WO2005105866A1 - Photocurable composition and antireflective film using same - Google Patents

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Shoichi Mochizuki
Hiroshi Tominaga
Kazunori Shigemori
Nozomu Hatano
Hideki Ochiai
Yukio Amano
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Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.
Toppan Printing Co., Ltd.
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Abstract

Disclosed is a photocurable composition containing a photocurable material including at least one compound (A) represented by the general formula (1) below and a filler (B) having a refractive index of not less than 1.60. (1) (In the formula, R1-R3 independently represent a hydrogen atom or a methyl group; R4-R6 independently represent an unsubstituted or substituted, straight or branched chain alkylene group; R7 represents hydrogen or a monovalent organic group; and R8 represents a tetravalent aromatic group. In this connection, at least one of R7 and R8 contains a biphenyl skeleton.) Also disclosed is an antireflective film wherein a high-refractive-index hard coat layer composed of such a photocurable composition and a low-refractive-index layer having a refractive index of 1.20-1.50 are sequentially arranged on one side of a plastic base.

Description

明 細 書  Specification
光硬化性組成物およびそれを用いた反射防止フィルム  Photocurable composition and antireflection film using the same
技術分野  Technical field
[0001] 本発明は、高い屈折率と、鉛筆硬度および耐擦傷性等のハードコート性とを兼ね 備えるとともに耐光性にも優れた光硬化性組成物に関する。  The present invention relates to a photocurable composition having both a high refractive index, hard coat properties such as pencil hardness and scratch resistance, and also having excellent light resistance.
[0002] また、本発明は、ワードプロセッサ、コンピュータ、テレビジョン等のディスプレイデバ イス、例えばプラズマディスプレイデバイス、 CRTディスプレイデバイス、液晶ディスプ レイデバイス、プロジェクシヨンディスプレイデバイス、 ELディスプレイデバイスの表面 を保護する目的で使用される反射防止フィルムに関する。  [0002] The present invention also aims at protecting the surfaces of display devices such as word processors, computers, and televisions, for example, plasma display devices, CRT display devices, liquid crystal display devices, projection display devices, and EL display devices. It relates to the antireflection film used.
背景技術  Background art
[0003] 近年、高屈折率プラスチック材料の光学デバイスへの進出は著しぐ各種ディスプ レイデバイス用の反射防止フィルムとして盛んに検討されている。  [0003] In recent years, the advancement of high refractive index plastic materials into optical devices has been actively studied as antireflection films for various display devices.
[0004] 反射防止フィルムに用いられる高屈折率材料には、高い屈折率に加え、鉛筆硬度 および耐擦傷性等のハードコート性、透明性、低比重、耐光性等が必要であり、これ まで、さまざまな材料が検討されている。  [0004] In addition to a high refractive index, a high refractive index material used for an antireflection film needs to have hard coat properties such as pencil hardness and scratch resistance, transparency, low specific gravity, light resistance, and the like. Various materials are being considered.
[0005] 例えば、高 、屈折率を示す材料として、 2つの (メタ)アタリレートとビフエニル骨格を 有する化合物が開示されている。これは、ビフエニル骨格由来の高い屈折率を示す 力 分子内に (メタ)アタリレートを 2つし力持たないため、光照射時に重合系に取り込 まれる確率が低ぐ結果的に鉛筆硬度等のハードコート性が低下しやすいという欠点 があり、また、光照射時に重合系に効率よく取り込まれた場合においても、光硬化時 の体積収縮が激しぐ基材への密着性が劣化するという欠点があった。  [0005] For example, as a material having a high refractive index, a compound having two (meth) acrylates and a biphenyl skeleton has been disclosed. This is because the biphenyl skeleton-derived force has a high refractive index. Since two (meth) acrylates are not present in the molecule, the probability of incorporation into the polymerization system during light irradiation is low. Has the disadvantage that the hard coat property tends to decrease, and even when efficiently incorporated into the polymerization system at the time of light irradiation, the adhesiveness to the substrate, which undergoes severe volume shrinkage during photocuring, deteriorates. There were drawbacks.
[0006] このような欠点を改善するために、分子内のビフヱニル骨格と (メタ)アタリレート間の 距離を長くする検討が行われたが、鉛筆硬度等のハードコート性は向上するものの、 系内のビフ ニル骨格の濃度が低下し、充分な屈折率が得られな!/、と 、う欠点があ つた。また、他の方法として、他の光重合性材料を併用した場合も同様に、系内のビ フ ニル骨格の濃度が低下し、結果として充分な屈折率が得られな 、と 、う欠点があ つた。(欄 2003— 64025号公報、欄 2003— 64026号公報) 以上のように、従来の技術では、高い屈折率と、高い鉛筆硬度 '耐擦傷性等のハー ドコート性と、耐光性を兼ね備えた光硬化性材料は得られて!/ヽなかった。 [0006] In order to improve such disadvantages, studies have been made to increase the distance between the biphenyl skeleton and the (meth) acrylate in the molecule. However, although the hard coat property such as pencil hardness is improved, the system However, the concentration of the biphenyl skeleton in the inside was reduced, and a sufficient refractive index could not be obtained! Further, as another method, when another photopolymerizable material is used in combination, similarly, the concentration of the biphenyl skeleton in the system decreases, and as a result, a sufficient refractive index cannot be obtained. Atsushi. (Column 2003-64025, Column 2003-64026) As described above, with the conventional technology, a photocurable material having both high refractive index, high pencil hardness, hard coat properties such as scratch resistance, and light resistance was not obtained!
発明の開示  Disclosure of the invention
[0007] 本発明は、高い屈折率と、優れたハードコート性と、耐光性を兼ね備えた光硬化性 組成物を提供することを目的とする。  [0007] An object of the present invention is to provide a photocurable composition having high refractive index, excellent hard coat properties, and light resistance.
[0008] また、本発明は、優れたハードコート性と耐光性を兼ね備え、良好な光学特性を有 する反射防止フィルムを提供することを目的とする。 [0008] Another object of the present invention is to provide an antireflection film having both excellent hard coat properties and light resistance, and having good optical characteristics.
[0009] 本発明の第 1の側面によれば、下記一般式(1)で示される化合物 (A)を含む光硬 化性材料、および屈折率が 1. 60以上のフィラー (B)を包含する光硬化性組成物が 提供される。 [0009] According to a first aspect of the present invention, a photocurable material containing a compound (A) represented by the following general formula (1) and a filler (B) having a refractive index of 1.60 or more are included. A photocurable composition is provided.
[0010] 一般式(1) : [0010] General formula (1):
[化 1]  [Chemical 1]
Figure imgf000004_0001
Figure imgf000004_0001
(式中、 R1〜! Tは、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示し、 R4〜R6は、そ れぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示し、 R 7は、水素または 1価の有機基を示し、 R8は、 4価の芳香族基を示す。ただし、 R7およ び R8の少なくとも一方は、ビフエ-ル骨格を含む。) (Wherein, R 1 to! T each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 4 to R 6 each independently represent an unsubstituted or substituted, linear or branched chain; R 7 represents hydrogen or a monovalent organic group, R 8 represents a tetravalent aromatic group, provided that at least one of R 7 and R 8 has a biphenyl skeleton including.)
本発明の光硬化性組成物において、一般式(1)中の R7および R8の双方が、ビフエ -ル骨格を含むことが好ま ヽ。 In the photocurable composition of the present invention, both R 7 and R 8 in the general formula (1) -It is preferable to include a skeleton.
[0012] また、本発明の光硬化性組成物において、フィラー(B)は、金属酸化物であること が好ましい。 [0012] In the photocurable composition of the present invention, the filler (B) is preferably a metal oxide.
[0013] 本発明の第 2の側面によれば、プラスチック基材の一つの面に、本発明の第 1の側 面による光硬化性組成物力 形成される高屈折率ハードコート層、および屈折率が 1 . 20〜: L 50の低屈折率層が順次積層されている反射防止フィルムが提供される。  According to the second aspect of the present invention, a high-refractive-index hard coat layer formed on one surface of a plastic substrate by the photocurable composition according to the first aspect of the present invention, and a refractive index 1.20 to: Provided is an antireflection film in which low refractive index layers having L50 are sequentially laminated.
[0014] 本発明の反射防止フィルムにおいて、高屈折率ハードコート層の屈折率は 1. 60〜  In the antireflection film of the present invention, the high refractive index hard coat layer has a refractive index of 1.60 to
1. 75の範囲内であることが好ましぐ高屈折率ハードコート層の鉛筆硬度は 2H以上 であることが好ましい。  The pencil hardness of the high refractive index hard coat layer, which is preferably within the range of 1.75, is preferably 2H or more.
発明を実施するための最良の形態  BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[0015] まず、本発明の光硬化性組成物について説明する。 [0015] First, the photocurable composition of the present invention will be described.
[0016] 本発明の光硬化性組成物は、上記一般式(1)で示される化合物 (A)を含む光硬 化性材料、および 1. 60以上の屈折率を有するフィラー(B)を包含する。  [0016] The photocurable composition of the present invention includes a photocurable material containing the compound (A) represented by the general formula (1) and a filler (B) having a refractive index of 1.60 or more. I do.
[0017] 上記一般式(1)で示される化合物 (A)は、高い屈折率と優れたハードコート性を付 与する成分であり、ハロゲン原子を含まない場合には黄変化等が極めて低ぐ耐光 性に優れるものである。特に、上記一般式(1)で示される化合物 (A)のうち、重合性 不飽和二重結合基 1つあたりの数平均分子量が 300より大きいものは、優れたノヽード コート性が得られるため好ましい。  [0017] The compound (A) represented by the general formula (1) is a component that imparts a high refractive index and excellent hard coat properties. When no halogen atom is contained, the yellowing and the like are extremely low. It has excellent light fastness. In particular, among the compounds (A) represented by the above general formula (1), those having a number average molecular weight of more than 300 per polymerizable unsaturated double bond group have excellent node coatability. Therefore, it is preferable.
[0018] 一般式(1)において、 R1 !^は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基である In the general formula (1), R 1 ! ^ Are each independently a hydrogen atom or a methyl group
[0019] R4〜R6は、それぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキ レン基を示す。このアルキレン基が任意に有し得る置換基には、芳香族含有基 (例え ば、フエノキシ基)、ハロゲン原子、ヒドロキシル基が含まれる。アルキレン基は、 1〜8 個の炭素原子を有することが好ましい。 R6は、通常、置換基として 1つのヒドロキシル 基を有し、このヒドロキシル基は、通常、 R6が結合するァシル基の— O 基に対して j8位の炭素に結合している。 R 4 to R 6 each independently represent an unsubstituted or substituted, linear or branched alkylene group. The substituents that the alkylene group may optionally have include an aromatic-containing group (eg, a phenoxy group), a halogen atom, and a hydroxyl group. Preferably, the alkylene group has 1 to 8 carbon atoms. R 6 typically have one hydroxyl group as a substituent, the hydroxyl groups are usually of Ashiru groups R 6 are attached - are attached to j8-position carbon relative O group.
[0020] R7は、水素または 1価の有機基を表す。後者の有機基は、式: [0020] R 7 represents hydrogen or a monovalent organic group. The latter organic group has the formula:
R6— OC (O)— C (R3) =CH (ここで、 R6および R3は、一般式(1)で定義した通り)によって表される基である力、ま たは式— CH— C (OH) CH—O—R71 (ここで、 R71は、置換または非置換のビフェR 6 — OC (O) — C (R 3 ) = CH (Where R 6 and R 3 are groups defined by the general formula (1)) or the formula —CH—C (OH) CH—O—R 71 (where , R71 is a substituted or unsubstituted biphenyl
-ルである)で示される基であり得る。ビフエニルが任意に有し得る置換基の例には、 ヒドロキシル基、シァノ基およびビュル基が含まれる。 -Is a group represented by the formula: Examples of the substituents that the biphenyl may optionally have include a hydroxyl group, a cyano group and a bur group.
[0021] R8は、 4価の芳香族基である。芳香族基の例には、ベンゼン、ベンゾフエノン、ビフ ェニノレ、フエニルエーテル、ジフエニルスルホン、ジフエニルスルフイド、ペリレン、およ びナフタレンが含まれる。 R 8 is a tetravalent aromatic group. Examples of aromatic groups include benzene, benzophenone, biphenylene, phenyl ether, diphenylsulfone, diphenylsulfide, perylene, and naphthalene.
[0022] 本発明において、 R7および R8のいずれか一方はビフエ-ル基を含み、好ましくは R 7および R8のそれぞれがビフエ二ル基を含む。 In the present invention, one of R 7 and R 8 contains a biphenyl group, and preferably, each of R 7 and R 8 contains a biphenyl group.
