 except that (C) the ultraviolet absorbent was removed from the ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer coating solution.
＜比較例２＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液から（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体を抜いた以外は、実施例１−１と同様に光学用フィルムを作成した。
<Comparative example 2>
In Example 1-1, an optical film was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that (B) the quaternary ammonium salt copolymer was removed from the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer coating solution.
＜比較例３＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液から（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体と（Ｃ）紫外線吸収剤とを抜いた以外は、実施例１−１と同様に光学用フィルムを作成した。
<Comparative Example 3>
Example 1-1 is the same as Example 1-1 except that (B) the quaternary ammonium salt copolymer and (C) the UV absorber were removed from the UV-absorbing antistatic hard coat layer coating solution. An optical film was prepared.
＜比較例４＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の膜厚を０．１μｍにした以外は、実施例１−１と同様に光学用フィルムを作成した。
<Comparative example 4>
In Example 1-1, an optical film was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness of the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer was changed to 0.1 μm.
＜比較例５＞
実施例１−１において、紫外線吸収性帯電防止ハードコート層の膜厚を１５μｍにした以外は、実施例１−１と同様に光学用フィルムを作成した。
<Comparative Example 5>
In Example 1-1, an optical film was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness of the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer was changed to 15 μm.
得られた各実施例及び比較例の光学用フィルムにおいて、耐光性や物理的特性（カール性）を測定し評価した。その結果も表２〜４に示す。なお、各項目の測定方法は次の通りである。 In the obtained optical films of Examples and Comparative Examples, light resistance and physical properties (curling properties) were measured and evaluated. The results are also shown in Tables 2-4. The measurement method for each item is as follows.
（Ｉ）耐光性試験
＜スーパーキセノン試験＞
スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５(スガ試験機株式会社製)を用いて、照射照度１８０W/m２、照射光の波長３００〜４００ｎｍ、ＢＰＴ温度６３±１℃の試験条件で１００時間試験を行い、試験後、ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９９８に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。セロハンテープ〔ニチバン（株）製、ＣＴ２４〕を用い、光学用フィルムのハードコート層、あるいは低屈折率層に密着させた後剥離した。耐光性は密着性にて判定し、１００マスのうち、剥離しないマス目の数を、○○／１００として表した。例えば、全く剥離しない場合は１００／１００、完全に剥離する場合は０／１００として表した。
(I) Light resistance test <Super Xenon test>
Using a Super Xenon Weather Meter SX75 (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the test was conducted for 100 hours under the test conditions of irradiation illuminance of 180 W / m 2 , irradiation light wavelength of 300 to 400 nm, BPT temperature of 63 ± 1 ° C. In accordance with JIS D0202-1998, a cross-cut peeling tape test was conducted. Using cellophane tape (Nichiban Co., Ltd., CT24), the film was peeled after closely contacting the hard coat layer or low refractive index layer of the optical film. Light resistance was determined by adhesion, and the number of squares that did not peel out of 100 squares was expressed as OO / 100. For example, it was expressed as 100/100 when not peeling at all, and 0/100 when peeling completely.
（II）表面抵抗率
ＪＩＳＫ６９１１−１９９５に準拠して、デジタル絶縁計〔東亜ディーケーケー（株）
製、ＳＭ−８２２０〕を用いて測定した。
(II) Surface resistivity In accordance with JISK6911-1995, digital insulation meter [Toa DKK Co., Ltd.
Manufactured by SM-8220].
（III）カール性試験
１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズの光学用フィルムを作成し、光学用フィルムを水平面に置いた際の４隅のカール高さを測定し、下記の基準により判定する。
○：カール高さが２０ｍｍ未満
△：カール高さが２０ｍｍ以上５０ｍｍ未満
×：カール高さが５０ｍｍ以上
(III) Curling Test An optical film having a size of 10 cm × 10 cm is prepared, and the curl heights at the four corners when the optical film is placed on a horizontal surface are measured and determined according to the following criteria.
