JP2005195991A - 光電複合装置及びこの装置に用いられる光導波路、並びに光電複合装置の実装構造 - Google Patents

光電複合装置及びこの装置に用いられる光導波路、並びに光電複合装置の実装構造 Download PDF

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Abstract

【課題】 既存のプリント配線板の実装構造及び実装プロセスを利用でき、大掛かりな構造物を排除し得、配線の高密度化が可能であり、半導体チップ−光素子間の配線長を短くできる光電複合装置、この装置に用いられる光導波路、並びに光電複合装置の実装構造を提供すること。
【解決手段】 クラッド層2とコア層4との接合体からなり、コア層4を通して入射光が導かれるように構成され、コア層4の光入射部5及び光出射部6の少なくとも一方を含む端部2a又は2bにおいて、クラッド層2の厚さが大きく、その剛性が他の部分2cよりも大きくなっている、光導波路1。ソケットと、このソケットに設置された本発明の光導波路1とを有し、発光素子と受光素子との少なくとも一方が、光導波路1に対向して配置されている、光電複合装置18。本発明の光電複合装置18がプリント配線板19に電気的に接続された状態で固定されている、光電複合装置の実装構造。
【選択図】 図1

Description

本発明は、光電複合装置及びこの装置に用いられる光導波路、並びに光電複合装置の実装構造に関するものである。
現在、LSI(大規模集積回路)等の半導体チップ間の信号伝播は、全て基板配線を介した電気信号によりなされている。しかし、昨今のMPU高機能化に伴い、チップ間にて必要とされるデータ授受量は著しく増大し、結果として様々な高周波問題が浮上している。それらの代表的なものとして、RC信号遅延、インピーダンスミスマッチ、EMC/EMI、クロストーク等が挙げられる。
上記の問題を解決するため、これまで実装業界などが中心となり、配線配置の最適化や新素材開発などの様々な手法を駆使し、解決に当たってきた。
しかし近年、上記の配線配置の最適化や新素材開発等の効果も物性的限界に阻まれつつあり、今後システムの更なる高機能化を実現するためには、単純な半導体チップの実装を前提としたプリント配線板の構造そのものを見直す必要が生じてきている。近年、これら諸問題を解決すべく様々な抜本対策が提案されているが、以下にその代表的なものを記す。
・マルチチップモジュール(MCM)化による微細配線結合
高機能チップを、セラミック・シリコンなどの精密実装基板上に実装し、マザーボード(多層プリント基板)上では形成不可能である微細配線結合を実現する。これによって配線の狭ピッチ化が可能となり、バス幅を広げることでデータ授受量が飛躍的に増大する。
・各種半導体チップの封止、一体化による電気配線結合
各種半導体チップをポリイミド樹脂などを用いて二次元的に封止、一体化し、その一体化された基板上にて微細配線結合を行う。これによって配線の狭ピッチ化が可能となり、バス幅を広げることでデータ授受量が飛躍的に増大する。
・半導体チップの三次元結合
各種半導体チップに貫通電極を設け、それぞれを貼り合わせることで積層構造とする。これにより、異種半導体チップ間の結線が物理的に短絡化され、結果として信号遅延などの問題が回避される。但しその一方、積層化による発熱量増加、半導体チップ間の熱応力などの問題が生じる。
さらに、上記のように信号授受の高速化及び大容量化を実現するために、光配線による光伝送結合技術が開発されている(例えば、後記の非特許文献1及び非特許文献2参照。)。光配線は、電子機器間、電子機器内のボード間又はボード内のチップ間など、種々の個所に適用可能である。例えば図25に示すように、チップ間のような短距離間の信号の伝送には、チップが搭載されているプリント配線基板57上に光導波路51を形成し、この光導波路51を信号変調されたレーザー光等の伝送路とした光伝送・通信システムを構築することができる。
上記の半導体チップ間に対応する光配線技術には様々な方式のものがあるが、以下にその代表的な例を示し、簡単に考察する。
・アクティブインターポーザー方式
これは、プリント配線板(ボード)上に光導波路を実装し、光導波路の反光入出射側には光ファイバーコネクタが取りつけられ、その間の伝送はファイバーにてなされる。光素子はトランシーバーモジュールの裏面に実装され、光導波路の45°全反射ミラーに対し、精密に位置決められている。利点としては、既存のプリント配線板の実装構造上に展開できること、またファイバーを用いるため、プリント配線板の内外を問わず幅広い適用が可能であることが挙げられる。また、懸案点としては、構造が大掛かりなため、コストが高いこと、光軸合わせが困難であること、また電気伝送経路の短縮が困難であり、高周波伝送に不向きであることが挙げられる。
・自由空間伝送方式
これは、プリント配線基板の裏面に光配線基板(石英)を実装し、伝送基板内において光をジグザグに反射させ、信号を伝播させる。光素子アレイ+自由空間伝送により、原理的には数千レベルの多チャンネル化が可能である。また、光軸合わせを容易にするため、数枚のレンズを組み合わせたハイブリッド光学系を構成している。利点としては、原理的には数千chの多重伝送が可能であること、またハイブリッド光学系を構成しているため、光軸合わせが容易であることが挙げられる。また、懸案点としては、光配線基板が高価であること、反射による信号伝播のため、波形が乱れ易く、伝播損失が大きいこと、また新規開発技術が数多く盛り込まれているため、信頼性に関する実績がほとんど無いことが挙げられる。
・光コネクタ接続方式
これは、LSIチップの周囲に小型光コネクタを配置し、LSIチップを実装した後、自由に光路を設定できる光伝送モジュールシステムである。利点としては、コネクタにより精度が保証されており、コストのかかる光軸合わせ工程が不要であること、光ファイバーを用いているため、プリント配線基板間などの中距離伝送が可能であること、また既存のプリント配線基板の実装構造上に展開できることが挙げられる。また、懸案点としては、コネクタモジュールの小型化に限界があり、半導体チップとコネクタ間における電気配線の短縮化が困難であること、高周波伝送用としては不向きであること、伝送媒体として光ファイバーを採用しているため、多バス化に限界が有ること、また構成部品数が多く、バス当たりのコストダウンが困難であることが挙げられる。
・光導波路埋め込み方式
これは、光導波路をプリント配線基板に埋め込み、既存のプリント配線基板の実装構造の形態を維持しながら光配線を設ける方法である。光路結合にマイクロレンズを採用し、光軸ズレ許容量を一般実装精度レベルまで緩和させている。利点としては、発光素子をLSIチップの裏面に直接実装しているため、LSIチップと発光素子間の電気配線経路を極限まで短くできること、またコリメート光結合により、一般実装精度での光軸合わせが可能であることが挙げられる。また、懸案点としては、光配線をプリント配線基板内に設けるため、プリント配線基板の製造やコストダウンが困難であること、光素子の放熱対策が不明であること、またプリント配線基板が脆弱であるため、レンズと光導波路間の光結合損失が変動する可能性が有ることが挙げられる。
・表面実装方式
これは、光素子を、LSIチップの裏面に直接貼り付けて機能させ、また、光導波路をプリント配線板上に直接実装する方式である。既存のプリント配線板の構造をそのまま維持し、光配線の併設が可能である。利点としては、発光素子をLSIチップの裏面に直接実装しているため、LSIチップと発光素子間の電気配線経路を極限まで短くできること、構造がシンプルであり、コストダウンが可能であること、また既存のプリント配線板の実装構造上に展開できることが挙げられる。また、懸案点としては、光素子をLSIチップに直接貼りつけるため、専用のLSIチップの開発が必要であること、また光素子が高温のLSIチップに直接貼り付けられているため、光素子の高温劣化が懸念されることが挙げられる。
日経エレクトロニクス、"光配線との遭遇"2001年12月3日の122頁、123頁、124頁、125頁、図4、図5、図6、図7 NTT R&D, vol.48, no.3, pp.271-280 (1999)
しかしながら、上記に示した代表的な仕様は、以下の理由から、現状では決定力に欠けているのが実状である。
第1に、既存のプリント配線板の実装構造をそのまま利用できる構造ではないこと。即ち、プリント配線板上に光経路を直接積層する構造は、ベースとなるプリント配線板自体が脆弱であるため、光軸ズレ等の問題が生じて現実的ではない。一方、これまで培われてきたプリント配線板の構造に変更を加えると、性能、信頼性、高周波性能の確認などに膨大な労力を要する。従って、埋め込み型光導波路など、既存のプリント配線板を流用できないシステム構造は望ましくない。
第2に、既存の実装プロセスをそのまま利用できる構造ではないこと。一般に、光導波路などの光モジュールは高温プロセスに弱い。上記したようなプリント配線板と光配線部が一体化した方式では、光モジュールが、はんだリフロー、アンダーフィル樹脂封止などの高温プロセスに曝されることになり、現実には実施が困難である。また、高温プロセスを考慮した材料や部品を採用しなくてはならず、大きな制約条件となる。