[0023] 一般式(1)で示される化合物 (A)を製造するためには、まず、下記式 (A):  In order to produce the compound (A) represented by the general formula (1), first, the following formula (A):
[化 2]  [Formula 2]
Figure imgf000006_0001
Figure imgf000006_0001
[0024] (ここで、 R8は、一般式(1)で定義した通り)で示される芳香族テトラカルボン酸二無 水物を下記式 (B) : (Where R 8 is as defined in the general formula (1)) with an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (B):
CH =C (R1) COOR4OH CH = C (R 1 ) COOR 4 OH
2  2
(ここで、 R1および R4は、一般式(1)で定義した通り)で示される第 1のヒドロキシル基 含有 (メタ)アタリレートおよび下記式 (C): (Where R 1 and R 4 are as defined in the general formula (1)) and a first hydroxyl group-containing (meth) acrylate which has the following formula (C):
CH =C (R2) COOR5OH CH = C (R 2 ) COOR 5 OH
2  2
(ここで、 R2および R5は、一般式(1)で定義した通り)で示される第 2のヒドロキシル基 含有 (メタ)アタリレートと反応させて式 (D): (Where R 2 and R 5 are as defined in general formula (1)) and reacted with a second hydroxyl-containing (meth) atalylate of formula (D):
[化 3]
Figure imgf000007_0001
[Formula 3]
Figure imgf000007_0001
[0025] (ここで、
Figure imgf000007_0002
R5および R8は、一般式(1)で定義した通り)で示される化合物 を得ることができる。
[0025] (where,
Figure imgf000007_0002
R 5 and R 8 are as defined in general formula (1)).
[0026] 式 (A)で示される芳香族テトラカルボン酸二無水物の例には、ピロメリット酸二無水 物、ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水 、ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物 、ォキシジフタル酸二無水物、ジフエ-ルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフエ ニルスルフイドテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタ レンテトラカルボン酸二無水物が含まれる。これら芳香族テトラカルボン酸二無水物 のうち、ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物は、ビフエ-ル骨格を有するものであり、 ビフエニル骨格を化合物 (A)の分子内に効率よく導入でき、さらに化合物 (A)の屈 折率を 1. 57以上にするため特に好ましい。  Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (A) include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic acid Acid dianhydride, diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, diphenylsulfidetetracarboxylic dianhydride, perylenetetracarboxylic dianhydride, naphthalenetetracarboxylic dianhydride. Of these aromatic tetracarboxylic dianhydrides, biphenyltetracarboxylic dianhydride has a biphenyl skeleton, and can efficiently introduce a biphenyl skeleton into the molecule of compound (A). It is particularly preferable to make the refractive index of the compound (A) 1.57 or more.
[0027] 第 1および第 2のヒドロキシル基含有 (メタ)アタリレートは、同じであっても異なって いてもよい。そのようなヒドロキシル基含有 (メタ)アタリレートの例には、 2—ヒドロキシ ェチルアタリレート、 2—ヒドロキシェチルメタタリレート、 3—ヒドロキシプロピルアタリレ ート、 3—ヒドロキシプロピルメタタリレート、 4ーヒドロキシブチルアタリレート、 4ーヒドロ キシブチルメタタリレート、 2—ヒドロキシブチルアタリレート、 2—ヒドロキシブチルメタ タリレート、 2—ヒドロキシー3—フエノキシプロピルアタリレート、および 2—ヒドロキシ ー3—フエノキシプロピルメタタリレートが含まれる。  [0027] The first and second hydroxyl group-containing (meth) atalylates may be the same or different. Examples of such hydroxyl-containing (meth) acrylates include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and 2-hydroxy-3-phenoxy Contains cypropyl methacrylate.
[0028] 上記芳香族テトラカルボン酸二無水物と第 1および第 2のヒドロキシル基含有 (メタ) アタリレートとの反応は、芳香族テトラカルボン酸二無水物の有する 2つのカルボン酸 無水物基と第 1および第 2のヒドロキシル基含有 (メタ)アタリレートがそれぞれ有する ヒドロキシル基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば 、芳香族テトラカルボン酸二無水物と第 1および第 2のヒドロキシル基含有 (メタ)アタリ レートとを、シクロへキサノンのような有機溶媒中、 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0] - 7 ゥンデセンのような触媒の存在下、 50〜120°Cの温度で反応させることができる 。この場合、反応系に、メトキノン (methoquinone)のような重合禁止剤を添加すること ができる。 [0028] The reaction between the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the first and second hydroxyl group-containing (meth) acrylates is performed by reacting the two carboxylic anhydride groups of the aromatic tetracarboxylic dianhydride with The reaction with the hydroxyl groups of the first and second hydroxyl-containing (meth) acrylates, respectively, which is well known in the art. For example , An aromatic tetracarboxylic dianhydride and first and second hydroxyl group-containing (meth) acrylates in an organic solvent such as cyclohexanone in 1,8 diazabicyclo [5.4.0]-7 The reaction can be performed at a temperature of 50 to 120 ° C. in the presence of a catalyst such as dendecene. In this case, a polymerization inhibitor such as methoquinone can be added to the reaction system.
[0029] 上記反応後、反応生成物である式 (D)の化合物を含む反応混合物に、これを精製 することなぐ例えば、下記式 (E):  [0029] After the above reaction, the reaction mixture containing the compound of the formula (D), which is a reaction product, is purified without purifying it. For example, the following formula (E):
[化 4]  [Formula 4]
R°— CH2— CH-CH2 R ° — CH 2 — CH-CH 2
\ / 2 \ / 2
0  0
[0030] (ここで、 R。は、 CH =C (R3)— C (0) 0—基(ここで、 R3は、上記定義の通り)または (Where R. is a CHCC (R 3 ) —C (0) 0—group (where R 3 is as defined above) or
2  2
R71— 0—基 (ここで、 R71は、上記定義の通り)であるエポキシ基含有ィ匕合物を添カロ し、反応させて一般式(1)で示される化合物を得ることができる。 R 71 - 0- group (wherein, R 71 is defined above the street) can be obtained an epoxy group-containing I匕合product is then added Caro, a compound represented by reacting the general formula (1) .
[0031] 式 (E)で示される化合物の例には、グリシジルメタタリレート、グリシジルアタリレート のようなエポキシ基含有 (メタ)アタリレート、 o フエ-ルフエノールグリシジルエーテ ル、 p—フエ-ルフエノールグリシジルエーテル、モノスチレン化フエノールグリシジル エーテル、 4—シァノ 4—ヒドロキシビフエ-ルグリシジルエーテル、 4, 4'—ビフエノ ールモノグリシジルエーテル、 4, 4'ービフエノールジグリシジルエーテルのような芳 香族グリシジルエーテル化合物等が含まれる。  Examples of the compound represented by the formula (E) include epoxy group-containing (meth) atalylates such as glycidyl methacrylate and glycidyl acrylate, o-phenol glycidyl ether, and p-phenyl. Flavors such as phenol glycidyl ether, monostyrenated phenol glycidyl ether, 4-cyano 4-hydroxybiphenyl glycidyl ether, 4,4'-biphenol monoglycidyl ether, 4,4'-biphenol diglycidyl ether Group glycidyl ether compounds and the like.
[0032] 式 (D)で示される化合物と式 (E)で示される化合物との反応は、式 (D)で示される 化合物の有するカルボキシル基と式 (E)で示される化合物の有するエポキシ基との 反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、この反応は、ジメ チルベンジルァミン等のようなァミン触媒の存在下、 50〜120°Cの温度で行うことが できる。  [0032] The reaction between the compound represented by the formula (D) and the compound represented by the formula (E) is based on the carboxyl group possessed by the compound represented by the formula (D) and the epoxy group possessed by the compound represented by the formula (E) And is itself well known in the art. For example, this reaction can be performed at a temperature of 50 to 120 ° C. in the presence of an amine catalyst such as dimethylbenzylamine.
[0033] 一般式(1)で示される化合物 (A)を含む光硬化性組成物は、以下の方法で屈折率 とハードコート性が適宜調整できる。  The photocurable composition containing the compound (A) represented by the general formula (1) can appropriately adjust the refractive index and the hard coat property by the following method.
[0034] <屈折率とハードコート性を調整する方法(1) > 予め、 1分子中の重合性不飽和二重結合基、ビフエ-ル基の個数が異なる、複数 の一般式(1)で示される化合物 (A)を、別々に単体として調製しておき、後で任意の 割合でこれらの単体を混合することで、屈折率およびノヽードコート性を適宜調整でき る。この場合、単体の混合割合を容易に変えることができるため、目標となる屈折率 およびノヽードコート性の値力 予め把握できていない場合において、目標物性に近 づける検討を行 、やす 、と 、う意味で、非常に有用である。 <Method of Adjusting Refractive Index and Hard Coatability (1)> In advance, a plurality of compounds (A) represented by the general formula (1) having different numbers of polymerizable unsaturated double bond groups and biphenyl groups in one molecule are separately prepared as a single substance. By mixing these simple substances at an arbitrary ratio, the refractive index and the node coat property can be appropriately adjusted. In this case, since the mixing ratio of the simple substance can be easily changed, if the value of the target refractive index and the value of the node coat property cannot be grasped in advance, a study for approaching the target physical properties is performed. Very useful in a sense.
[0035] <屈折率とハードコート性を調整する方法 (2) > <Method of Adjusting Refractive Index and Hard Coatability (2)>
予め調製した式 (D)の化合物に式 (E)の化合物を反応させる際に、複数種の式 (E )の化合物(例えば、 Rが CH =C (R3)— C (0) 0—基である式 (E)の化合物と、 R° When reacting the compound of the formula (E) with the compound of the formula (D) prepared in advance, a plurality of compounds of the formula (E) (for example, R is CH = C (R 3 ) —C (0) 0— A compound of formula (E)
2  2
が R71— O—基である化合物)を、混合して添加し、反応させる。このとき、種の式 (E) の化合物の混合割合を変えることで、屈折率とハードコート性を適宜調整できる。こ の場合、一段の反応で、複数種の化合物 (A)の混合物が得られる。したがって、この 方法は、目標となる屈折率およびノ、ードコート性の値力 予め大まかに把握できてい る場合において、上記調整方法(1)に比べ、作成工程が短縮できるという意味で、非 常に有用である。 Is a R 71 —O— group), mixed and added to react. At this time, the refractive index and the hard coat property can be appropriately adjusted by changing the mixing ratio of the compound of the formula (E). In this case, a mixture of a plurality of types of compounds (A) is obtained in a single-step reaction. Therefore, this method is very useful in the sense that the production process can be shortened compared to the above-mentioned adjustment method (1) when the target refractive index and the value of the coating property can be roughly grasped in advance. It is.
[0036] また、一般式(1)で示される化合物 (A)において、 R7が水素原子である化合物は、 式(D)で示される化合物のカルボキシル基のモル数よりも少な!/、モル数の式(E)の ィ匕合物を反応させること〖こより得ることができる。 Further, in the compound (A) represented by the general formula (1), the compound in which R 7 is a hydrogen atom has a smaller! /, Less than the number of moles of the carboxyl group of the compound represented by the formula (D) The reaction can be performed by reacting a number of formulas (E).
[0037] なお、本発明にお ヽて、光硬化性材料が、複数種の化合物 (A)の混合物から構成 される場合、 R7および R8の少なくとも一方がビフエ-ル骨格を含む化合物は、該混合 物の合計量の 95モル%以上を占めることが好ましい。同様に、一般式(1)で示され る化合物 (A)において、 R7が水素原子である化合物は、該混合物の合計量の 5モル %以下を占めることが好ましい。 In the present invention, when the photocurable material is composed of a mixture of a plurality of types of compounds (A), the compound in which at least one of R 7 and R 8 contains a biphenyl skeleton is It preferably accounts for 95 mol% or more of the total amount of the mixture. Similarly, in the compound (A) represented by the general formula (1), the compound in which R 7 is a hydrogen atom preferably accounts for 5 mol% or less of the total amount of the mixture.