○: Curl height is less than 20 mm Δ: Curl height is 20 mm or more and less than 50 mm ×: Curl height is 50 mm or more
表２〜４の結果より、各実施例の光学用フィルムは、キセノンランプによる劣化が抑えられ、密着性が良好であった。また、表面抵抗率及びカール性も良好であった。これに対し比較例１の光学用フィルムは、ハードコート層に（Ｃ）紫外線吸収剤が入っていないため、耐光性が著しく悪化した。比較例２の光学用フィルムは、ハードコート層に（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体が入っていないため、表面抵抗率が著しく悪化した。比較例３の光学用フィルムは、ハードコート層に（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体と（Ｃ）紫外線吸収剤が入っていないため、密着性及び表面抵抗率が著しく悪化した。比較例４の光学用フィルムは、ハードコート層の膜厚の薄膜化に伴う紫外線吸収剤の含有量低下のため、十分な紫外線吸収効果を得ることができず、密着性が悪化した。比較例５の光学用フィルムは、ハードコート層の膜厚が厚すぎるため、カール性が悪化していることが確認された。
From the results of Tables 2 to 4, the optical film of each example was suppressed from deterioration due to a xenon lamp and had good adhesion. Further, the surface resistivity and curling property were also good. On the other hand, since the optical film of Comparative Example 1 did not contain (C) the ultraviolet absorber in the hard coat layer, the light resistance was remarkably deteriorated. In the optical film of Comparative Example 2, since the (B) quaternary ammonium salt copolymer was not contained in the hard coat layer, the surface resistivity was remarkably deteriorated. Since the optical film of Comparative Example 3 did not contain (B) a quaternary ammonium salt copolymer and (C) an ultraviolet absorber in the hard coat layer, adhesion and surface resistivity were remarkably deteriorated. The optical film of Comparative Example 4 was not able to obtain a sufficient ultraviolet absorption effect due to a decrease in the content of the ultraviolet absorber accompanying the reduction in the thickness of the hard coat layer, and the adhesion deteriorated. The optical film of Comparative Example 5 was confirmed to have deteriorated curl properties because the hard coat layer was too thick.
Claims (4)
前記紫外線吸収性帯電防止ハードコート層は、
（Ａ）紫外線硬化型樹脂１００質量部と、
（Ｂ）下記一般式（１）で表される４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）と、１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｂ−２）とをラジカル共重合して得られる４級アンモニウム塩系共重合体１〜２０質量部と、
（Ｃ）光の波長３００〜３５０ｎｍに吸収を持つ下記一般式（２）で表される紫外線吸収剤１〜２０質量部と、
（Ｄ）光の波長２２０〜４００ｎｍに吸収を持つ光重合開始剤０．１〜１０質量部と、
を含む紫外線吸収性帯電防止ハードコート層塗布液を紫外線硬化させた、厚みが０．５〜１０μｍの層であって、
前記（Ｂ）４級アンモニウム塩系共重合体は、該４級アンモニウム塩系共重合体１００質量部中、前記４級アンモニウム塩基を有する化合物（ｂ−１）を３０〜７０質量部、前記１つのエチレン不飽和基を有する化合物（ｂ−２）を７０〜３０質量部含むことを特徴とする、光学用フィルム。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＺ（ＣＨ２）ｋＮ＋（Ｒ２）３・Ｘ− ・・・（１）
（式中、Ｒ１はＨまたはＣＨ３、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数が１〜４の炭化水素基、Ｚは酸素原子またはＮＨ基、ｋは１〜１０の整数、Ｘ−は１価のアニオンを表す。）
The ultraviolet absorbing antistatic hard coat layer is
(A) 100 parts by mass of an ultraviolet curable resin;
(B) Obtained by radical copolymerization of a compound (b-1) having a quaternary ammonium base represented by the following general formula (1) and a compound (b-2) having one ethylenically unsaturated group. 1 to 20 parts by mass of a quaternary ammonium salt copolymer,
(C) 1 to 20 parts by mass of an ultraviolet absorber represented by the following general formula (2) having absorption at a wavelength of light of 300 to 350 nm;
(D) 0.1 to 10 parts by mass of a photopolymerization initiator having absorption at a light wavelength of 220 to 400 nm;
A layer having a thickness of 0.5 to 10 μm obtained by UV-curing a UV-absorbing antistatic hard coat layer coating solution containing
The (B) quaternary ammonium salt copolymer is 30 to 70 parts by mass of the compound (b-1) having the quaternary ammonium base in 100 parts by mass of the quaternary ammonium salt copolymer. An optical film comprising 70 to 30 parts by mass of a compound (b-2) having two ethylenically unsaturated groups.
CH 2 = C (R 1 ) COZ (CH 2 ) k N + (R 2 ) 3 · X − (1)
(In the formula, R 1 is H or CH 3 , R 2 is independently a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, Z is an oxygen atom or NH group, k is an integer of 1 to 10, and X − is 1) Represents a valent anion.)
A near-infrared-absorbing adhesive layer having near-infrared absorptivity is provided on the other side of the transparent substrate film opposite to the side on which the ultraviolet-absorbing antistatic hard coat layer is formed. The optical film according to any one of claims 1 to 3.
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