第3に、大掛かりな構造物を排除した構造ではないこと。即ち、プリント配線板の剛性が低いため、大掛かりな部品による光路構造は、外部応力により光軸ズレを引き起こし易い。従って、上述したようなアクティブインターポーザー方式によるポスト構造は、避けるべきである。
第4に、高密度化が可能な光配線構造ではないこと。即ち、プリント配線板上の半導体チップ間の光配線に特化すると、高密度化が不可能な光ファイバーは採用すべきではないと考えられる。光ファイバーを用いた光コネクタ接続方式などは、装置間通信に向けたシステムとして限定されたものとなる。
第5に、LSIチップ−光素子間の配線長を短くできる構造ではないこと。即ち、LSIチップ−光素子間の電気配線長を短絡化できない構造では、高周波信号が光素子に到達する前に劣化し、光変換の効果がなくなる。従って、この距離を短くできるシステム構造を構築する必要がある。
本発明は、上述したような問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、既存のプリント配線板の実装構造及び実装プロセスをそのまま利用でき、大掛かりな構造物を排除することができ、配線の高密度化が可能であり、及び半導体チップ−光素子間の配線長を短くできる構造が実現可能な光電複合装置及びこの装置に用いられる光導波路、並びに光電複合装置の実装構造を提供することにある。
即ち、本発明は、クラッド層とコア層との接合体からなり、前記コア層を通して入射光が導かれるように構成されている光導波路であって、前記コア層の光入射部及び光出射部の少なくとも一方を含む端部において、前記クラッド層の剛性が他の部分よりも大きくなっている、光導波路に係るものである。
また、ソケットと、このソケットに設置された光導波路とを有し、前記光導波路に光入射を行うための発光素子と、前記光導波路からの出射光を受けるための受光素子との少なくとも一方が、前記光導波路に対向して配置され、また前記光導波路が、クラッド層とコア層との接合体からなり、前記コア層を通して入射光が導かれるように構成され、前記コア層の光入射部及び光出射部の少なくとも一方を含む端部において、前記クラッド層の剛性が他の部分よりも大きくなっている、光電複合装置に係るものである。
さらに、上記した本発明の光電複合装置がプリント配線板に電気的に接続された状態で固定されている、光電複合装置の実装構造に係るものである。
本発明の光電複合装置及びその実装構造によれば、光電複合装置が、前記ソケットと、このソケットに設置された前記光導波路とを有し、前記発光素子と、前記受光素子との少なくとも一方が、前記光導波路に対向して配置されてなり、この光電複合装置が、前記プリント配線板に電気的に接続された状態で固定されているので、以下に示すように、上記した従来例による光配線技術に起因する諸問題を解決することができる。
即ち、前記光導波路が前記ソケットに設置された状態で前記プリント配線板に電気的に接続されるので、既存の前記プリント配線板の実装構造をそのまま利用できる構造である。従って、前記プリント配線板上に前記ソケットが設置できる領域を設ければ、その他の一般の電気配線は従来通りのプロセスで形成することが可能である。
また、前記光導波路が高温プロセスに弱くても、例えば、前記プリント配線板に前記ソケットを固定し、更にはんだリフロー、アンダーフィル樹脂封止などの高温プロセスを含む、全ての実装プロセスを完了した後、前記ソケットに前記光導波路を設置することができるので、前記光導波路が高温によるダメージをこうむることなしにその実装を行うことが可能である。
また、前記ソケットは、実装業界に広く浸透しているIC(半導体集積回路)ソケット構造と同様のソケット構造を用いて、特に、垂直方向の光結合を実現することができる。前記ソケットは材料、絶縁性、信頼性等のデータが既に多く存在し、また扱っているメーカーも多岐に渡る。従って、機能、コスト、信頼性等の全てにおいて受け入れ易い構造物であり、既存のプリント配線板実装プロセスとの融合も図り易く、大掛かりな構造物を排除した構造とすることができる。
また、前記プリント配線板と比較して剛性の高い樹脂によって前記ソケットを作製でき、このソケット上で、前記発光素子及び/又は前記受光素子及び前記光導波路間の光結合を行うことがでるため、光結合に必要とされる実装精度を容易に確保できる。例えば、現状のモールド技術により、数μmオーダーの組立て精度は確保可能である。従って、光バスの高密度化も可能となる。
さらに、例えば、半導体集積回路チップ及び前記発光素子及び/又は前記受光素子を、インターポーザーを介してその上下面に近接させて設置することができるので、前記半導体集積回路チップと、前記発光素子及び/又は前記受光素子との間の配線長を短くすることができる。従って、電気信号のノイズ対策やクロストーク対策も容易となり、光変調速度も向上させることが可能となる。
また、従来例による電気配線構造では、プリント配線板に光導波路を直接設けていたので、半導体集積回路チップの高機能化に伴って半導体集積回路チップから引き出されるピンや配線数が増大すると、光導波路によってプリント配線板の設計の自由度を阻害していた。これにより、プリント配線板の高機能化が困難となり、結果として、全ての機能をワンチップに納めるSOC(system on chip)化に頼る状況となっていた。これに対し、本発明によれば、前記光導波路が前記ソケットに設置された状態で前記プリント配線板に電気的に接続されるので、プリント配線板の高密度配線とその設計の自由度を確保しながら光配線システムを安価かつ高い自由度で前記プリント配線板上に展開することが可能となり、前記プリント配線板上での高速分散処理、電子機器トータルでの高機能化、及び開発の短TAT(turn around time)化等が期待できる。
一方、従来例による光導波路は一般に樹脂からなる薄膜である。しかしながら、樹脂は吸湿性があるため、光導波路は次第に膨張する。このような従来例による光導波路を前記ソケットに設置した場合、上記したように光導波路が膨潤してしまい、結果として、光軸が次第にずれてしまう。
このような問題を解決するために本発明者が鋭意検討したところ、前記コア層の前記光入射部及び前記光出射部の少なくとも一方を含む前記端部において、前記クラッド層の剛性を他の部分よりも大きくすることにより、前記端部が上記した従来例のように膨潤するのを防ぐことができ、また光導波路と前記ソケットとの接合強度を向上させることができることを見出した。従って、本発明の光導波路を用いて光電複合装置を構成すれば、光軸がずれることがなく、効率的でありかつ安定した光入射及び/又は光出射を行うことができ、上述したような本発明の光電複合装置による効果を確実に得ることが可能となる。
本発明において、前記光入射部及び光出射部が存在する両端部における前記クラッド層の厚さが、前記両端部間の中間部分の厚さよりも大きいことが望ましい。これにより、前記両端部における前記クラッド層の剛性を前記中間部分よりも大きくすることができるので、前記両端部における前記クラッド層の膨潤をより効果的に防止することができ、光軸がずれることはない。また、光導波路と前記ソケットとの接合強度をより向上させることができる。
また、前記端部以外又は前記両端部以外の前記クラッド層の中間部分が可撓性を有していることが好ましい。
また、前記コア層が、第1クラッド層としての前記クラッド層と、これとは別の第2のクラッド層とにより挟着されていることが好ましい。なお、前記コア層は入射した信号光を導波する役割を果たし、前記第1クラッド層及び前記第2クラッド層は前記コア層内に信号光を閉じ込める役割を果たす。前記コア層は高い屈折率を持つ材料からなり、前記第1クラッド層及び前記第2クラッド層は前記コア層より低い屈折率の材料で構成されている。具体的には、前記第1クラッド層の材質は例えばポリカーボネート等が挙げられる。
また、本発明の光導波路は、前記第2クラッド層を通して前記コア層へ光入射するように構成され、前記コア層の前記光入射部に相当する位置において、光集束手段が前記第2クラッド層と一体成形されていることが好ましい。これにより、前記コア層の前記光入射部に相当する位置において、前記第2クラッド層の剛性を前記光集束手段によって高くすることができるので、上記したような膨潤による光軸のズレをより効果的に防止することができる。
従来例による光配線を用いての光伝送結合技術では、光源としてレーザー光やLED(light-emitting diode:発光ダイオード)光が使われており、これらの光源は広がったビーム形状となる。図25及び図26に示すように、光源から出射された信号光53を集光して効率的に光導波路51へ入射させるために、従来例による光導波路51は、発光素子50と光導波路51との間にレンズ等の光学部品52が別途又は後付けで設置されている。このような光導波路51は、例えば、クラッド層54、コア層56及びクラッド層55からなる接合体を形成し、その入射端面をダイシングソー等を用いる機械加工によって45°ミラー面に加工した後、クラッド層54上に光学部品52としてのレンズ材を滴下して固化することによって製造することができる。
しかしながら、上記した従来例のように、レンズ等の光学部品52を別途又は後付けで設置した場合、光導波路51と光学部品52との光軸調整などが必要となり、光学部品52の位置決め精度が困難である。また、製造工程が複雑になるためにコストが高くなり、部品点数が増えるために生産性を悪化させる。