[0038] カルボキシル基を有する一般式(1)の化合物は、アルカリ現像性を有するので、光 硬化後に未硬化部分をアルカリ現像してハードコート層を形成する場合に好適に用 いることができる。また、このカルボキシル基を中和して水性ィ匕させることで、水性の 光硬化性高屈折率ハードコート材料として使用することもできる。また、このカルボキ シル基を有する化合物は、一般的な熱硬化剤、たとえば、エポキシ系、イソシァネー ト系、ビニルエーテル系等と混合し、熱硬化させることにより、光硬化性兼熱硬化性 高屈折率ノヽードコート材料として使用することもできる。 [0038] The compound of the general formula (1) having a carboxyl group has alkali developability, and thus can be suitably used when an uncured portion is alkali-developed after photocuring to form a hard coat layer. Further, by neutralizing this carboxyl group and making it aqueous-based, it can be used as an aqueous photocurable high refractive index hard coat material. The compound having a carboxyl group may be a general thermosetting agent, for example, an epoxy or isocyanate. By mixing and heat-curing with a terpolymer, vinyl ether or the like, it can also be used as a photo-curable and thermo-curable high refractive index node coat material.
[0039] 屈折率が 1. 60以上のフィラー(B)は、ハードコート層の表面抵抗値を下げたり、屈 折率を上げる働きをする成分である。フィラーの屈折率が 1. 60より低いと、一般式(1 )で示される化合物 (A)よりも屈折率が低くなつてしま 、、高屈折率化の働きが無くな つてしまう。  [0039] The filler (B) having a refractive index of 1.60 or more is a component that functions to lower the surface resistance of the hard coat layer and increase the refractive index. When the refractive index of the filler is lower than 1.60, the refractive index is lower than that of the compound (A) represented by the general formula (1), and the effect of increasing the refractive index is lost.
[0040] フィラー(B)としては、例えば、金属酸化物、金属フッ化物、これらの混合物、複合 化合物が挙げられるが、化学的安定性に優れ、導電性が高いため、金属酸化物が 好適に用いられる。  [0040] Examples of the filler (B) include metal oxides, metal fluorides, mixtures thereof, and composite compounds. Metal oxides are preferably used because of their excellent chemical stability and high conductivity. Used.
[0041] 金属酸化物としては、 TiO (屈折率: 2. 3〜2. 7)、 Y O (屈折率: 1. 9)、 La O (  As metal oxides, TiO (refractive index: 2.3 to 2.7), Y O (refractive index: 1.9), La O (
2 2 3 2 3 屈折率: 2. 0)、ZrO (屈折率: 2. 1)、A1 0 (屈折率: 1. 6)、Nb O (屈折率: 1. 9  2 2 3 2 3 Refractive index: 2.0), ZrO (refractive index: 2.1), A10 (refractive index: 1.6), NbO (refractive index: 1.9)
2 2 3 2 3  2 2 3 2 3
〜2. 1)、Ιη Ο (屈折率: 1. 9〜2. l)、Sn O (屈折率: 1. 9〜2. 1)、111 311複合  ~ 2.1), Ιη Ο (refractive index: 1.9 to 2.1), SnO (refractive index: 1.9 to 2.1), 111 311 composite
2 3 2 3  2 3 2 3
酸化物(ITO、屈折率: 1. 9〜2. 1)、ΖηΟ (屈折率: 2. 0〜2. l)、Sb O (屈折率:  Oxide (ITO, refractive index: 1.9 to 2.1), {η} (refractive index: 2.0 to 2.1), SbO (refractive index:
2 5  twenty five
1. 8〜2. 1)、 CaO (屈折率: 1. 75〜: L 90)、 BaO (屈折率: 1. 80〜: L 21)、Sb— Sn複合酸化物(屈折率: 1. 70〜: L 90)、 Sb— Zn複合酸化物(屈折率: 1. 70〜: L 90)、Zn— A1複合酸化物(屈折率: 1. 80〜: L . 21)、 P— Sn複合酸化物(屈折率: 1 . 70〜: L 90)等が挙げられる。また、金属酸ィ匕物以外のフイラ一としては、炭酸カル シゥム、炭酸マグネシウム、水酸ィ匕アルミニウム等が挙げられる。これらのフイラ一は、 1種を単独で、または 2種以上の混合物として用いられる。  1.8 to 2.1), CaO (refractive index: 1.75 to: L90), BaO (refractive index: 1.80 to: L21), Sb—Sn composite oxide (refractive index: 1.70 ~: L90), Sb-Zn composite oxide (refractive index: 1.70 ~: L90), Zn-A1 composite oxide (refractive index: 1.80 ~: L.21), P-Sn composite oxide (Refractive index: 1.70 to: L 90). In addition, examples of the filter other than the metal oxide film include calcium carbonate, magnesium carbonate, aluminum hydroxide and the like. These fillers are used alone or as a mixture of two or more.
[0042] 本発明の光硬化性組成物中の化合物 (A)の配合量は、光硬化性組成物の固形分 の全量を基準として、 6〜70重量%の範囲内であることが好ましぐ 6〜49重量%の 範囲内であることがより好ましい。化合物 (A)の配合量が上記範囲外の場合には、光 硬化性組成物のハードコート性が低くなる。  [0042] The compounding amount of the compound (A) in the photocurable composition of the present invention is preferably in the range of 6 to 70% by weight based on the total solid content of the photocurable composition. More preferably, it is in the range of 6 to 49% by weight. When the compounding amount of the compound (A) is out of the above range, the hard coat property of the photocurable composition becomes low.
[0043] また、フィラー(B)の配合量は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、 30 〜80重量%の範囲内であることが好ましぐ 50〜80重量%の範囲内であることがよ り好ましい。フィラー(B)の配合量が 30重量%未満の場合には、高屈折率ハードコ ート層の屈折率が低くなり、 80重量%を超える場合には、高屈折率ハードコート層の 耐擦傷性が低くなる。 [0044] 本発明の光硬化性組成物を紫外線により硬化させる場合は、該組成物に光重合 開始剤を加える。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤はなくても良い。 The amount of the filler (B) is preferably in the range of 30 to 80% by weight, and more preferably in the range of 50 to 80% by weight, based on the total solid content of the photocurable composition. More preferably, it is within. When the amount of the filler (B) is less than 30% by weight, the refractive index of the high-refractive-index hard coat layer is low. When the amount exceeds 80% by weight, the scratch resistance of the high-refractive-index hard coat layer is reduced. Becomes lower. [0044] When the photocurable composition of the present invention is cured by ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is added to the composition. When curing with an electron beam, an initiator may not be necessary.
[0045] 光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するもの であれば特に限定はなぐ例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、ァセ トフエノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ァシルフォスフィンォキシド化合物、ァ ミノカルボ二ルイ匕合物等が使用できる。  The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has a function of initiating vinyl polymerization by photoexcitation. For example, a monocarbonyl compound, a dicarbonyl compound, an acetophenone compound, a benzoin ether compound, an acylphosphine Oxide compounds, aminocarboniyl conjugates and the like can be used.
[0046] 具体的にはモノカルボ-ル化合物としては、ベンゾフエノン、 4ーメチルーベンゾフ ェノン、 2, 4, 6 トリメチルベンゾフエノン、メチルー o ベンゾィルベンゾエート、 4 フエ-ルペンゾフエノン、 4— (4—メチルフエ-ルチオ)フエ-ルーエネタノン、 3, 3' —ジメチル一 4—メトキシベンゾフエノン、 4— (1, 3—アタリロイル一 1, 4, 7, 10, 13 —ペンタォキソトリデシル)ベンゾフエノン、 3, 3', 4, 4'—テトラ(t—ブチルペルォキ シカルボ-ル)ベンゾフエノン、 4 ベンゾィル N, N, N トリメチル 1—プロパン ァミン塩酸塩、 4 -ベンゾィル N, N ジメチル N— 2— ( 1 ォキソ 2—プロべ -ルォキシェチル)メタアンモ-ゥム蓚酸塩、 2— Z4 イソ プロピルチオキサントン 、 2, 4 ジェチルチオキサントン、 2, 4 ジクロ口チォキサントン、 1 クロロー 4ープ 口ポキシチォキサントン、 2 ヒドロキシー3—(3, 4 ジメチルー 9 ォキソ 9Hチォ キサントン— 2—イロキシ— N, N, N トリメチル—1—プロパンァミン塩酸塩、ベンゾ ィルメチレン 3—メチルナフト( 1 , 2— d)チアゾリン等が挙げられる。  [0046] Specifically, examples of the monocarbol compound include benzophenone, 4-methyl-benzophenone, 2,4,6 trimethylbenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, and 4- (4- Methylphenylthio) fu-luenetanone, 3,3'-dimethyl-1-methoxybenzophenone, 4- (1,3-atalyloyl-1,4,7,10,13-pentaoxotridecyl) benzophenone, 3 , 3 ', 4, 4'-tetra (t-butylperoxycarbol) benzophenone, 4-benzoyl N, N, N trimethyl 1-propanamine hydrochloride, 4-benzoyl N, N dimethyl N-2- (1-oxo 2 —Pro-Loxoshetyl) meta-ammonium oxalate, 2— Z4 isopropylthioxanthone, 2,4 getyl thioxanthone, 2,4 dichloromouth thioxanthone, 1 chloro-4b mouth Thioxanthone, 2-hydroxy-3- (3,4 dimethyl-9-oxo 9Hthioxanthone-2-yloxy-N, N, N trimethyl-1-propanamine hydrochloride, benzoylmethylene 3-methylnaphtho (1,2-d) thiazoline and the like Can be
[0047] ジカルボ-ル化合物としては、 1, 7, 7 トリメチル一ビシクロ [2, 1, 1]ヘプタン一 2 , 3 ジオン、ベンザイル、 2 ェチルアントラキノン、 9, 10 フエナントレンキノン、メ チルー (X ォキソベンゼンアセテート、 4 フエ-ルペンザイル等が挙げられる。  [0047] Examples of the dicarbon compounds include 1,7,7 trimethyl-1-bicyclo [2,1,1] heptane-1,2,3-dione, benzyl, 2-ethylanthraquinone, 9,10 phenanthrenequinone, methyl ( X-oxobenzene acetate, 4-phenylbenzoyl and the like.
[0048] ァセトフエノン化合物としては、 2 ヒドロキシ一 2—メチル 1—フエ-ルプロパン一 1—オン、 1— (4—イソプロピルフエ-ル) 2 ヒドロキシ一 2—メチル 1—フエ-ルプ 口パン一 1 オン、 1— (4 イソプロピルフエ-ル) 2 -ヒドロキシ 2 メチル 1 フ ェニルプロパン一 1—オン、 1—ヒドロキシ一シクロへキシル一フエ二ルケトン、 2—ヒド ロキシ 2—メチルー 1ースチリルプロパン 1 オン重合物、ジェトキシァセトフエノ ン、ジブトキシァセトフエノン、 2, 2—ジメトキシー 1, 2—ジフエニルェタン 1 オン、 2, 2 ジエトキシ—1, 2ジフエニルェタン 1 オン、 2—メチルー 1 [4—(メチル チチォォ))フフエエ--ルル]]—— 22——モモルルホホリリノノププロロパパンン—— 11 オオンン、、 22 --ベベンンジジルル -- 22--ジジメメチチルルアアミミ ノノーー 11—— ((44 モモルルホホリリノノフフエエ--ルル))ブブタタンン一一 11——オオンン、、 11——フフエエ二二ルルーー 11,, 22ププロロパパンンジジォォ ンン—— 22—— ((oo エエトトキキシシカカルルボボ--ルル))ォォキキシシムム、、 33,, 66 ビビスス((22——メメチチルル——22 モモルルホホリリノノ ププロロパパノノ --ルル)) 99 ブブチチルルカカルルババゾゾーールル等等がが挙挙げげらられれるる。。 [0048] Examples of the acetophenone compound include 2-hydroxy-1-methyl-1-phenylpropane-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-12-methyl-1-phenyl-1-on , 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one, 1-hydroxy-1-cyclohexyl-phenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-styrylpropane Product, ethoxyacetophenone, dibutoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane 1one, 2,2 diethoxy-1,2 diphenylethane 1one, 2-methyl-1 [4- (methyl Chichio)) Fuhue-Lulu]] —— 22——Momorlhoholinolinopropropanapan——11 Onon, 22—Bevendidylyl—22—Didimeticityl Aluminimi Non—11—— ((44 Momorulhoholinolinofue-elu)) Butatan 11-11—Onon, 11—22,11,22 Propolopanpandione——22—— ((oo ethoxyethoxy) 33, 66 Bibiss ((22-Memethytyl--22 momollufoholino-no-propropapano-no-rulu)) 99 Bubutyril luka-karlubazozzolulu and the like. I'm terrified. .
[0049] ベベンンゾゾイインンエエーーテテルル化化合合物物ととししててはは、、ベベンンゾゾイインン、、ベベンンゾゾイインンメメチチルルエエーーテテルル、、ベベンン ゾゾイインンェェチチルルエエーーテテルル、、ベベンンゾゾイインンイイソソププロロピピルルエエーーテテルル、、ベベンンゾゾイインンイイソソブブチチルルエエーー
Figure imgf000012_0001
[0049] As the compound of bevenzozoinine eateller, bebenzozoinine, bevenzozoinmemethyirurate ether, bevenzozoinein Tetyl-leuate ether, bebenzozoininisosopprolopipirulateatel, bebenzozoininisosobbutytylate
Figure imgf000012_0001
[0050] ァシルフォスフィンォキシド化合物としては、 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルジフエ- ルホスフィンォキシド、 4— n—プロピルフエ-ルージ(2, 6 ジクロロべンゾィル)ホス フィンォキシド等が挙げられる。 [0050] Examples of the acylphosphinoxide compound include 2,4,6 trimethylbenzoyldiphenylphosphinoxide, 4-n-propylphenyl-l- (2,6 dichlorobenzoyl) phosphinoxide and the like. .
[0051] ァミノカルボ-ル化合物としては、メチルー 4 (ジメチルァミノ)ベンゾエート、ェチ ルー 4 (ジメチルァミノ)ベンゾエート 2—nブトキシェチルー 4 (ジメチルァミノ)ベ ンゾエート、イソアミルー 4 (ジメチルァミノ)ベンゾエート、 2- (ジメチルァミノ)ェチ ルベンゾエート、 4, 4'—ビス一 4—ジメチルァミノべンゾフエノン、 4, 4'—ビス一 4— ジェチルァミノべンゾフエノン、 2, 5'—ビス(4 ジェチルァミノベンザル)シクロペンタ ノン等が挙げられる。 [0051] Examples of the aminocarbon compounds include methyl-4 (dimethylamino) benzoate, ethyl-4 (dimethylamino) benzoate 2-n-butoxyshethyl-4 (dimethylamino) benzoate, isoamyl-4 (dimethylamino) benzoate, and 2- (dimethylamino) ethyl. Lebenzoate, 4,4'-bis-4-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-bis-4-ethylethylaminobenzophenone, 2,5'-bis (4 ethylaminobenzal) cyclopentanone, etc. .
[0052] 光重合開始剤は上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力が あればどのようなものでも構わない。これらは 1種を単独で、または 2種以上を組み合 わせて用いることができる。  [0052] The photopolymerization initiator is not limited to the above compounds, and any photopolymerization initiator may be used as long as it has the ability to initiate polymerization by ultraviolet light. These can be used alone or in combination of two or more.
[0053] 光重合開始剤の使用量に特に制限はないが、被硬化物の乾燥重量 100重量部に 対して 1〜20重量部の範囲内で使用することが好ましい。  [0053] The amount of the photopolymerization initiator used is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the dry weight of the object to be cured.
[0054] また、増感剤として公知の有機アミン等を加えることもできる。  [0054] In addition, a known organic amine or the like can be added as a sensitizer.
[0055] さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかにカチオン重合用の開始剤も併用する ことができる。 [0055] In addition to the radical polymerization initiator, an initiator for cationic polymerization may be used in combination.
[0056] 本発明の光硬化性組成物には、前述の一般式(1)で示される化合物 (A)以外に、 その他のバインダー榭脂、光硬化性成分を加えても良!、。  The photocurable composition of the present invention may contain other binder resin and photocurable component in addition to the compound (A) represented by the general formula (1).
[0057] ノインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレァ樹脂、ポリウレタンゥ レア榭脂、ポリエステル榭脂、ポリエーテル榭脂、ポリカーボネート榭脂、エポキシ榭 脂、アミノ榭脂、スチレン榭脂、アクリル榭脂、メラミン榭脂、ポリアミド榭脂、フエノール 榭脂、ビュル榭脂等が挙げられる。これらの榭脂は、単独で添加しても良いし、 2種 類以上の複数の榭脂を添加しても良い。ノインダー榭脂は、光硬化性組成物の固形 分の全量を基準として、 20重量%以下の範囲内で配合することが好ましい。 [0057] Examples of the noinder resin include polyurethane resin, polyurethane resin, polyurethane rare resin, polyester resin, polyether resin, polycarbonate resin, and epoxy resin. Fat, amino resin, styrene resin, acrylic resin, melamine resin, polyamide resin, phenol resin, bur resin, and the like. These resins may be added alone or a plurality of two or more kinds of resins may be added. The noinder resin is preferably blended in a range of 20% by weight or less based on the total amount of the solid content of the photocurable composition.
[0058] 光硬化性成分としては、例えば、(メタ)アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、ァ ルキルビニルエーテル化合物、 aーォレフイン化合物、ビニル化合物、ェチニルイ匕 合物等の重合性不飽和二重結合基を有する化合物を用いることができる。これらの 重合性不飽和二重結合基を有する化合物は、さらに水酸基、アルコキシ基、カルボ キシル基、アミド基、シラノール基等の官能基を有していても良い。化合物 (A)以外 の光硬化性成分は、光硬化性組成物の固形分の全量を基準として、 49重量%以下 の範囲内、特に 6〜49重量%の範囲内で配合することが好ましい。 As the photocurable component, for example, a polymerizable unsaturated double bond group such as a (meth) acrylic compound, a fatty acid vinyl compound, an alkyl vinyl ether compound, an a-olefin compound, a vinyl compound, and an ethynyl compound is used. Can be used. These compounds having a polymerizable unsaturated double bond group may further have a functional group such as a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an amide group and a silanol group. The photocurable component other than the compound (A) is preferably blended in an amount of 49% by weight or less, particularly 6 to 49% by weight, based on the total solid content of the photocurable composition.
[0059] (メタ)アクリル系化合物としては、ベンジル (メタ)アタリレート、アルキル系(メタ)ァク リレート、アルキレングリコール系(メタ)アタリレート、カルボキシル基と重合性不飽和 二重結合基とを有する化合物、水酸基を有する (メタ)アクリル系化合物、窒素含有( メタ)アクリル系化合物等がある。また、単官能、多官能の化合物を適宜使用すること ができる。塗膜硬度の点からは、多官能のものが好ましい。  [0059] The (meth) acrylic compound includes benzyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, alkylene glycol (meth) acrylate, a carboxyl group and a polymerizable unsaturated double bond group. Compounds, hydroxyl-containing (meth) acrylic compounds, and nitrogen-containing (meth) acrylic compounds. In addition, monofunctional or polyfunctional compounds can be appropriately used. From the viewpoint of coating film hardness, polyfunctional ones are preferred.
[0060] 単官能の (メタ)アクリル系化合物を具体的に例示すると、アルキル系(メタ)アタリレ ートとしては、メチル (メタ)アタリレート、ェチル (メタ)アタリレート、プロピル (メタ)アタリ レート、ブチル (メタ)アタリレート、ペンチル (メタ)アタリレート、 2—ェチルへキシル (メ タ)アタリレート、ヘプチル (メタ)アタリレート、へキシル (メタ)アタリレート、ォクチル (メ タ)アタリレート、ノ-ル (メタ)アタリレート、デシル (メタ)アタリレート、ゥンデシル (メタ) アタリレート、ドデシル (メタ)アタリレート、トリデシル (メタ)アタリレート、テトラデシル (メ タ)アタリレート、ペンタデシル (メタ)アタリレート、へキサデシル (メタ)アタリレート、へ プタデシル (メタ)アタリレート、ォクタデシル (メタ)アタリレート、ノナデシル (メタ)アタリ レート、ィコシル (メタ)アタリレート、ヘンィコシル (メタ)アタリレート、ドコシル (メタ)ァク リレート等の炭素数 1〜22のアルキル (メタ)アタリレートが挙げられる。極性の調節を 目的とする場合には、炭素数 2〜10、さらに好ましくは炭素数 2〜8のアルキル基を 有するアルキル基含有アタリレートまたは対応するメタタリレートを用いることが好まし い。また、レべリング性の調節等を目的とする場合には、炭素数 6以上のアルキル基 を有するアルキル (メタ)アタリレートを用いることが好ま 、。 [0060] Specific examples of monofunctional (meth) acrylic compounds include alkyl (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and propyl (meth) acrylate. , Butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meta) acrylate, heptyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, Knol (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate Rate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meta) Tarireto, nonadecyl (meth) Atari rate, Ikoshiru (meth) Atari rate, Henikoshiru (meth) Atari rate, alkyl (meth) Atari rate 1 to 22 carbon atoms such as docosyl (meth) § click Relate. When the purpose is to control the polarity, it is preferable to use an alkyl group-containing acrylate having a C 2 to C 10, more preferably C 2 to C 8 alkyl group, or a corresponding methacrylate. Yes. For the purpose of controlling the leveling property, it is preferable to use an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 6 or more carbon atoms.
また、アルキレングリコール系(メタ)アタリレートとしては、ジエチレングリコールモノ( メタ)アタリレート、トリエチレングリコールモノ (メタ)アタリレート、テトラエチレングリコー ルモノ (メタ)アタリレート、へキサエチレングリコールモノ(メタ)アタリレート、ポリエチレ ングリコールモノ(メタ)アタリレート、ジプロピレングリコールモノ (メタ)アタリレート、トリ プロピレングリコールモノ(メタ)アタリレート、テトラプロピレングリコールモノ(メタ)ァク リレート、ポリテトラメチレングリコール (メタ)アタリレート等の末端に水酸基を有し、ポリ ォキシアルキレン鎖を有するモノアタリレートまたは対応するモノメタタリレート、メトキ シエチレングリコール (メタ)アタリレート、メトキシジエチレングリコール (メタ)アタリレー ト、メトキシトリエチレングリコール (メタ)アタリレート、メトキシテトラエチレングリコール( メタ)アタリレート、エトキシテトラエチレングリコール (メタ)アタリレート、プロポキシテト ラエチレングリコール (メタ)アタリレート、 n—ブトキシテトラエチレングリコール (メタ)ァ タリレート、 n—ペンタキシテトラエチレングリコール (メタ)アタリレート、トリプロピレング リコール (メタ)アタリレート、テトラプロピレングリコール (メタ)アタリレート、メトキシトリプ ロピレンダリコール (メタ)アタリレート、メトキシテトラプロピレングリコール (メタ)アタリレ ート、エトキシテトラプロピレングリコール (メタ)アタリレート、プロポキシテトラプロピレ ングリコール (メタ)アタリレート、 n—ブトキシテトラプロピレングリコール (メタ)アタリレ ート、 n—ペンタキシテトラプロピレングリコール (メタ)アタリレート、ポリテトラメチレング リコール (メタ)アタリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール (メタ)アタリレート、メト キシポリエチレングリコール (メタ)アタリレート、エトキシポリエチレングリコール (メタ) アタリレート等の末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアク リレートまたは対応するモノメタタリレート、フエノキシジエチレングリコール (メタ)アタリ レート、フエノキシエチレングリコール (メタ)アタリレート、フエノキシトリエチレングリコ ール (メタ)アタリレート、フエノキシテトラエチレングリコール (メタ)アタリレート、フエノ キシへキサエチレングリコール (メタ)アタリレート、フエノキシポリエチレングリコール( メタ)アタリレート、フエノキシテトラプロピレングリコール (メタ)アタリレート等の末端に フエノキシまたはァリールォキシ基を有するポリオキアルキレン系アタリレートまたは対 応するメタアタリレートが挙げられる。 Examples of the alkylene glycol-based (meth) acrylate include diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, and hexaethylene glycol mono (meth) acrylate. Rate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, dipropylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol mono (meth) acrylate, tetrapropylene glycol mono (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (meth) Monoatarylate having a hydroxyl group at the terminal and having a polyoxyalkylene chain, such as acrylate, or the corresponding monomethacrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, or methoxydiethylene. Glycol (meth) atalylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, ethoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, propoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, n— Butoxytetraethylene glycol (meta) acrylate, n-pentaxytetraethylene glycol (meta) acrylate, tripropylene glycol (meta) acrylate, tetrapropylene glycol (meth) acrylate, methoxy propylene glycol (meta) Atharylate, methoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, ethoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate, propoxytetrapropylene glycol (meth) Atari rate, n - butoxy tetrapropylene glycol (meth) Atarire over preparative, n- penta alkoxy tetrapropylene glycol (meth) Atari rate, polytetramethylene grayed recall (meth) Atari rate, methoxy polytetramethylene glycol (meth) Atari Rate , Methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, etc. having a terminal alkoxy group and a monooxylate having a polyoxyalkylene chain or the corresponding monomethacrylate, phenoxydiethylene glycol ( (Meta) acrylate, phenoxyethylene glycol (meth) atalylate, phenoxytriethylene glycol (meth) atalylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) atalylate, Polyoxyalkylene-based acrylates having a phenoxy or aryloxy group at a terminal such as enoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetrapropylene glycol (meth) acrylate Or pair Corresponding meta-atalylates are mentioned.