これに対し、本発明に基づく光導波路は、前記コア層の前記光入射部に相当する位置において、前記光集束手段が前記第2クラッド層と一体成形されているので、上記した従来例のように、レンズ等の光学部品を別途又は後付けで設置した場合に比べて、前記光集束手段の位置決め精度が容易であり、また製造も容易であってコストを低減することができる。また、前記光集束手段が前記第2クラッド層と一体成形されているので、部品点数が増えることがなく、生産性が高い。さらに、前記第2クラッド層と一体成形された前記光集束手段によって、光源から出射された光を効果的に前記コア層に入射させることができ、光結合効率を向上させることができる。
また、前記コア層の前記光出射部に相当する位置において、前記コア層から前記第2クラッド層を通して出射される光のコリメーション又は集束手段が前記第2クラッド層と一体成形されていることが好ましい。これにより、前記コア層の前記光出射部に相当する位置において、前記第2クラッド層の剛性を前記光のコリメーション又は集束手段によって高くすることができるので、上記したような膨潤による光軸のズレを更に効果的に防止することができる。また、本発明に基づく光導波路から出射される出射光を効果的にコリメーション又は集束することができ、前記出射光を前記受光手段が効率良く受光することができる。
また、前記光集束又はコリメーション手段が前記第2クラッド層と同一材質からなることが望ましい。具体的には、前記第2クラッド層及び前記光集束又はコリメーション手段の材質としては光学素子用の射出成形用樹脂(例えば、日本ゼオン社製の製品名ZEONEX)等が挙げられる。
また、前記光集束又はコリメーション手段が凸レンズであることが望ましく、前記凸レンズは例えばスタンピングにより成形することができる。
また、前記コア層の少なくとも前記光入射部を傾斜ミラー面、例えば45°ミラー面に形成することが望ましい。前記傾斜ミラー面付きの前記コア層は射出成形によって形成することができる。前記コア層を前記射出成形によって形成すれば、前記コア層に直接加工を行うことなしに前記傾斜ミラー面を形成することができるので、作製時のダメージがなく、表面状態を平滑にすることができ、容易かつ精度良く良質な光導波路を作製することができる。また、前記コア層の前記光入射部を前記傾斜ミラー面に形成することにより、レーザー、LED等の光源から放射された信号光を更に効率良く前記コア層に入射させることができる。なお、前記コア層の材質としては従来公知のものが使用可能であり、UV(紫外線)硬化性樹脂、例えばフッ素系ポリイミド等が挙げられる。
また、光伝搬方向において前記第2クラッド層が前記第1クラッド層よりも長く形成されていることが好ましい。
さらに、本発明に基づく光導波路は、ソケットを有し、発光素子と受光素子との少なくとも一方が対向して配置される光電複合装置に好適に用いられる。
即ち、本発明の光電複合装置は、ソケットと、このソケットに設置された本発明の光導波路とを有し、前記光導波路に光入射を行うための発光素子と、前記光導波路からの出射光を受けるための受光素子との少なくとも一方が、前記光導波路に対向して配置される。
前記ソケットに前記光導波路を位置決めして固定するための位置決め手段が設けられていることが望ましく、具体的には前記位置決め手段が凹凸構造からなることが望ましい。
そして、この凹凸構造の凸面上に、前記発光素子(例えばレーザー)及び/又は前記受光素子を実装したインターポーザーが固定されていることが望ましい。この場合、前記凸面に、前記インターポーザーの位置決め機構を有してもよい。また、前記インターポーザーに、前記発光素子及び/又は前記受光素子に接続された半導体集積回路チップが実装されていることが望ましい。これにより、前記半導体集積回路チップ及び前記発光素子及び/又は前記受光素子を、前記インターポーザーを介してその上下面に近接させて設置することができるので、前記半導体集積回路チップと、前記発光素子及び/又は前記受光素子との間の配線長を短くすることができる。従って、電気信号のノイズ対策やクロストーク対策も容易となり、光変調速度も向上させることができる。
また、前記凹凸構造が、前記光導波路を嵌め込んでその幅方向を位置決めするための凹部と、前記光導波路の長さ方向を位置決めするための突起部とを有していることが好ましい。ここで、前記凹凸構造の前記凹部の深さとしては、前記光導波路の厚さよりも大きいのが望ましい。
さらに、一対の前記ソケット間に本発明に基づく光導波路が架け渡されていることが望ましく、これにより、前記光導波路が光配線として用いられる光配線システムを構成することができる。
本発明に基づく光電複合装置の実装構造は、本発明に基づく光導波路が前記プリント配線板とは非接触となっていることが好ましい。これにより、前記半導体集積回路チップの放熱により、前記光導波路が破壊されるのを効果的に防止することができる。
また、前記光導波路の光伝搬方向において、前記ソケットに固定される前記クラッド層の長さが、前記プリント配線板に固定された前記一対のソケット間距離より大きいことが望ましい。
以下、本発明の好ましい実施の形態を図面を参照して説明する。
第1の実施の形態
図1は、本発明に基づく光電複合装置の概略斜視図である。図1(a)は、光電複合装置の概略斜視図であり、図1(b)は、図1(a)の分解図である。
図1に示すように、光電複合装置18は、一対のソケット13と、このソケット13に設置された本発明に基づく光導波路1とを有し、この一対のソケット13間に光導波路1が架け渡されている。このとき、光導波路1は、後述するプリント配線板とは非接触となっているので、半導体集積回路チップの放熱により、光導波路1が破壊されるのを効果的に防止することができる。
ソケット13は、図1(b)及び図2に示すように、本発明に基づく光導波路1を位置決めして固定するための、凹凸構造からなる位置決め手段が設けられている。具体的には、前記凹凸構造が、光導波路1を嵌め込んでその幅方向を位置決めするための凹部14と、光導波路1の長さ方向を位置決めするための突起部15とを有している。また、凹部14の深さは、光導波路1の厚さよりも大きい。
また、ソケット13の前記凹凸構造の凸面16には、ソケット13の表及び裏面とを導通するための導通手段、例えばターミナルピン17が設けられている。そして、ソケット13の前記凹凸構造の凸面16上に、半導体集積回路チップ21a、21bと、前記発光素子(図示省略)(例えばレーザー)及び/又は前記受光素子(図示省略)とが実装されたインターポーザー20が固定される。
ソケット13の材質としては絶縁性樹脂であれば、従来公知の材料を用いることができ、例えばガラス入りPES(ポリエチレンスルフィド)樹脂、ガラス入りPET(ポリエチレンテレフタレート)樹脂等が挙げられる。このようなソケット13の材料は、その種類、絶縁性、信頼性等のデータが既に多く存在し、また扱っているメーカーも多岐に渡る。従って、機能、コスト、信頼性等の全てにおいて受け入れ易い構造物であり、既存のプリント配線板実装プロセスとの融合も図り易い。
ソケット13の製造方法は特に限定されないが、例えば、前記凹凸構造に対応した形状を有する金型を用い、成形によって容易に作製することができる。
本発明に基づく光導波路1は、図1(b)及び図3に示すように、コア層4が第1クラッド層2と第2クラッド層3とにより挟着されている。図3は、図1(b)の光導波路1のB−B’線断面図である。コア層4は入射した信号光を導波する役割を果たし、クラッド層2、3はコア層4内に信号光を閉じ込める役割を果たす。コア層4は高い屈折率を持つ材料からなり、クラッド層2、3はコア層4より低い屈折率の材料で構成されている。また、コア層4は、図示省略したが例えば複数並列に配置されている。
また、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さが、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成されている。
従来例による光導波路は一般に樹脂からなる薄膜である。しかしながら、樹脂は吸湿性があるため、光導波路は次第に膨張する。図4に示すように、仮にこのような従来例による光導波路51をソケット13に設置した場合、光導波路51とソケット凹部14の壁面との間に間隙が存在すると、光導波路51が図中矢印で示すように膨潤してしまい、結果として、光軸が次第にずれてしまう。
これに対し、本発明に基づく光導波路1を用いれば、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さが、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成され、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2の剛性を中間部分2cよりも大きくすることができるので、上記した間隙が存在していても両端部2a、2bにおける第1クラッド層2が膨潤するのをより効果的に防止することができ、光軸がずれることはない。また、光導波路1とソケット13との接合強度をより向上させることができる。また、上記した間隙の存在によって、光導波路1をソケット13上に配置し易くなる。なお、第1クラッド層2の材質としては、例えばポリカーボネート等が挙げられる。