[0062] さらに、カルボキシル基及び重合性不飽和二重結合基を有する化合物としては、マ レイン酸、フマル酸、ィタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアル ケ-ルモノエステル、フタル酸 j8 - (メタ)アタリロキシェチルモノエステル、イソフタル 酸 j8— (メタ)アタリロキシェチルモノエステル、コハク酸 j8 - (メタ)アタリロキシェチル モノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等が挙げられる。  [0062] Further, as the compound having a carboxyl group and a polymerizable unsaturated double bond group, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, or an alkyl or alkyl monoester thereof, phthalic acid j8 -(Meth) ataliloxityl monoester, isophthalic acid j8— (meth) atariloxityl monoester, succinic acid j8-(meth) atariloxityl monoester, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamon Acids and the like.
[0063] 水酸基含有 (メタ)アクリル系化合物としては、 2—ヒドロキシェチル (メタ)アタリレート 、 2—ヒドロキシプロピル (メタ)アタリレート、 4—ヒドロキシブチル (メタ)アタリレート、グ リセロールモノ(メタ)アタリレート、 4—ヒドロキシビュルベンゼン、 2—ヒドロキシ一 3— フエノキシプロピル (メタ)アタリレート等が挙げられる。  [0063] Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylic compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and glycerol mono (meth) ) Acrylate, 4-hydroxybutylbenzene, 2-hydroxy-13-phenoxypropyl (meth) acrylate.
[0064] 窒素含有 (メタ)アクリル系化合物としては、(メタ)アクリルアミド、 N—メチロール (メ タ)アクリルアミド、 N—メトキシメチル—(メタ)アクリルアミド、 N—エトキシメチル—(メ タ)アクリルアミド、 N—プロポキシメチル—(メタ)アクリルアミド、 N—ブトキシメチル— (メタ)アクリルアミド、 N—ペントキシメチルー(メタ)アクリルアミド等のモノアルキロー ル (メタ)アクリルアミド、 N, N—ジ (メチロール)アクリルアミド、 N—メチロール— N— メトキシメチル (メタ)アクリルアミド、 N, N—ジ (メチルール)アクリルアミド、 N—ェトキ シメチルー N—メトキシメチルメタアクリルアミド、 N, N—ジ(エトキシメチル)アクリルァ ミド、 N—ェトキシメチルー N—プロポキシメチルメタアクリルアミド、 N, N—ジ(プロボ キシメチル)アクリルアミド、 N—ブトキシメチルー N— (プロボキシメチル)メタアクリル アミド、 N, N—ジ(ブトキシメチル)アクリルアミド、 N—ブトキシメチル— N— (メトキシ メチル)メタアクリルアミド、 N, N—ジ(ペントキシメチル)アクリルアミド、 N—メトキシメ チル— N— (ペントキシメチル)メタアクリルアミド等のジアルキロール (メタ)アクリルァ ミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル (メタ)アタリレート、ジェ チルアミノエチル (メタ)アタリレート、メチルェチルアミノエチル (メタ)アタリレート、ジメ チルアミノスチレン、ジェチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和 化合物および対イオンとして Cl_、 Br―、厂等のハロゲンイオンまたは QS03— (Q :炭 素数 1〜12のアルキル基)を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合 [0064] Nitrogen-containing (meth) acrylic compounds include (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methoxymethyl- (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl- (meth) acrylamide, -Propoxymethyl- (meth) acrylamide, N-butoxymethyl- (meth) acrylamide, N-pentoxymethyl- (meth) acrylamide, etc., monoalkylol (meth) acrylamide, N, N-di (methylol) acrylamide, N-methylol — N— methoxymethyl (meth) acrylamide, N, N—di (methylol) acrylamide, N—ethoxymethyl-N-methoxymethyl methacrylamide, N, N—di (ethoxymethyl) acrylamide, N—ethoxymethyl—N-propoxymethyl Methacrylamide, N, N-di ( (Roxymethyl) acrylamide, N-butoxymethyl-N— (propoxymethyl) methacrylamide, N, N—di (butoxymethyl) acrylamide, N—butoxymethyl—N— (methoxymethyl) methacrylamide, N, N— Acrylamide unsaturated compounds such as dialkylol (meth) acrylamide such as di (pentoxymethyl) acrylamide, N-methoxymethyl-N- (pentoxymethyl) methacrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and methylamino ethyl (meth) Atari rates, methyl E chill aminoethyl (meth) Atari rate, dimethyl chill aminostyrene, Cl _ unsaturated compound and counterions having a dialkylamino group such as GETS chill aminostyrene, Br @ -, the厂等Halogen ion or QS03— (Q: carbon number 1-1 Dialkylamino group-containing unsaturated compound having 2 alkyl groups)
物の 4級アンモ-ゥム塩等がある。 [0065] さらに、その他の不飽和化合物としては、パーフルォロメチルメチル (メタ)アタリレー ト、パーフルォロェチルメチル(メタ)アタリレート、 2—パーフルォロブチルェチル(メタ )アタリレート、 2—パーフルォ口へキシルェチル (メタ)アタリレート、 2—パーフルォロ ォクチルェチル (メタ)アタリレート、 2—パーフルォロイソノ-ルェチル (メタ)アタリレ ート、 2—パーフルォロノ-ルェチル (メタ)アタリレート、 2—パーフルォロデシルェチ ル(メタ)アタリレート、パーフルォロプロピルプロピル(メタ)アタリレート、パーフルォロ ォクチルプロピル (メタ)アタリレート、パーフルォロォクチルァミル (メタ)アタリレート、 パーフルォロォクチルゥンデシル (メタ)アタリレート等の炭素数 1〜20のパーフルォ 口アルキル基を有するパーフルォロアルキルアルキル (メタ)アタリレート類を挙げるこ とがでさる。 There is a quaternary ammonium salt of the product. [0065] Further, other unsaturated compounds include perfluoromethylmethyl (meth) atalylate, perfluoroethylmethyl (meth) atalylate, and 2-perfluorobutylethyl (meth) atalyte. Rate, 2-perfluoro mouth hexylethyl (meta) acrylate, 2-perfluorooctylethyl (meta) acrylate, 2-perfluoroisono-letyl (meta) acrylate, 2-perfluorono-letyl (meta) acrylate , 2—Perfluorodecyl ethyl (meth) acrylate, perfluoropropyl propyl (meth) acrylate, perfluorooctyl propyl (meth) acrylate, perfluoro octyl propyl (meth) acrylate, Perfluoroalkyls with 1 to 20 carbon atoms, such as perfluorooctyldecyl (meta) acrylate Par Full O b alkyl (meth) Atari rate class with Le group leaves with Ageruko transgression.
[0066] また、パーフルォロブチルエチレン、パーフルォ口へキシルエチレン、パーフルォロ ォクチルエチレン、パーフルォロデシルエチレン等のパーフルォロアルキル、アルキ レン類等のパーフルォロアルキル基含有ビュルモノマー、ビュルトリクロルシラン、ビ Further, perfluoroalkylethylene such as perfluorobutylethylene, perfluorohexylethylene, perfluorooctylethylene, and perfluorodecylethylene, and perfluoroalkyl group-containing butyl monomers such as alkylenes; Bull trichlorosilane, bi
-ルトリス(j8—メトキシエトキシ)シラン、ビュルトリエトキシシラン、 y - (メタ)アタリ口 キシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビュルィ匕合物及びその誘 導体、グリシジノレアタリレート、 3, 4 エポキシシクロへキシノレアタリレート等のグリシジ ル基含有アタリレートが挙げられる。 -Butyl conjugates containing alkoxysilyl groups such as tris (j8-methoxyethoxy) silane, burtriethoxysilane, y- (meth) atalioxypropyl propyltrimethoxysilane and derivatives thereof, glycidino oleatalylate, 4 Glycidyl group-containing atalylates such as epoxycyclohexynoleate tallate.
[0067] 脂肪酸ビュル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビュル、へキ サン酸ビュル、力プリル酸ビュル、ラウリル酸ビュル、パルチミン酸ビュル、ステアリン 酸ビニル等が挙げられる。 Examples of the fatty acid bur compound include vinyl acetate, vinyl butyrate, butyl propionate, hexyl acrylate, butyl purylate, butyl laurate, butyl palmitate, and vinyl stearate.
[0068] アルキルビュルエーテル化合物としては、ブチルビ-ルエーテル、ェチルビ-ルェ 一テル等が挙げられる。  [0068] Examples of the alkyl butyl ether compound include butyl vinyl ether, ethyl butyl ether and the like.
[0069] a—ォレフイン化合物としては、 1—へキセン、 1—オタテン、 1—デセン、 1—ドデセ ン、 1ーテトラデセン、 1一へキサデセン等が挙げられる。  [0069] Examples of the a-olefin compound include 1-hexene, 1-otaten, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, and 11-hexadecene.
[0070] ビュル化合物としては、酢酸ァリル、ァリルアルコール、ァリルベンゼン、シアン化ァ リル等のァリル化合物、シアン化ビュル、ビュルシクロへキサン、ビュルメチルケトン、 スチレン、 α—メチルスチレン、 2—メチルスチレン、クロロスチレン等が挙げられる。  [0070] Examples of the bullet compound include aryl compounds such as aryl acetate, aryl alcohol, arylbenzene, and aryl cyanide, butyl cyanide, bulcyclohexane, butyl methyl ketone, styrene, α-methylstyrene, 2-methylstyrene, Chlorostyrene and the like.
[0071] ェチュル化合物としては、アセチレン、ェチュルベンゼン、ェチュルトルエン、 1 ェチニルー 1ーシクロへキサノール等が挙げられる。 [0071] Examples of the ethur compound include acetylene, ethurbenzene, ethurtoluene, 1 Ethynyl-1-cyclohexanol and the like.
[0072] これらは、単独で、若しくは 2種類以上を組み合わせて用いることができる。 [0072] These can be used alone or in combination of two or more.
[0073] また、本発明の光硬化性組成物には、溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レ ベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、紫外線 吸収剤、赤外線吸収剤等を加えても良い。 Further, the photocurable composition of the present invention includes a solvent, a dye, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a leveling agent, a humectant, a viscosity modifier, a preservative, an antibacterial agent, an antiblocking agent, and an ultraviolet ray. You may add an absorber, an infrared absorber, etc.
[0074] 溶剤を加える場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理を行えば良 ヽ。溶剤として は、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、シクロ へキサノン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルプロピレングリコール アセテート、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、テトラヒドロ フラン、メチルピロリドン等が挙げられる。 When a solvent is added, a curing treatment may be performed after the solvent is volatilized. As the solvent, various known organic solvents can be used. Examples of the organic solvent include cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl propylene glycol acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, tetrahydrofuran, methylpyrrolidone, and the like.
[0075] 次に、本発明の反射防止フィルムについて説明する。 Next, the antireflection film of the present invention will be described.
[0076] 本発明の反射防止フィルムは、プラスチック基材の一方の面に、本発明の光硬化 性組成物から形成される高屈折率ノヽードコート層、および屈折率が 1. 20〜: L 50の 低屈折率層が順次積層されているものであり、高屈折率ハードコート層は、本発明の 光硬化性組成物をプラスチック基材上に膜厚が 0. 1〜30 mになるように塗工後、 硬化処理することにより形成することができる。  [0076] The antireflection film of the present invention has a high refractive index node coat layer formed from the photocurable composition of the present invention on one surface of a plastic substrate, and a refractive index of 1.20 to: L50. The low refractive index layer is sequentially laminated, and the high refractive index hard coat layer is formed such that the photocurable composition of the present invention has a thickness of 0.1 to 30 m on a plastic substrate. It can be formed by performing a curing treatment after coating.
[0077] 塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを 用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット等の各種 コーティング方法を用いることができる。  [0077] As a coating method, a known method can be used. For example, a method using a rod or a wire bar, or various coating methods such as microgravure, gravure, die, curtain, lip, and slot can be used. it can.
[0078] また、硬化処理は、公知の技術を用いて、例えば、紫外線、電子線、波長 400〜5 OOnmの可視光線等の活性エネルギー線を照射することにより行うことができる。紫 外線および波長 400〜500nmの可視光線の線源(光源)には、例えば高圧水銀ラ ンプ、超高圧水銀ランプ、メタルノヽライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カー ボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放 射銃等を使用することができる。  [0078] The curing treatment can be performed by using a known technique, for example, by irradiating an active energy ray such as an ultraviolet ray, an electron beam, or a visible ray having a wavelength of 400 to 500 nm. For example, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, etc. should be used as a source of ultraviolet light and visible light having a wavelength of 400 to 500 nm. Can be. As the electron beam source, a thermionic emission gun, an electron gun or the like can be used.
[0079] 照射する活性エネルギー線量は、 5〜2000miの範囲内であることが好ましぐさら には工程上管理しやすい点から 50〜: LOOOiuJの範囲内であることが好ましい。  The active energy dose for irradiation is preferably in the range of 5 to 2,000 mi, and more preferably in the range of 50 to: LOOOiuJ from the viewpoint of easy control in the process.
[0080] また、これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等 による熱処理を併用することができる。 [0080] In addition, infrared rays, far infrared rays, hot air, high frequency heating, etc. Can be used in combination.
[0081] 高屈折率ハードコート層は、プラスチック基材に光硬化性組成物を塗工し、自然ま たは強制乾燥させた後に硬化処理を行って形成しても良!ヽし、塗工し硬化処理を行 つた後に自然または強制乾燥させてもよ!、が、自然または強制乾燥させた後に硬化 処理を行う方がより好まし 、。  [0081] The high refractive index hard coat layer may be formed by applying a photocurable composition to a plastic substrate, and then performing a curing treatment after natural or forced drying. After the hardening process, it may be natural or forced drying !, but it is more preferable to perform the hardening process after the natural or forced drying.
[0082] 特に、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留によ る塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させた後に硬化処理を行う方が より好まし 、。  [0082] In particular, in the case of curing with an electron beam, it is more preferable to perform a curing treatment after natural or forced drying in order to prevent curing inhibition by water or a decrease in the strength of the coating film due to the residual organic solvent. ,.
[0083] また、硬化処理のタイミングは塗工と同時でも構わな ヽし、塗工後でも構わな!/、。  [0083] Further, the timing of the curing treatment may be the same as the coating, or may be after the coating!
[0084] プラスチック基材としては、ポリエステル系、アクリル系、トリアセテート系等の基材を 用いることができる力 強度および屈折率の高さから、ポリエステル系の基材を用いる ことが好ましい。ポリエステル系の基材としては、ポリエチレンテレフタレート(PET、屈 折率: 1. 60〜: L 67)、ポリエチレンナフタレート(PEN、屈折率: 1. 68〜: L . 72)等 が挙げられる。 [0084] As the plastic substrate, it is preferable to use a polyester-based substrate because of the strength and refractive index at which a polyester-based, acryl-based, triacetate-based substrate, or the like can be used. Examples of the polyester-based substrate include polyethylene terephthalate (PET, refractive index: 1.60 to: L67), polyethylene naphthalate (PEN, refractive index: 1.68 to: L.72), and the like.
[0085] また、プラスチック基材には、コロナ処理、プラズマ処理等の前処理を施しても良 ヽ 。前処理を行うことにより、ハードコート層のプラスチック基材に対する密着性が向上 する。  [0085] The plastic substrate may be subjected to a pretreatment such as a corona treatment or a plasma treatment. By performing the pretreatment, the adhesion of the hard coat layer to the plastic substrate is improved.
[0086] 高屈折率ハードコート層の屈折率は、基材との屈折率の差が 0. 01未満の範囲内 であると、干渉縞の発生を抑えることができ好ましい。例えば、プラスチック基材として ポリエステル系基材を用いる場合には、高屈折率ハードコート層の屈折率が 1. 60〜 [0086] The refractive index of the high-refractive-index hard coat layer is preferably such that the difference in refractive index from the substrate is less than 0.01, because the occurrence of interference fringes can be suppressed. For example, when a polyester base is used as the plastic base, the refractive index of the high refractive index hard coat layer is 1.60 to
1. 75の範囲内であると、干渉縞の発生を抑えることができるため好ましい。 It is preferable that the ratio be within the range of 1.75, since the occurrence of interference fringes can be suppressed.
[0087] また、高屈折率ノヽードコート層の鉛筆硬度は、プラスチック基材を保護するため 2H 以上であることが好ましい。 [0087] The pencil hardness of the high refractive index node coat layer is preferably 2H or more to protect the plastic substrate.
[0088] 高屈折率ノ、ードコート層の上に積層される低屈折率層には、屈折率の低い MgF ( The low-refractive-index layer laminated on the high-refractive-index and low-coat layers includes MgF (
2 屈折率:約 1. 4)、 SiO (屈折率:約 1. 2〜1· 5)、 LiF (屈折率:約 1. 4)、 3NaF'Al  2 Refractive index: about 1.4), SiO (refractive index: about 1.2 to 1.5), LiF (refractive index: about 1.4), 3NaF'Al
2  2
F (屈折率:約 1. 4)、 Na A1F (屈折率:約 1. 33)等を用いることができる。また、こ F (refractive index: about 1.4), Na A1F (refractive index: about 1.33) and the like can be used. Also,
3 3 6 3 3 6
れら MgF 、 SiO等の微粒子を紫外線および電子線硬化型榭脂ゃ珪素アルコキシド  These fine particles such as MgF and SiO are cured by UV and electron beam curable resin / silicon alkoxide.
2 2  twenty two
系のマトリックスに分散させたものを用いることができる力 これに限定されるものでは ない。 The ability to use those dispersed in the system matrix Absent.
[0089] 低屈折率層は、前記低屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、低屈折 微粒子を含むマトリックスを、膜厚が 0. 01〜1 /ζ πιになるように塗工し、必要に応じて 、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行うことで形成できる。  When the low-refractive-index layer is formed of a matrix containing the low-refractive-index fine particles, the low-refractive-index fine-particle-containing matrix is applied so that the film thickness becomes 0.01 to 1 / ζπι. Accordingly, it can be formed by performing a drying treatment, an ultraviolet irradiation treatment, and an electron beam irradiation treatment.
[0090] 塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを 用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット等の各種 コーティング方法を用いることができる。  As a coating method, a known method can be used. For example, a method using a rod or a wire bar or various coating methods such as microgravure, gravure, die, curtain, lip, and slot can be used. it can.
[0091] また、低屈折率層は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ィォ ンプレーデイング法、電気めつき法等を用いて形成してもよ 、。  [0091] The low refractive index layer may be formed by a vacuum evaporation method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an ion plating method, an electroplating method, or the like.
[0092] 本発明の反射防止フィルムには、低屈折率層 1層だけでなぐ屈折率の異なる層を 複数積層してもよい。例えば、高屈折率ハードコート層上に、低屈折率層、この低屈 折率層より屈折率の高い高屈折率層、さらに低屈折率層を設けた構成等が挙げられ る力 これに限る物ではない。  [0092] The antireflection film of the present invention may be formed by laminating a plurality of layers having different refractive indices, each having only one low refractive index layer. For example, a structure in which a low refractive index layer, a high refractive index layer having a higher refractive index than the low refractive index layer, and a low refractive index layer are further provided on the high refractive index hard coat layer. Not a thing.
[0093] また、本発明の反射防止フィルムには、さらに他の機能層を設けても良い。機能層 としては、例えば、汚染防止層、帯電防止層、電磁波シールド層、ネオン光補正層、 赤外線カット層等が挙げられる。これらの機能層は、公知の材料を用い、公知の方法 で形成することができる。また、機能層は、一つの層で複数の機能を有していても良 い。  [0093] Further, the antireflection film of the present invention may further include another functional layer. Examples of the functional layer include a contamination prevention layer, an antistatic layer, an electromagnetic wave shielding layer, a neon light correction layer, and an infrared cut layer. These functional layers can be formed by a known method using a known material. The functional layer may have a plurality of functions in one layer.
[0094] 汚染防止層は、本発明の反射防止フィルムをディスプレイ用途に用いる場合、表面 側となる反射防止層上に設けることが好ましい。  [0094] When the antireflection film of the present invention is used for a display, the antifouling layer is preferably provided on the antireflection layer on the surface side.
[0095] また、本発明の反射防止フィルムをプラズマディスプレイ用途に用いる場合、電磁 波シールド層、ネオン光補正層、赤外線カット層のいずれか一つ、または全部を設け ることが好ましぐどこに設けても構わないが、視認性等を考慮すると、基材の反射防 止層を設けた側とは反対側に設けることが好ましい。 When the antireflection film of the present invention is used for a plasma display, any one or all of the electromagnetic wave shielding layer, the neon light correction layer, and the infrared cut layer are preferably provided wherever it is preferable. However, in consideration of visibility and the like, it is preferable to provide the substrate on the side opposite to the side on which the antireflection layer is provided.
[0096] 以下に、製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限 定されるものではない。なお、以下の製造例、実施例において、特に断らない限り「 部」は「重量部」を意味する。 [0096] Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Production Examples and Examples, but the present invention is not limited thereto. In the following Production Examples and Examples, “parts” means “parts by weight” unless otherwise specified.
[0097] <製造例 1:光硬化性化合物 (a)の製造 > 攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、 ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物 525部、 <Production Example 1: Production of photocurable compound (a)> In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, gas inlet tube, and dropping funnel, 525 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride,
βーヒドロキシェチノレアタリレート 475§、  β-hydroxyethynoleate tallate 475§,
1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7—ゥンデセン 10部、  1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-ndecene 10 parts,
メトキノン 0. 25部、  0.25 parts of methquinone,
シクロへキサノン 111杳^  Cyclohexanone 111 ^^
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、 90°Cで反応させた。反 応中、合計 889部のシクロへキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続 した。反応物の IR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、 1780cm_1および 1850c m_1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この 時点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、 215mgKOHZgであった。 Was gradually heated while stirring, and reacted at 90 ° C. in a dry air atmosphere. During the reaction, stirring was continued while a total of 889 parts of cyclohexanone were appropriately diluted according to the viscosity. Peak of the acid anhydride group in the IR measurement of the reaction product, i.e., after confirming that the peak around 1780 cm _1 and 1850C m _1 is disappeared, cooled, the reaction was stopped. At this time, the acid value of the reaction product was measured by a conventional method, and it was 215 mgKOHZg.
[0098] 続いて、この溶液中に、 [0098] Subsequently, in this solution,
グリシジノレメタタリレート 164咅^  Glycidinoremetharylate 164 咅 ^
o -フエ-ルフエノールグリシジルエーテル(三光株式会社製 ΓΟΡΡ-GJ ) 607部、 ジメチノレペンジノレアミン 13  o-Phenylphenol glycidyl ether ((-GJ manufactured by Sanko Co., Ltd.) 607 parts, dimethinole pendinoleamine 13
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、 90度で反応させた。反応を継続しなが ら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が lOmgKOHZg以下になったところで冷 却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物(a)の最終的な酸価は 5mgKO HZgであり、 1分子中のビフ ニル骨格の個数は平均 1. 70、重合性不飽和二重結 合基 1つあたりの数平均分子量は 264、 1分子中の重合性不飽和二重結合基の個 数は平均 3. 30であった。また、得られた反応生成物におけるビフエ-ル基とメタタリ ノレ基とのモノ kttは、 0. 7:0. 3であった。  , And the temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 90 degrees in the presence of dry air. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically, and when the acid value became less than lOmgKOHZg, the reaction product was cooled to stop the reaction. The final acid value of the obtained photocurable compound (a) is 5 mg KO HZg, the average number of biphenyl skeletons in one molecule is 1.70, and the number of polymerizable unsaturated double bond groups The number average molecular weight was 264, and the number of polymerizable unsaturated double bond groups in one molecule was 3.30 on average. In addition, the mono ktt of the biphenyl group and the metatanol group in the obtained reaction product was 0.7: 0.3.
[0099] <製造例 2:光硬化性化合物 (b)の製造 > [0099] <Production Example 2: Production of photocurable compound (b)>
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、 ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物 525部、  In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, gas inlet tube, and dropping funnel, 525 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride,
βーヒドロキシェチノレアタリレート 475§、  β-hydroxyethynoleate tallate 475§,
1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7—ゥンデセン 10部、  1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-ndecene 10 parts,
メトキノン 0. 25部、 シクロへキサノン ιιι§ 0.25 parts of methquinone, Cyclohexanone ιιι§
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、 90度で反応させた。反 応中、合計 889部のシクロへキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続 した。反応物の IR測定で酸無水基のピーク、すなわち、 1780cm_1および 1850cm 一1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時 点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、 215mgKOHZgであった。 Was gradually heated with stirring, and reacted at 90 ° C. in a dry air atmosphere. During the reaction, stirring was continued while a total of 889 parts of cyclohexanone were appropriately diluted according to the viscosity. Peak of anhydride groups in the IR measurement of the reaction product, i.e., after confirming that the peak of 1780 cm _1 and 1850cm around one 1 is disappeared, cooled, the reaction was stopped. At this time, the acid value of the reaction product was measured by a conventional method and found to be 215 mgKOHZg.