また、図5に示すように、光伝搬方向において第2クラッド層3が第1クラッド層2よりも長く形成されていることが好ましい。
さらに、両端部2a、2b以外の第1クラッド層2の中間部分2cが可撓性を有していることが好ましい。
なお、コア層4の光入射部5に相当する位置において、前記光集束手段としての凸レンズ7が第2クラッド層3と一体成形されている。これにより、コア層4の光入射部5に相当する位置において、第2クラッド層3の剛性を凸レンズ7によって高くすることができるので、膨潤による光軸のズレをより効果的に防止することができる。凸レンズ7は、光入射部又は/及び光出射部においてそれぞれ複数列設けられるのがよいが、図3では簡略化のためにそれぞれ1個(1列)ずつ示している(以下の他の図でも同様に示すことがある)。
図3及び図6に示すように、レーザー等の発光素子81に光学部品12が設置されていてもよく、この光学部品12によって発光素子81から出射される信号光(例えばレーザー光)30が平行光へとコリメーションされる。そして、この平行光が前記光集束手段としての凸レンズ7によって集束され、コア層4に効果的に入射される。この場合、図6に示すように、本発明に基づく光導波路1は、前記光集束手段としての凸レンズ7を有するので、発光素子81及び光学部品12の位置が多少ずれた場合においても、発光素子81からの信号光30を効果的に集束してコア層4に入射させ、効率良く光結合を行うことができる。
また、コア層4の光出射部6に相当する位置において、コア層4から第2クラッド層3を通して出射される光のコリメーション又は集束手段としての凸レンズ7が第2クラッド層3と一体成形されていることが好ましい。さらに、受光素子91に光学部品12が設置されていてもよい。これにより、コア層4の光出射部6に相当する位置において、第2クラッド層3の剛性を凸レンズ7によって高くすることができるので、膨潤による光軸のズレを更に効果的に防止することができる。また、本発明に基づく光導波路1から出射される光を効果的にコリメーション又は集束することができ、前記受光手段としての受光素子(光配線やフォトディテクタ等)91に効率良く信号光を受光させることができる。
また、凸レンズ7が第2クラッド層3と同一材質からなることが望ましくい。具体的には、第2クラッド層3及び凸レンズ7の材質としては光学素子用の射出成形用樹脂(例えば、日本ゼオン社製の製品名ZEONEX)等が挙げられる。
また、コア層4の光入出射部5、6が傾斜ミラー面、例えば45°ミラー面に形成されていることが望ましい。前記傾斜ミラー面付きのコア層4は射出成形によって形成することができる。前記射出成形により、コア層4に直接加工を行うことなしに前記傾斜ミラー面を形成することができるので、作製時のダメージがなく、表面状態を平滑にすることができ、容易かつ精度良く良質な光導波路1を作製することができる。また、コア層4の光入出射部5、6を前記傾斜ミラー面に形成することにより、レーザー等の発光素子81から放射された信号光30を更に効率良くコア層4に入射させることができ、またこの入射した信号光30を導波し、効果的に受光素子91に対して出射させることができる。なお、コア層4の材質としては従来公知のものが使用可能であり、UV(紫外線)硬化性樹脂、例えばフッ素系ポリイミド等が挙げられる。
ここで、例えば図7に示すように、第1クラッド層2の両端部2a、2bの長さAは、複数のレンズ7からなるレンズ群(またはミラー群)の長さaに対して、1〜5倍の範囲とするのが好ましい。また、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2の厚みTは、十分な機械的強度を維持し、かつソケット13の凹部14の深さDより小さくなるような値が望ましい。具体的には、第1クラッド層2の中間部分2cの厚さtは100μmとすることができ、両端部2a、2bの厚さTは2〜3mmとすることができる。また、凸レンズ7の厚さは50μmとすることができ、レンズ径は約Φ100μmとすることができる。さらに、第2クラッド層3の厚さb(凸レンズ7の厚みを除く)は500μmとすることができ、コア層4の厚さmは15μm、幅5μmとすることができる。なお、図7では複数のコア層4が並列に配置されており、凸レンズ7はそれぞれ、対応するコア層4の光入射部又は/及び光出射部に設けられる。
以下に、本発明に基づく光導波路1の製造方法の一例について、図8及び図9を参照して説明する。
まず、図8(a)に示すように、第2クラッド層3の基となるクラッド材3aを形成する。クラッド材3aとしては光学素子用の射出成形用樹脂(例えば、日本ゼオン社製の製品名ZEONEX)等が挙げられる。次に、図8(b)に示すように、凸レンズ7に対応する形状を有するNi金型10を用い、スタンピングを行う。これにより、図8(c)に示すように、凸レンズ7を第2クラッド層3と一体成形することができる。これによれば、凸レンズ7の位置決めは容易であり、また製造も容易であってコストを低減することができる。また、凸レンズ7が第2クラッド層3と一体成形されているので、部品点数が増えることがなく、生産性が高い。
一方、図8(d)に示すように、コア層4の光入射部5及び光出射部6に対応する形状を有する石英型11にコア材4aを充填する。コア材4aとしては従来公知のものが使用可能であり、UV(紫外線)硬化性樹脂、例えばフッ素系ポリイミド等が挙げられる。石英型11は、例えばバイナリマスク露光及びドライエッチングによって容易に作製することができる。なお、図示省略したが、コア層4は並列に複数配置された構造であってよい。
次に、図9(e)に示すように、上記に作製した第2クラッド層3を凸レンズ7を有する面を上向きにした状態で、コア材4aが充填された石英型11上に配置し、紫外線を照射するなどしてコア材4aを固化する。そして、図9(f)に示すように、第2クラッド層3に接合されたコア層4を石英型11から剥離する。このように、射出成形によってコア層4の光入出射部5、6を傾斜ミラー面、例えば45°ミラー面に形成することにより、コア層4に直接加工を行うことなしに前記傾斜ミラー面を形成することができるので、作製時のダメージがなく、表面状態を平滑にすることができ、容易かつ精度良く良質な光導波路1を作製することができる。
一方、図9(g)に示すように、上型31及び下型32を用い、第1クラッド層2に対応する形状を有するキャビティ33を形成する。即ち、キャビティ33の両端部33a、33bの厚さが、両端部33a、33b間の中間部分33cの厚さよりも大きい。このキャビティにクラッド材2’を充填する。そして、クラッド材2’を固化し、上型31及び下型32を剥離することにより、図9(h)に示すように、第1クラッド層2を作製することができる。これにより、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さを、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成することができる。第1クラッド層2の材質は例えばポリカーボネート等が挙げられる。
次に、図9(i)に示すように、上記に作製したコア層4の第2クラッド層3とは逆の面側に、上記のようにして別途作製した第1クラッド層2を配置する。以上のようにして、本発明に基づく光導波路1を作製することができる。
インターポーザー20は、例えば図9に示すように、一方の面側には半導体集積回路チップ21が実装されており(図10(a))、他方の面側には光導波路1に光入射を行うための発光素子アレイ8と、光導波路1からの出射光を受けるための受光素子アレイ9とが実装され、周辺部には再配線電極22が設けられている(図10(b))。なお、発光素子アレイ8及び受光素子アレイ9は、各コア層4の光入出射部5、6に対応する位置にそれぞれ配置された複数の発光素子及び受光素子を備える(図示省略)。各発光素子及び受光素子の間隙には、発光素子及び受光素子と半導体集積回路チップとの間の電気的接続を行う貫通電極が配置されている(図示省略)。
そして、凹部14に光導波路1が設置されてなる一対のソケット13と、インターポーザー20とを固定するに際し、インターポーザー20の発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9が実装された面側をソケット13の凸面16と接するように構成し、またソケット13のターミナルピン17とインターポーザー20の再配線電極22とを電気的に接続するように固定する。
また、上述したように、ソケット13の凹部14の深さを、光導波路1の厚さ(例えば1mm)よりも大きく形成する(例えば前記深さを2mmとする。)ことにより、図1(a)及び図7に示すように、光導波路1の一方の面23側と、インターポーザー20の発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9が実装されている面側との間に空間(例えば500μm)25を形成することができる(これは、発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9の厚さを500μmとした場合。)。
上記したように、ソケット13上に、インターポーザー20を介して半導体集積回路チップ21を実装し、及び光導波路1の一方の面23側と、インターポーザー20の発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9が実装されている面側との間に空間25を形成することにより、光電複合装置18の使用時に半導体集積回路チップ21が発熱しても、この熱によって光導波路1が破壊されるのを効果的に防ぐことができる。
この動作メカニズムは、一方の半導体チップ21aから発信される電気信号が光信号に変換されて、発光素子アレイ8の各発光素子(図示省略)からレーザー光による光信号として出射される。出射された光信号は、光導波路1の対応する一つの凸レンズ7によって集束され、コア層4の光入射部5に入射し、コア層4が延伸する導波方向に導波され、コア層4の光出射部6から出射する。そして、光導波路1から出射された光信号は、受光素子アレイ9の対応する受光素子(図示省略)に受光されて電気信号に変換され、他方の半導体チップ21bに電気信号として伝送される。
この光電複合装置18は、本発明に基づく光導波路1が光配線として用いられる光配線システムを構成することができる。即ち、この光電複合装置18を前記プリント配線板に電気的に接続された状態で固定する。
本発明に基づく光電複合装置18によれば、本発明に基づく光導波路1がソケット13の凹部14に設置された状態で前記プリント配線板に電気的に接続することができるので、既存の前記プリント配線板の実装構造をそのまま利用できる構造である。従って、前記プリント配線板上にソケット13が設置できる領域を設ければ、その他の一般の電気配線は従来通りのプロセスで形成することが可能である。
また、光導波路1が高温プロセスに弱くても、例えば、前記プリント配線板にソケット13を固定し、更にはんだリフロー、アンダーフィル樹脂封止などの高温プロセスを含む、全ての実装プロセスを完了した後、ソケット13の凹部14に本発明に基づく光導波路1を設置することができるので、光導波路1が高温によるダメージをこうむることなしにその実装を行うことが可能である。
また、前記プリント配線板と比較して剛性の高い樹脂によってソケット13を作製でき、このソケット13上で、前記発光素子及び/又は前記受光素子及び光導波路1間の光結合を行うことがでるため、光結合に必要とされる実装精度を容易に確保できる。例えば、現状のモールド技術により、数μmオーダーの組立て精度は確保可能である。従って、光バスの高密度化も可能となる。
さらに、半導体集積回路チップ21と、発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9とを、インターポーザー20を介してその上下面に近接させて設置することができるので、半導体集積回路チップ21と、前記発光素子及び/又は前記受光素子との間の配線長を短くすることができる。従って、電気信号のノイズ対策、クロストーク対策も容易となり、光変調速度も向上させることが可能となる。
また、本発明に基づく光導波路1がソケット13の凹部14に設置された状態で前記プリント配線板に電気的に接続することができるので、前記プリント配線板の高密度配線とその設計の自由度を確保しながら光配線システムを安価かつ高い自由度で前記プリント配線板上に展開することが可能となり、前記プリント配線板上での高速分散処理、電子機器トータルでの高機能化、及び開発の短TAT(turn around time)化等が期待できる。
また、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さが、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成されている。これにより、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2の剛性を中間部分2cよりも大きくすることができるので、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2が膨潤するのをより効果的に防止することができる。また、光導波路1とソケット13との接合強度をより向上させることができる。従って、本発明に基づく光導波路1を用いて光電複合装置18を構成すれば、光軸がずれることがなく、効率的でありかつ安定した光入射及び/又は光出射を行うことができ、上述したような本発明に基づく光電複合装置18による効果を確実に得ることが可能となる。
以下に、本発明に基づく光電複合装置18の製造方法及び実装構造の一例について、図11〜図13を参照して説明する。なお、図11及び図12は、図1(a)の光電複合装置18のA−A’線断面図である。
まず、図11(a)及び(b)に示すように、プリント配線板19上に、一対のソケット13を実装する。このとき、プリント配線板19上の電極(図示省略)と、ソケット13のターミナルピン17とを位置合わせして、前記電極とソケット13が電気的に接続されるように実装する。
なお、図示省略したが、プリント配線板19上には予めその他の電子部品等の実装及び電気配線を形成しておく。
次に、図11(c)に示すように、ソケット13の凹部14に本発明に基づく光導波路1を設置し、この一対のソケット13間に光導波路1を架け渡しさせる。このとき、ソケット13に設けられた前記凹凸構造としての突起15により、光導波路1の長さ方向における位置決めは容易に行うことができ、また凹部14によって光導波路1の幅方向における位置決めは容易に行うことができる。なお、ソケット13の凹部14に光導波路1を設置するので、光導波路1とプリント配線板19とは非接触の状態になっている。
このとき、図14に幾分誇張して示すように、光導波路1の実装時に、その光伝搬方向において、ソケット13に固定される光導波路1の長さが、プリント配線板19に固定された一対のソケット13間距離より大きいことが望ましい。図示するように、光導波路1をたわませた状態で固定することにより、ソケット13のプリント配線板19上における位置決め誤差を吸収することができ、常に安定したかつ効率的な光導波を行うことができる。これは、第1クラッド層2の両端部2a、2b以外の中間部分2c、及び第2クラッド層3及びコア層4の中間部分が可撓性を有することにより容易に実現することができる。
光導波路1のソケット13への接着固定手段としては、特に限定されるものではないが、例えば接着性樹脂を用いて行うことできる。具体的には、まず図13(a)に示すように、ソケット13の凹部14の底面に溝27を任意の形状で形成する。このとき、溝27の端部がソケット13の突起15の周辺部まで位置するように形成する。次に、図13(b)に示すように、ソケット13の凹部14に、本発明に基づく光導波路1を設置する。上述したように、光導波路1の長さ方向及び幅方向における位置決めは、ソケット13に設けられた突起15及び凹部14によって容易に行うことができる。ここで、溝27は突起15の周辺部まで位置するように形成されているので、溝27の一部は光導波路1に覆われない状態となる。次に、図13(c)に示すように、光導波路1に覆われていない溝27の一部からディスペンサー28等を用いて接着性の樹脂を注入し、固化することによって、ソケット13の凹部14に光導波路1を接着固定することができる。
上記のようにしてソケット13に本発明に基づく光導波路1を設置した後、図12(d)に示すように、ソケット13の凸面16上に、前記半導体集積回路チップとしての例えばMPU(micro processor unit)21a又はDRAM(dynamic random access memory)21bと、発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9とが実装されたインターポーザー20を固定する。このとき、インターポーザー20の発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9が実装された面側をソケット13の凸面16と接するように構成し、またソケット13の凸面16に露出したターミナルピン(図示省略)とインターポーザー20の再配線電極22とを電気的に接続するように固定する。
次に、図12(e)に示すように、MPU21a、DRAM21b上にそれぞれ、アルミのフィン26等の冷却機構を設置する。
以上のようにして、本発明に基づく光電複合装置18を用いて、本発明に基づく光導波路1が光配線として用いられる光配線システムを構成することができる。
ここで、図15は、本発明に基づく光電複合装置18をプリント配線板19上に展開した例を示す模式図である。例えば、光導波路モジュールを規格化することで、4方向に自在に展開することが可能となる。
本実施の形態によれば、本発明に基づく光導波路1がソケット13の凹部14に設置された状態でプリント配線板19に電気的に接続することができるので、既存のプリント配線板19の実装構造をそのまま利用することができる。従って、プリント配線板19上にソケット13が設置できる領域を設ければ、その他の一般の電気配線は従来通りのプロセスで形成することが可能である。