[0100] 続いて、この溶液中に [0100] Then, in this solution
グジシジノレメ夕クジレー卜 382咅^  Guzi Shizinoreme Evening whale 382 咅 ^
o -フエ-ルフエノールグリシジルエーテル(三光株式会社製 ΓΟΡΡ-GJ ) 260部、 ジメチノレペンジノレアミン 13  o-Phenol phenol glycidyl ether (光 -GJ manufactured by Sanko Co., Ltd.) 260 parts, dimethinole pendinoleamine 13
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、 90度で反応させた。反応を継続しなが ら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が lOmgKOHZg以下になったところで冷 却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物 (b)の最終的な酸価は 6mgKO HZgであり、 1分子中のビフ ニル骨格の個数は平均 1. 30、重合性不飽和二重結 合基 1つあたりの数平均分子量は 226、 1分子中の重合性不飽和二重結合基の個 数は平均 3. 70であった。また、得られた反応生成物におけるビフエ-ル基とメタタリ ノレ基とのモノ kttは、 0. 3 :0. 7であった。  , And the temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 90 degrees in the presence of dry air. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically, and when the acid value became 10 mgKOHZg or less, the reaction product was cooled to stop the reaction. The final acid value of the obtained photocurable compound (b) is 6 mg KO HZg, the average number of biphenyl skeletons in one molecule is 1.30, and the number of polymerizable unsaturated double bond groups The number average molecular weight was 226, and the number of polymerizable unsaturated double bond groups in one molecule was 3.70 on average. Further, the mono ktt of the biphenyl group and the metatanol group in the obtained reaction product was 0.3: 0.7.
[0101] <製造例 3 :光硬化性化合物 (c)の製造 > <Production Example 3: Production of photocurable compound (c)>
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、 ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物 525部、  In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, gas inlet tube, and dropping funnel, 525 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride,
βーヒドロキシェチノレアタリレート 475§、  β-hydroxyethynoleate tallate 475§,
1, 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0」ー7—ゥンデセン 10部、  1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-ndecene 10 parts,
メトキノン 0. 25部、  0.25 parts of methquinone,
シクロへキサノン ιιι§  Cyclohexanone ιιι§
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、 90度で反応させた。反 応中、合計 889部のシクロへキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続 した。反応物の IR測定で酸無水基のピーク、すなわち、 1780cm_1および 1850cm 一1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時 点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、 215mgKOHZgであった。 Was gradually heated with stirring, and reacted at 90 ° C. in a dry air atmosphere. During the reaction, stirring was continued while a total of 889 parts of cyclohexanone were appropriately diluted according to the viscosity. Peak of anhydride groups in the IR measurement of the reaction product, i.e., after confirming that the peak of 1780 cm _1 and 1850cm around one 1 is disappeared, cooled, the reaction was stopped. At this time At this point, the acid value of the reaction product was measured by a conventional method to be 215 mgKOHZg.
[0102] 続いて、この溶液中に [0102] Subsequently, in this solution
グリシジルメタタリレート 463部、  463 parts of glycidyl methacrylate
o -フエ-ルフエノールグリシジルエーテル(三光株式会社製 ΓΟΡΡ-GJ ) 130部  o-Phenylphenol glycidyl ether ((-GJ manufactured by Sanko Co., Ltd.) 130 parts
ジメチノレペンジノレアミン 13 Dimethinole pendinoleamine 13
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、 90度で反応させた。反応を継続しなが ら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が lOmgKOHZg以下になったところで冷 却し、反応を停止させた。得られた光硬化性化合物(c)の最終的な酸価は 4mgKO HZgであり、 1分子中のビフ ニル骨格の個数は平均 1. 15、重合性不飽和二重結 合基 1つあたりの数平均分子量は 203、 1分子中の重合性不飽和二重結合基の個 数は平均 3. 85であった。また、得られた反応生成物におけるビフエ-ル基とメタタリ ノレ基とのモノ kttは、 0. 15 :0. 85であった。  , And the temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 90 degrees in the presence of dry air. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically, and when the acid value became less than lOmgKOHZg, the reaction product was cooled to stop the reaction. The final acid value of the photocurable compound (c) obtained was 4 mg KO HZg, the number of biphenyl skeletons in one molecule was 1.15 on average, and the number of biphenyl groups per polymerizable unsaturated double bond group was 1. The number average molecular weight was 203, and the number of polymerizable unsaturated double bond groups in one molecule was 3.85 on average. Further, the mono ktt of the biphenyl group and the metatanol group in the obtained reaction product was 0.15: 0.85.
[0103] <製造例 4:光硬化性化合物 (d)の製造 > <Production Example 4: Production of photocurable compound (d)>
攪拌機、還流冷却器、温度計、ガス導入管、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに、 ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物 525部、  In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, gas inlet tube, and dropping funnel, 525 parts of biphenyltetracarboxylic dianhydride,
βーヒドロキシェチノレアタリレート 475§、  β-hydroxyethynoleate tallate 475§,
1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]—7 ゥンデセン 10部、  1,8 diazabicyclo [5.4.0] —7 ndene, 10 parts,
メトキノン 0. 25部、および  0.25 parts of methoquinone, and
シクロへキサノン 111杳^  Cyclohexanone 111 ^^
を仕込み、攪拌しながら徐々に昇温し、乾燥空気雰囲気下、 90度で反応させた。反 応中、合計 889部のシクロへキサノンを、粘度に応じて適宜希釈しながら攪拌を継続 した。反応物の IR測定で酸無水基のピーク、すなわち、 1780cm_1および 1850cm 一1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時 点で反応物の酸価を慣用の方法で測定したところ、 215mgKOHZgであった。 Was gradually heated with stirring, and reacted at 90 ° C. in a dry air atmosphere. During the reaction, stirring was continued while a total of 889 parts of cyclohexanone were appropriately diluted according to the viscosity. Peak of anhydride groups in the IR measurement of the reaction product, i.e., after confirming that the peak of 1780 cm _1 and 1850cm around one 1 is disappeared, cooled, the reaction was stopped. At this time, the acid value of the reaction product was measured by a conventional method and found to be 215 mgKOHZg.
[0104] 続いて、この溶液中に [0104] Subsequently, in this solution
4 ヒドロキシブチルアタリレートグリシジルエーテル  4 Hydroxybutyl atalylate glycidyl ether
(日本化成株式会社製) 767部、および ジメチルベンジルァミン 14部 (Nippon Kasei Co., Ltd.) 767 copies, and 14 parts of dimethylbenzylamine
を投入し、徐々に昇温し、乾燥空気存在下、 90度で反応させた。反応を継続しなが ら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が lOmgKOHZg以下になったところで冷 却し、反応を  , And the temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 90 degrees in the presence of dry air. While continuing the reaction, periodically measure the acid value of the reaction product, cool when the acid value becomes less than lOmgKOHZg, and allow the reaction to proceed.
停止させた。得られた光硬化性ィ匕合物 (d)の最終的な酸価は 5mgKOHZgであり、 1 分子中のビフ ニル骨格の個数は平均 1. 00、重合性不飽和二重結合基 1つあたり の数平均分子量は 246、 1分子中の重合性不飽和二重結合基の個数は平均 4. 00 であった。  Stopped. The final acid value of the obtained photocurable compound (d) is 5 mg KOHZg, the average number of biphenyl skeletons in one molecule is 1.00, and the number of biphenyl groups per polymerizable unsaturated double bond group is one. Has a number average molecular weight of 246, and the number of polymerizable unsaturated double bond groups in one molecule is 4.00 on average.
[0105] 実施例 1〜 5、比較例 1〜 3 Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 3
製造例 1〜5で調製した光硬化性化合物 (a)〜 (d)を用いて、表 1に示す組成の光 硬化性組成物を調製し、 50 μ m厚の PETフィルムにバーコーダ一で膜厚が 4 μ mに なるように塗工した後、メタルノヽライドランプで 400miの紫外線を照射し、高屈折率ハ ードコート層を形成した。得られた高屈折率ハードコート層について、下記の方法で 、耐光性、屈折率、耐擦傷性、鉛筆硬度および表面抵抗値を評価した。その結果を 表 1に示す。  Using the photocurable compounds (a) to (d) prepared in Production Examples 1 to 5, a photocurable composition having the composition shown in Table 1 was prepared. After coating so as to have a thickness of 4 μm, a metal nitride lamp was irradiated with ultraviolet rays of 400 mi to form a high refractive index hard coat layer. With respect to the obtained high refractive index hard coat layer, light resistance, refractive index, scratch resistance, pencil hardness and surface resistance were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1.
[0106] また、高屈折率ハードコート層上に、ワイヤーバーを用いて、下記の低屈折率層用 塗液を硬化塗膜厚さが約 0. 1 μ mになるよう塗工後、メタルノヽライドランプで 400mJ の紫外線を照射して、低屈折率層を積層し、反射防止フィルムを作成した。得られた 反射防止フィルムについて、下記の方法で、干渉縞の有無を評価した。その結果を 表 1に示す。  [0106] Further, the following coating liquid for a low-refractive-index layer was coated on the high-refractive-index hard coat layer using a wire bar so that the cured coating film thickness became about 0.1 μm, (4) A low-refractive-index layer was laminated by irradiating ultraviolet rays of 400 mJ with a ride lamp to prepare an antireflection film. The obtained antireflection film was evaluated for the presence of interference fringes by the following method. The results are shown in Table 1.
[表 1] [table 1]
表 1 table 1
実施例 1 実施例 2 実施例 3 実施例 4 実施例 5 ϋΜΜ2  Example 1 Example 2 Example 3 Example 4 Example 5 ϋΜΜ2
光硬化性化合物 (a) 80部 50部 65部 314部  Photocurable compound (a) 80 parts 50 parts 65 parts 314 parts
光硬化性化合物 (b) 50部  Photocurable compound (b) 50 parts
光硬化性化合物 (c) 65部  Photocurable compound (c) 65 parts
光硬化性化合物 (d) 80部  Photocurable compound (d) 80 parts
ウレタンァクリレート 35部 50部 42部 42部 42部 35部 35部 35部 ベンジルメタクリレート 15部 18部 15部 15部 15部 フエノール EO変性  Urethane acrylate 35 parts 50 parts 42 parts 42 parts 42 parts 35 parts 35 parts 35 parts Benzyl methacrylate 15 parts 18 parts 15 parts 15 parts 15 parts Phenol EO modified
20部 18部  20 copies 18 copies
ァクリレート  Acrylate
ヒドロキシフエノキシ  Hydroxyphenoxy
18部  18 copies
プロピルァクリレート  Propyl acrylate
I BK 10部 10部 10部 10部 10部 10部 556部  IBK 10 parts 10 parts 10 parts 10 parts 10 parts 10 parts 556 parts
五酸化アンチモン分散体 780部 780部 780部 780部 780部 780部 870部 光重合開 6部 6部 6部 6部 6部 6部 6部 6部 ムき+ 926部 916部 921部 896部 921部 926部 926部 926部 耐光性 (b値) 〇 O 〇 O 〇 〇 〇 X 屈折率 1. 66 1. 65 1. 65 1. 65 1. 64 1. 61 1. 56 1. 69 赚傷性 5 5 5 5 5 3 4 1  Antimony pentoxide dispersion 780 parts 780 parts 780 parts 780 parts 780 parts 780 parts 870 parts Photopolymerization opening 6 parts 6 parts 6 parts 6 parts 6 parts 6 parts 6 parts 6 parts m + 926 parts 916 parts 921 parts 896 parts 921 Part 926 part 926 part 926 part Light fastness (b value) 〇 O 〇 O 〇 〇 〇 X Refractive index 1.66 1.65 1.65 1.65 1.64 1.61 1.56 1.69 5 5 5 5 5 3 4 1
O 〇 〇 〇 〇 X X X 干渉 全く無し 全く無し 全く無し 全く無し 僅かにあり 顕著にぁリ 顕著にあり 僅かにあり O 〇 〇 〇 XXX XXX Interference Not at all Not at all Not at all Not at all Slightly noticeable Notably noticeable Notably noticeable
[0107] 表 1において、 [0107] In Table 1,
ベンジルメタタリレート:共栄社化学株式会社製「ライトエステル BZ」  Benzyl methacrylate: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. “Light Ester BZ”
フエノール EO変性アタリレート:東亞合成株式会社製「ァロニックス M102」 ヒドロキシフエノキシプロピルアタリレート:日本ィ匕薬株式会社製「カャラッド R128HJ Phenol EO-modified acrylate: "ARONIX M102" manufactured by Toagosei Co., Ltd. Hydroxyphenoxypropyl atalylate: "CALAD R128HJ" manufactured by Nippon Daniyaku Co., Ltd.