また、本発明に基づく光導波路1が高温プロセスに弱くても、上述したように、プリント配線板19にソケット13を固定し、更にはんだリフロー、アンダーフィル樹脂封止などの高温プロセスを含む、全ての実装プロセスを完了した後、ソケット13の凹部14に本発明に基づく光導波路1を設置するので、光導波路1が高温によるダメージをこうむることなくその実装を行うことが可能である。
また、プリント配線板19と比較して剛性の高い樹脂によってソケット13を作製でき、このソケット13上で、前記発光素子及び/又は前記受光素子及び光導波路1間の光結合を行うことがでるため、光結合に必要とされる実装精度を容易に確保できる。例えば、現状のモールド技術により、数μmオーダーの組立て精度は確保可能である。従って、光バスの高密度化も可能となる。
また、半導体集積回路チップ21a、21bと、発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9とを、インターポーザー20を介してその上下面に近接させて設置することができるので、半導体集積回路チップ21a、21bと、前記発光素子及び/又は前記受光素子との間の配線長を短くすることができる。従って、電気信号のノイズ対策、クロストーク対策も容易となり、光変調速度も向上させることが可能となる。
また、本発明に基づく光導波路1がソケット13の凹部14に設置された状態でプリント配線板19に電気的に接続することができるので、プリント配線板19の高密度配線とその設計の自由度を確保しながら光配線システムを安価かつ高い自由度で前記プリント配線板上に展開することが可能となり、前記プリント配線板上での高速分散処理、電子機器トータルでの高機能化、及び開発の短TAT(turn around time)化等が期待できる。
さらに、ソケット13上に、インターポーザー20を介して半導体集積回路チップ21a、21bを実装し、及び本発明に基づく光導波路1の一方の面23側と、インターポーザー20の発光素子アレイ8及び/又は受光素子アレイ9が実装されている面側との間に空間25を形成することにより、光電複合装置18の使用時に半導体集積回路チップ21が発熱しても、この熱によって本発明に基づく光導波路1が破壊されるのを効果的に防ぐことができる。
また、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さが、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成されている。これにより、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2の剛性を中間部分2cよりも大きくすることができるので、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2が膨潤することをより効果的に防止することができる。また、光導波路1とソケット13との接合強度をより向上させることができる。従って、本発明に基づく光導波路1を用いて光電複合装置18を構成すれば、光軸がずれることがなく、効率的でありかつ安定した光入射及び/又は光出射を行うことができ、上述したような本発明に基づく光電複合装置18による効果を確実に得ることが可能となる。
第2の実施の形態
図16(a)は、図3における第1クラッド層2(但し、ここでは図示せず)側から見た発光素子、受光素子及び光導波路1の配置を示す図であり、図16(b)は図16(a)においてX方向から見た側面図であり、図16(c)は図16(a)においてY方向から見た側面図である。なお、図16(b)及び(c)では、上下を反転させて示している。また、図16では図示省略したが、前記第1クラッド層は図3に示すように、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さが、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成されている。これにより、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2の剛性を中間部分2cよりも大きくすることができるので、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2が膨潤するのをより効果的に防止することができ、光軸がずれることはない。また、光導波路1とソケット13との接合強度をより向上させることができる。
図16に示す光導波路1は、45°ミラー面である光入射部5及び光出射部6を有する複数のコア層4が並列に配置されており、各コア層4の光入出射部5、6の位置が長さ方向において揃っている。
発光素子アレイ8は、各コア層4の光入射部5に対応する位置に配置された複数の発光素子81を備える。各発光素子81の間隙には、発光素子81と半導体集積回路チップ(図示省略)との間の電気的な接続を行う貫通電極(図示省略)が配置されている。なお、受光素子アレイ9においても、上記の発光素子アレイ8と同様である。
図16に示す光導波路1では、コア層4の並ぶ配列ピッチと同じピッチで、発光素子アレイ8の発光素子81や受光素子アレイ9の受光素子91が配列することとなる。
この場合、第2クラッド層3における前記光集束手段としての凸レンズ7は、コア層4の光入出射部5、6の位置にそれぞれ対応させて形成する。具体的には、図17に示すような配列となるように構成し、第2クラッド層3と一体成形すればよい。
この動作メカニズムは、一方の半導体集積回路チップ(図示省略)から発信される電気信号が光信号に変換されて、発光素子アレイ8の各発光素子81から光信号として出射される。出射された光信号は、光導波路1の対応する一つの凸レンズ7によって集束され、コア層4の光入射部5に入射し、45°ミラー面から構成される光入射部5において反射し、コア層4が延伸する導波方向に導波され、他方の45°ミラー面からなる光出射部6において再び反射してコア層4の光出射部6から出射する。光導波路1から出射された光信号は、凸レンズ7を介して受光素子アレイ9の対応する受光素子91に受光されて電気信号に変換され、他方の半導体集積回路チップ(図示省略)に電気信号として伝送される(以下、他の実施の形態も同様。)。
本実施の形態によれば、第2クラッド層3における凸レンズ7が、図17に示すような配列となるようにして第2クラッド層3と一体成形されているので、発光素子81からの光信号を効果的に集束してコア層4に入射させ、効率良く光結合を行うことができる。また、受光素子91が光導波路1からの出射光を効果的に受光することができる。
第3の実施の形態
図18(a)は、図3における第1クラッド層2(但し、ここでは図示せず)側から見た発光素子、受光素子及び光導波路1の概略構成を示す図であり、図18(b)は図18(a)においてX方向から見た側面図であり、図18(c)は図18(a)においてY方向から見た側面図である。なお、図18(b)及び(c)では、上下を反転させて示している。また、図18では図示省略したが、前記第1クラッド層は図3に示すように、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さが、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成されている。これにより、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2の剛性を中間部分2cよりも大きくすることができるので、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2が膨潤するのをより効果的に防止することができ、光軸がずれることはない。また、光導波路1とソケット13との接合強度をより向上させることができる。
図18(a)に示すように、光導波路1は、コア層4が並列に複数配置されている。各コア層4の端部は、45°ミラー面からなる光入射部5及び光出射部6となる。本実施の形態に係る光導波路1では、各コア層4の光入出射部5、6が、隣接する他のコア層4の光入出射部5、6に対して長さ方向にずれて形成されている。
発光素子アレイ8は、各コア層4の光入出射部5、6に対応する位置に配置された複数の発光素子81を備える。各発光素子81の間隙には、発光素子81と半導体集積回路チップ(図示省略)との間の電気的接続を行う貫通電極(図示省略)が配置されている(これは、受光素子アレイ9の受光素子91についても同様である。)。
この場合、第2クラッド層3における前記光集束手段としての凸レンズ7は、コア層4の光入出射部5、6の位置にそれぞれ対応させて形成する。具体的には、図19に示すような配列となるように構成し、第2クラッド層3と一体成形すればよい。
本実施の形態によれば、第2クラッド層3における凸レンズ7が、図19に示すような配列となるようにして第2クラッド層3と一体成形されているので、発光素子81からの光信号を効果的に集束してコア層4に入射させ、効率良く光結合を行うことができる。また、受光素子91が光導波路1からの出射光を効果的に受光することができる。
また、各コア層4の光入出射部5、6が、隣接する他のコア層4の光入出射部5、6に対して長さ方向にずれて形成されているので、コア層4の長さ方向において配列する発光素子81同士のピッチは、上記の長さ方向のずれ量だけの大きさとなる。例えば、隣接するコア層4の光入出射部5、6を延伸方向において100μmだけずらした場合には、コア層4の長さ方向において配列する発光素子81同士のピッチは100μmとなる。これは、受光素子91においても同様である。
また、コア層4の配列方向に並ぶ発光素子81のピッチは、5本のコア層4の配列ピッチの合計分だけの大きさとなる。例えば、各コア層4が20μmの配列ピッチで配列している場合には、コア層4の配列方向に並ぶ発光素子81のピッチは、100μmとなる。
このように、各コア層4の光入出射部5、6が、隣接する他のコア層4の光入出射部5、6に対して長さ方向にずれて形成されていることにより、コア層4に対応して配置される光素子(発光素子、受光素子を併せて称する。以下、同様。)81、91を二次的に配置することができ、光素子81、91を100μmピッチ程度で配置しながら、コア層4を20μmピッチにまで集積することが可能となっている。
即ち、光素子81、91の距離を光干渉や素子発熱によるクロストークの影響を避けるためのピッチで配列させつつ、コア層4の集積度を向上させることが可能となる。
また、コア層4を高集積化させつつ、光素子81、91を二次元的に配列することにより、無駄なスペースが無くなり、一素子当たりの基板専有面積を削減することができる。このため、一層のコストダウンを図ることができる。
第4の実施の形態
図20(a)は、前記コア層において、前記光集束手段が一体成形された前記第2クラッド層が接合された面とは反対側から見た発光素子アレイ、受光素子アレイ及び光導波路の概略構成を示す図であり、図20(b)は図20(a)においてX方向から見た側面図であり、図20(c)は図20(a)においてY方向から見た側面図である。なお、図20(b)及び(c)では、上下を反転させて示している。また、図20では図示省略したが、前記第1クラッド層は図3に示すように、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さが、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成されている。これにより、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2の剛性を中間部分2cよりも大きくすることができるので、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2が膨潤するのをより効果的に防止することができ、光軸がずれることはない。また、光導波路1とソケット13との接合強度をより向上させることができる。
光導波路1は、図20に示すように、各コア層4−1、4−2の光入出射部5、6が、隣接する他のコア層4−2、4−1の光入出射部5、6に対して長さ方向にずれて形成されている。本実施の形態では、光入出射部5、6の位置がずれた2つの第1のコア層4−1及び第2のコア層4−2を一単位として、繰り返し配列されている。
各コア層4の長さ方向の一方側において、第1のコア層4−1の光入射部5に対応して配置された発光素子81を複数有する発光素子アレイ8−1と、第2のコア層4−2の光出射部6に対応して配置された受光素子91を複数有する受光素子アレイ9−2が配置されている。
各コア層4の長さ方向の他方側において、第1のコア層4−1の光出射部6に対応して配置された受光素子91を複数有する受光素子アレイ9−1と、第2のコア層4−2の光入射部5に対応して配置された発光素子81を複数有する発光素子アレイ8−2が配置されている。
即ち、この光導波路1では、並列に配置された各コア層4−1、4−2に対し、発光素子81及び受光素子91が交互に配置されている。そのため、各コア層4−1、4−2は、互いに隣接する他のコア層4−2、4−1に対し逆方向に光を導波する。
この場合、第2クラッド層3における前記光集束手段としての凸レンズ7は、コア層4の光入出射部5、6の位置にそれぞれ対応させて形成する。具体的には、図21に示すような配列となるように構成し、第2クラッド層3と一体成形すればよい。これにより、発光素子81からの光信号を効果的に集束してコア層4に入射させ、効率良く光結合を行うことができる。また、受光素子91が光導波路1からの出射光を効果的に受光することができる。
また、並列に配置された各コア層4−1、4−2に対し、発光素子81及び受光素子91が交互に配置されていることから、例えば、半導体集積回路チップの特定の回路に接続する入出力パッドに対応する発光素子81及び受光素子91の位置は、図20のB部に示すように近接配置されていることから、電気配線の長さを短くすることができ、高周波対策が容易になるという効果がある。その他、第3の実施の形態と同様の効果も有する。
第5の実施の形態
図22(a)は、前記コア層において、前記光集束手段が一体成形された前記第2クラッド層が接合された面とは反対側から見た発光素子アレイ、受光素子アレイ及び光導波路の概略構成を示す図であり、図22(b)は図22(a)においてX方向から見た側面図であり、図22(c)は図22(a)においてY方向から見た側面図であり、図22(d)は受光素子アレイにおける受光素子の配置及び発光素子アレイにおける発光素子の配置を示す図である。なお、図22(b)及び(c)では、上下を反転させて示している。また、図22では図示省略したが、前記第1クラッド層は図3に示すように、第1クラッド層2の両端部2a、2bの厚さが、両端部2a、2b間の中間部分2cの厚さよりも大きく形成されている。これにより、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2の剛性を中間部分2cよりも大きくすることができるので、両端部2a、2bにおける第1クラッド層2が膨潤するのをより効果的に防止することができ、光軸がずれることはない。また、光導波路1とソケット13との接合強度をより向上させることができる。
本実施の形態では、第3の実施の形態と第4の実施の形態との構成を複合した構成となっている。即ち、第4の実施の形態と同様にして、光導波路1では、並列に配置された各コア層4に対し、発光素子81及び受光素子91が交互に配置されている。そのため、各コア層4は、互いに隣接する他のコア層に対し逆方向に光を導波する。
また、第3の実施の形態と同様に、各光素子アレイ8−1、8−2、9−1、9−2における光素子81、91は、図22(d)に示すように、隣り合う他の光素子81、91に対し、コア層4の長さ方向にずれて配置されている。
この場合、第2クラッド層3における前記光集束手段としての凸レンズ7は、コア層4の光入出射部5、6の位置にそれぞれ対応させて形成する。具体的には、図23に示すような配列となるように構成し、第2クラッド層3と一体成形すればよい。これにより、発光素子81からの光信号を効果的に集束してコア層4に入射させ、効率良く光結合を行うことができる。また、受光素子91が光導波路1からの出射光を効果的に受光することができる。
また、図16に示すように各光素子アレイにおいて光素子が直線的に配列している場合に比べて、光素子間のピッチを大きくとることができることから、上述した第4の実施の形態の効果を維持しつつ、光素子間の距離を光干渉や素子発熱によるクロストークの影響を避けるためのピッチで配列させることができることから、コア層4の集積度を向上させることが可能となる。その他、第3の実施の形態の効果を奏することができる。
以上、本発明を実施の形態について説明したが、上述の例は、本発明の技術的思想に基づき種々に変形が可能である。
例えば、前記端部における前記クラッド層の剛性を前記他の部分よりも大きくする手法として、前記端部における前記クラッド層の厚みを、前記他の部分よりも大きく形成することを説明したが、この手法に特に限定されない。具体的には、上記のように厚みを変えずに、前記クラッド層の前記端部にのみ、構成成分として硬化剤を添加して剛性を大きくする手法、また前記クラッド層の少なくとも前記端部にコーティングを施して、前記端部における前記クラッド層の剛性を大きくし、吸湿性を低下させることにより光導波路の膨潤を防ぐ手法などがある。また、剛性を大きくする部分は、前記クラッド層の一方の端部のみでもよい。
また、前記光集束手段としての凸レンズ7の形状は特に限定されず、例えば球面レンズの他にもシリンドリカルレンズ等も勿論適用可能である。
また、凸レンズ7を第2クラッド層3と一体成形する方法としてスタンピングの例を説明したが、例えば注型等によって成形してもよい。
また、図8及び図9において、コア材4aが充填された石英型11上に第2クラッド層3を配置してコア材4aを固化する例を説明したが、この他に、ゲートを有する石英型を第2クラッド層3に配置して、前記ゲートからキャビティにコア材を導入してもよい。
また、ソケット13の表裏面を導通するための導通手段として、例えばターミナルピン17が設けられている例を説明したが、この他にもソケット13に貫通電極を設け、ソケット13と、前記プリント配線板及び前記インターポーザーとをはんだによって電気的に接続してもよい。
また、ソケット13は、図24に示すように、凸面16上に、前記インターポーザーの位置決め機構24(例えばはめあいボス等)を有していてもよく、その形状、大きさ等は特に限定されない。