MIBK:メチノレイソブチノレケトン MIBK: Methinoleisobutynoleketone
五酸化アンチモン分散体:五酸化アンチモンの MIBK分散体、固形分 30重量0 /0 光重合開始剤:チバ ·スペシャルティ ·ケミカルズ株式会社製「ィルガキュア 184」Antimony pentoxide dispersion: MIBK dispersion of antimony pentoxide, solid content of 30 weight 0/0 light polymerization initiator: Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. "Irugakyua 184"
<低屈折率層用塗液 > <Coating liquid for low refractive index layer>
ペンタエリスリトールテトラアタリレート(日本ィ匕薬株式会社製「PET— 30」) 10部を イソプロピルアルコール 200部に溶解し、光重合開始剤(チバ 'スペシャルティ'ケミカ ルズ株式会社製「ィルガキュア 184」) 0. 8部をカ卩え、溶解するまで撹拌した。シリカ ゾル (屈折率 1. 3、エタノール溶媒、固形分 15重量%)44部を撹拌し、ここに、先に 調製したペンタエリスリトールテトラアタリレート溶液全量をカ卩え、均一になるまで撹拌 し、低屈折率層用塗液を得た。  10 parts of pentaerythritol tetraatalylate ("PET-30" manufactured by Nippon Dani Drug Co., Ltd.) is dissolved in 200 parts of isopropyl alcohol, and a photopolymerization initiator ("IRGACURE 184" manufactured by Ciba 'Specialty' Chemicals Co., Ltd.) 0 8 parts were mixed and stirred until dissolved. 44 parts of silica sol (refractive index: 1.3, ethanol solvent, solid content: 15% by weight) was stirred, and the whole amount of the pentaerythritol tetraatalylate solution previously prepared was added thereto, and stirred until uniform. A coating liquid for a low refractive index layer was obtained.
[0108] (1)耐光性 [0108] (1) Light resistance
光連続照射時の経時での黄変は、用途展開上、非常に好ましくない。そこで、光連 続照射時の黄変性を確認した。  Yellowing over time during continuous light irradiation is extremely undesirable in terms of application development. Therefore, yellowing during continuous light irradiation was confirmed.
[0109] まず、耐光性試験機 (光源:キセノンランプ、照度: 100WZcm2、ブラックパネル温 度: 60°C、 60%RH)にて塗工物を、 24時間曝露した。その後、白色紙上に塗工物 を置き、測色機 (ミノルタ CR— 300)を用いて着色を測定した。測色値は Lab*にて表 示し、黄変性の目安を b値にて判断した。 b値の値が小さいほど、黄変の程度が小さく 、耐光性が良好であることをあらわす。実用的な要求物性を考慮して、 b値が First, the coating was exposed for 24 hours using a light resistance tester (light source: xenon lamp, illuminance: 100 WZcm 2 , black panel temperature: 60 ° C., 60% RH). Thereafter, the coating was placed on white paper, and coloring was measured using a colorimeter (Minolta CR-300). The colorimetric values were indicated by Lab *, and the standard of yellowing was judged by the b value. The smaller the b value, the smaller the degree of yellowing and the better the light fastness. Considering practical required physical properties, b value is
3. 5未満のものを〇、  3.5 for less than 5
3. 5以上のものを X  3. X over 5
と判定した。  It was determined.
[0110] (2)屈折率 [0110] (2) Refractive index
アッベ屈折計 (ァタゴ株式会社)を用いて、塗工物の屈折率を測定した。  The refractive index of the coated product was measured using an Abbe refractometer (Atago Co., Ltd.).
[0111] (3)耐擦傷性 塗工物を、がく震型耐摩擦試験機にセットし、スチールウールの No.0000を用いて 、荷重 250gで 10回、がく震させた。取り出した塗工物について、キズの付き具合を 以下の 5段階で目視で判断した。数値が大きいほど、耐擦傷性が良好であることを示 す。 [0111] (3) Scratch resistance The coated product was set on a jolt-type friction tester and jolted 10 times with a load of 250 g using steel wool No. 0000. The removed coating was visually evaluated for the degree of scratching in the following five stages. The larger the value, the better the scratch resistance.
[0112] 5…キズが全く無い  [0112] 5… No scratches
4· ··わずかにキズが付 、て 、る  4 ··· Slightly scratched
3…キズは付 ヽて 、るが、基材は見えて!/ヽな!ヽ  3 ... Wounds are attached, but the base material is visible!
2…キズが付き、一部塗工物が剥がれている  2… Scratched, some coatings peeled off
1…塗工物が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態  1 ... The coated material has peeled off and the substrate is exposed
(4)鉛筆硬度  (4) Pencil hardness
鉛筆硬度試験機 (HEIDON社製 Scratching Tester HEIDO  Pencil hardness tester (HEIDON Scratching Tester HEIDO
N— 14)を用い、鉛筆の芯の堅さを種々変えて、荷重 500gにて 5回試験をした。 5回 中、 1回も傷が付かない、もしくは 1回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その塗工物の鉛 筆硬度とした。実用的な要求物性を考慮して、鉛筆硬度が  Using N-14), the hardness of the pencil core was changed variously, and the test was performed five times under a load of 500 g. The hardness of the core when no or only one of the five was scratched was determined as the pencil hardness of the coating. Considering practical required physical properties, pencil hardness
2H以上のものを〇  2H or more
2Hより低いものを X  X lower than 2H
と判定した。  It was determined.
[0113] (5)干渉縞 [0113] (5) Interference fringes
反射防止フィルムの高屈折率ノ、ードコート層が形成されていない面をサンドぺーパ 一で荒らし、裏面の反射防止処理を行った。得られたサンプルを、 20W蛍光灯の直 近 20cmの距離から目視で観察し、干渉縞の有無を評価した。  The surface of the anti-reflection film where the high refractive index layer and the non-coated layer were not formed was roughened with a sandpaper, and the back surface was subjected to anti-reflection treatment. The obtained sample was visually observed from a distance of 20 cm immediately from a 20 W fluorescent lamp, and the presence or absence of interference fringes was evaluated.
[0114] 表 1の評価結果力も明らかなように、本発明の光硬化性組成物力も形成される高屈 折率ハードコート層は、 !. 64以上の高い屈折率を有すると共に、鉛筆硬度、耐擦傷 性、耐光性に優れていた。この結果は、本発明の光硬化性組成物が、従来検討され てきた材料では達し得なカゝつた、高い屈折率、鉛筆硬度および耐擦傷性等のハード コート性、耐光性の全てを兼ね備えていることを示している。また、表 1に示す結果か らゎ力るように、光硬化性ィ匕合物にフィラーを配合しないと、屈折率が要求水準に達 しない。また、光硬化性化合物を含まず、微粒子と他の樹脂からなる組成物では、塗 膜が脆くなり、耐擦傷性、鉛筆硬度が要求水準に達しない。 [0114] As is clear from the evaluation results in Table 1, the high refractive index hard coat layer in which the photocurable composition of the present invention is also formed has a high refractive index of! It was excellent in scratch resistance and light resistance. This result indicates that the photocurable composition of the present invention has all of the hard coat properties such as a high refractive index, pencil hardness and scratch resistance and light resistance that cannot be achieved with the materials studied conventionally. It indicates that. Further, as can be seen from the results shown in Table 1, the refractive index does not reach the required level unless a filler is added to the photocurable conjugate. In the case of a composition containing fine particles and another resin without containing a photocurable compound, the The film becomes brittle, and the scratch resistance and pencil hardness do not reach the required levels.
以上述べたように、本発明により、高い屈折率と、優れたハードコート性と、耐光性 の、全てを兼ね備えた光硬化性組成物を提供することができる。また、本発明により、 優れたハードコート性と耐光性を兼ね備え、良好な光学特性を有する反射防止フィ ルムを提供することができる。  As described above, according to the present invention, a photocurable composition having all of high refractive index, excellent hard coat property and light resistance can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide an antireflection film having both excellent hard coat properties and light resistance, and having good optical characteristics.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
[1] 一般式 (1)  [1] General formula (1)
[化 5]  [Formula 5]
Figure imgf000028_0001
Figure imgf000028_0001
(式中、!^〜 は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示し、 R4〜R6は、そ れぞれ独立に、非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を示し、 R 7は、水素または 1価の有機基を示し、 R8は、 4価の芳香族基を示す。ただし、 R7およ び R8の少なくとも一方は、ビフ -ル骨格を含む。)で示される少なくとも 1種の化合 物 (A)を含む光硬化性材料、および 1. 60以上の屈折率を有するフィラー(B)を含 む光硬化性組成物。 (In the formula,! ^ ~ Each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 4 to R 6 each independently represent an unsubstituted or substituted, linear or branched alkylene group. R 7 represents hydrogen or a monovalent organic group, and R 8 represents a tetravalent aromatic group, provided that at least one of R 7 and R 8 contains a biphenyl skeleton ), And a photocurable composition comprising a filler (B) having a refractive index of 1.60 or more.
[2] R7および R8の双方力 ビフエニル骨格を含む請求項 1記載の組成物。 [2] The composition according to claim 1, which comprises a biphenyl skeleton with both R 7 and R 8 .
[3] R4〜R6が、アルキレン部位が 1〜8個の炭素原子を有する非置換もしくは置換アル キレン基である請求項 1に記載の組成物。 [3] The composition according to claim 1, wherein R 4 to R 6 are an unsubstituted or substituted alkylene group having an alkylene moiety having 1 to 8 carbon atoms.
[4] R6が、 β—ヒドロキシアルキレン基である請求項 3に記載の組成物。 [4] The composition according to claim 3, wherein R 6 is a β-hydroxyalkylene group.
[5] R7が、式: [5] R 7 has the formula:
R6— OC (O)— C (R3) =CH R 6 — OC (O) — C (R 3 ) = CH
2  2
(ここで、 R6および R3は、一般式(1)で定義した通り)によって表される基である力、ま たは式— CH— C (OH) CH—O—R71 (ここで、 R71は、置換または非置換のビフエ(Where R 6 and R 3 are as defined in general formula (1)) Or formula — CH— C (OH) CH—O—R 71 (where R 71 is a substituted or unsubstituted biphene)
2 2 twenty two
-ルである)で示される基である請求項 3に記載の組成物。  4. The composition according to claim 3, which is a group represented by the formula:
[6] R7が、式:— CH— C (OH) CH—O—R71 (ここで、 R71は、置換または非置換のビ [6] R 7 has the formula: —CH—C (OH) CH—O—R 71 (where R 71 is a substituted or unsubstituted
2 2  twenty two
フ ニルである)で示される基である請求項 5に記載の組成物。  6. The composition according to claim 5, which is a group represented by the formula:
[7] R8が、ベンゼン、ベンゾフエノン、ビフエ-ル、フエ-ルエーテル、ジフエ-ルスルホ ン、ジフエ-ルスルフイド、ペリレン、またはナフタレンである請求項 5に記載の組成物 [7] The composition according to claim 5, wherein R 8 is benzene, benzophenone, biphenyl, phenol ether, diphenyl sulfone, diphenyl sulfide, perylene, or naphthalene.
[8] R8が、ビフヱニルである請求項 7に記載の組成物。 [8] The composition according to claim 7, wherein R 8 is biphenyl.
[9] フィラー(B)力 金属酸ィ匕物である請求項 1〜8のいずれか 1項に記載の光硬化性 組成物。  [9] Filler (B) power The photocurable composition according to any one of claims 1 to 8, which is a metal oxide.
[10] プラスチック基材の一つ面に、請求項 1に記載の光硬化性組成物から形成される高 屈折率ハードコート層、および屈折率が 1. 20〜: L 50の低屈折率層が順次積層さ れて 、る反射防止フィルム。  [10] A high refractive index hard coat layer formed from the photocurable composition according to claim 1 on one surface of a plastic substrate, and a low refractive index layer having a refractive index of 1.20 to L50. Are sequentially laminated to form an anti-reflection film.
[11] 高屈折率ハードコート層の屈折率が 1. 60〜: L 75の範囲内である請求項 10に記 載の反射防止フィルム。 [11] The antireflection film according to claim 10, wherein the refractive index of the high refractive index hard coat layer is in the range of 1.60 to: L75.
[12] 高屈折率ノ、ードコート層の鉛筆硬度が 2H以上である請求項 10に記載の反射防止 フイノレム。 [12] The antireflection finolem according to claim 10, wherein the high-refractive-index, coated coat layer has a pencil hardness of 2H or more.
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