さらに、ソケット凹部14に設けた突起部15の形状、大きさ等は特に限定されない。
なお、本発明は、レーザー光に信号を乗せた上述した光配線システムに好適であるが、これ以外にも、光源等の選択によりディスプレイ用などにも適用可能である。また、コア層4の光出射部6の形状は傾斜ミラー面でなくてもよく、また光出射部6において凸レンズ7の有無は問わない。
本発明は、光導波路で効率良く所定の光束に集光されて出射し、或いは光導波路に効率良く入射した後に出射した信号光を次段回路の受光素子(光配線やフォトディテクタ等)に入射させるように構成した光通信等の光情報処理に有効に用いることができる。
第1の実施の形態による、本発明に基づく光電複合装置の概略斜視図である。 同、ソケットの概略斜視図である。 同、本発明に基づく光導波路の概略断面図である。 同、前記ソケットに従来例による光導波路を組み込んだ場合の概略図である。 同、本発明に基づく光導波路の概略断面図である。 同、本発明に基づく光導波路の概略断面図である。 同、本発明に基づく光導波路の概略断面図である。 同、本発明に基づく光導波路の製造方法の一例を工程順に示す概略断面図である。 同、本発明に基づく光導波路の製造方法の一例を工程順に示す概略断面図である。 同、インターポーザーの概略斜視図である。 同、本発明に基づく光電複合装置の製造方法及び実装構造の一例を工程順に示す概略断面図である。 同、本発明に基づく光電複合装置の製造方法及び実装構造の一例を工程順に示す概略断面図である。 同、本発明に基づく光電複合装置の製造方法の一部工程を示す概略断面図である。 同、本発明に基づく光電複合装置の実装構造の一例を示す概略断面図である。 同、本発明に基づく光電複合装置の実装構造の一例を示す概略平面図である。 第2の実施の形態による、本発明に基づく光導波路の概略図である。 同、第2クラッド層の概略平面図である。 第3の実施の形態による、本発明に基づく光導波路の概略図である。 同、第2クラッド層の概略平面図である。 第4の実施の形態による、本発明に基づく光導波路の概略図である。 同、第2クラッド層の概略平面図である。 第5の実施の形態による、本発明に基づく光導波路の概略図である。 同、第2クラッド層の概略平面図である。 実施の形態によるソケットの他の例を示す概略斜視図である。 従来例による光導波路の実装構造を示す概略断面図である。 同、光導波路の概略断面図である。
符号の説明
1…光導波路、2…第1クラッド層、2a、2b…第1クラッド層の端部、
2c…第1クラッド層の中間部分、3…第2クラッド層、2’、3a…クラッド材、
4、4−1、4−2…コア層、4a…コア材、5…光入射部、6…光出射部、
7…凸レンズ、8、8−1、8−2…発光素子アレイ、
9、9−1、9−2…受光素子アレイ、10…金型、11…石英型、12…光学部品、
13…ソケット、14…凹部、15…突起部、16…凸面、17…ターミナルピン、
18…光電複合装置、19…プリント配線板、20…インターポーザー、
21、21a、21b…半導体集積回路チップ、22…再配線電極、
24…インターポーザーの位置決め機構、25…空間、30…信号光、31…上型、
32…下型、33…キャビティ、33a、33b…キャビティの端部、
33c…キャビティの中間部分、81…発光素子、82…貫通電極、91…受光素子

Claims (32)

  1. クラッド層とコア層との接合体からなり、前記コア層を通して入射光が導かれるように構成されている光導波路であって、前記コア層の光入射部及び光出射部の少なくとも一方を含む端部において、前記クラッド層の剛性が他の部分よりも大きくなっている、光導波路。
  2. 前記光入射部及び光出射部が存在する両端部における前記クラッド層の厚さが、前記両端部間の中間部分の厚さよりも大きい、請求項1に記載した光導波路。
  3. 前記端部以外又は前記両端部以外の前記クラッド層の中間部分が可撓性を有している、請求項1又は2に記載した光導波路。
  4. 前記コア層が、第1クラッド層としての前記クラッド層と、これとは別の第2のクラッド層とにより挟着されている、請求項1に記載した光導波路。
  5. 前記第2クラッド層を通して前記コア層へ光入射するように構成され、前記コア層の前記光入射部に相当する位置において、光集束手段が前記第2クラッド層と一体成形されている、請求項4に記載した光導波路。
  6. 前記コア層の前記光出射部に相当する位置において、前記コア層から前記第2クラッド層を通して出射される光のコリメーション又は集束手段が前記第2クラッド層と一体成形されている、請求項5に記載した光導波路。
  7. 前記光集束又はコリメーション手段が前記第2クラッド層と同一材質からなる、請求項5又は6に記載した光導波路。
  8. 前記光集束又はコリメーション手段が凸レンズである、請求項5又は6に記載した光導波路。
  9. 前記コア層の少なくとも前記光入射部が傾斜ミラー面に形成されている、請求項1に記載した光導波路。
  10. 光伝搬方向において前記第2クラッド層が前記第1クラッド層よりも長く形成されている、請求項4に記載した光導波路。
  11. ソケットに設置されると共に、発光素子と受光素子との少なくとも一方が対向して配置される光電複合装置として構成される、請求項1に記載した光導波路。
  12. ソケットと、このソケットに設置された光導波路とを有し、前記光導波路に光入射を行うための発光素子と、前記光導波路からの出射光を受けるための受光素子との少なくとも一方が、前記光導波路に対向して配置され、また前記光導波路が、クラッド層とコア層との接合体からなり、前記コア層を通して入射光が導かれるように構成され、前記コア層の光入射部及び光出射部の少なくとも一方を含む端部において、前記クラッド層の剛性が他の部分よりも大きくなっている、光電複合装置。
  13. 前記光入射部及び光出射部が存在する両端部における前記クラッド層の厚さが、前記両端部間の中間部分の厚さよりも大きい、請求項12に記載した光電複合装置。
  14. 前記端部以外又は前記両端部以外の前記クラッド層の中間部分が可撓性を有している、請求項12又は13に記載した光電複合装置。
  15. 前記コア層が、第1クラッド層としての前記クラッド層と、これとは別の第2のクラッド層とにより挟着されている、請求項12に記載した光電複合装置。
  16. 前記第2クラッド層を通して前記コア層へ光入射するように構成され、前記コア層の前記光入射部に相当する位置において、光集束手段が前記第2クラッド層と一体成形されている、請求項15に記載した光電複合装置。
  17. 前記コア層の前記光出射部に相当する位置において、前記コア層から前記第2クラッド層を通して出射される光のコリメーション又は集束手段が前記第2クラッド層と一体成形されている、請求項16に記載した光電複合装置。
  18. 前記光集束又はコリメーション手段が前記第2クラッド層と同一材質からなる、請求項16又は17に記載した光電複合装置。
  19. 前記光集束又はコリメーション手段が凸レンズである、請求項16又は17に記載した光電複合装置。
  20. 前記コア層の少なくとも前記光入射部が傾斜ミラー面に形成されている、請求項12に記載した光電複合装置。
  21. 光伝搬方向において前記第2クラッド層が前記第1クラッド層よりも長く形成されている、請求項15に記載した光電複合装置。
  22. 前記ソケットに前記光導波路を位置決めして固定するための位置決め手段が設けられている、請求項12に記載した光電複合装置。
  23. 前記位置決め手段が凹凸構造からなり、この凹凸構造の凸面上に、前記発光素子及び/又は前記受光素子を実装したインターポーザーが固定されている、請求項22に記載した光電複合装置。
  24. 前記インターポーザーに、前記発光素子及び/又は前記受光素子に接続された半導体集積回路チップが実装されている、請求項23に記載した光電複合装置。
  25. 前記凹凸構造が、前記光導波路を嵌め込んでその幅方向を位置決めするための凹部と、前記光導波路の長さ方向を位置決めするための突起部とを有している、請求項23に記載した光電複合装置。
  26. 前記凹凸構造の前記凹部の深さが、前記光導波路の厚さよりも大きい、請求項25に記載した光電複合装置。
  27. 前記凸面上に、前記インターポーザーの位置決め機構を有する、請求項23に記載した光電複合装置。
  28. 一対の前記ソケット間に前記光導波路が架け渡されている、請求項12に記載した光電複合装置。
  29. 前記光導波路が光配線として用いられる光配線システムを構成する、請求項12に記載した光電複合装置。
  30. 請求項12〜29のいずれか1項に記載した光電複合装置がプリント配線板に電気的に接続された状態で固定されている、光電複合装置の実装構造。
  31. 前記光導波路が前記プリント配線板とは非接触となっている、請求項30に記載した光電複合装置の実装構造。
  32. 前記光導波路の光伝搬方向において、前記ソケットに固定される前記クラッド層の長さが、前記プリント配線板に固定された前記一対のソケット間距離より大きい、請求項30に記載した光電複合装置の実装構造。
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