JP2005194476A - 感光性組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は，ディスプレイに用いられる反射防止フィルムの形成に好適に用いられる感光性組成物であって、高屈折率で透明性に優れ、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系基材に対する密着性に優れ、経時で黄変し難い硬化塗膜を形成し得る感光性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 ビフェニレン骨格を主鎖に含み、かつ重合性不飽和結合を有する感光性化合物（Ａ）、該感光性化合物（Ａ）以外の他の多官能感光性化合物（Ｂ）、及び酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子を含有する感光性組成物。
【選択図】 なし
【解決手段】 ビフェニレン骨格を主鎖に含み、かつ重合性不飽和結合を有する感光性化合物（Ａ）、該感光性化合物（Ａ）以外の他の多官能感光性化合物（Ｂ）、及び酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子を含有する感光性組成物。
【選択図】 なし
Description
本発明は、光硬化性を有する感光性組成物に関し、詳しくは高屈折率で透明性に優れ、黄変し難い硬化物を形成し得る感光性組成物に関する。さらに詳しくは、ポリエステルフィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフィルムに対する密着性に優れ、高硬度の硬化物を形成し得る感光性組成物に関する。
本発明の感光性組成物は、ディスプレイ、レンズ、導波路、光ファイバー、光学フィルター、ホログラムなどの各種光学部材に用いられる。特に本発明の感光性組成物は、ワードプロセッサ、コンピュータ、テレビジョン等のディスプレイ、例えばプラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の表面を保護する目的で使用される反射防止フィルムの形成に好適に用いられる。本発明の感光性組成物を用いて形成される反射防止フィルムはプラスチックフィルムの干渉縞を防止する効果を奏する。
本発明の感光性組成物は、ディスプレイ、レンズ、導波路、光ファイバー、光学フィルター、ホログラムなどの各種光学部材に用いられる。特に本発明の感光性組成物は、ワードプロセッサ、コンピュータ、テレビジョン等のディスプレイ、例えばプラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の表面を保護する目的で使用される反射防止フィルムの形成に好適に用いられる。本発明の感光性組成物を用いて形成される反射防止フィルムはプラスチックフィルムの干渉縞を防止する効果を奏する。
従来、ディスプレイ分野で用いられている反射防止フィルムは、光学特性などの点から三酢酸セルロースなどのセルロース系フィルムを基材に用い、その上にハードコート層、反射防止層を設けた構成が一般的であった。しかし、基材に用いるセルロース系フィルムは光学異方性がないなど、光学特性に優れるものの、耐衝撃性が十分ではなく、またコストが高いという問題があった。
そのため、基材として、耐衝撃性に優れ、安価であるポリエステル系フィルムを用いたハードコートフィルムや反射防止フィルム（特許文献１、２参照）が必要とされてきた。
そのため、基材として、耐衝撃性に優れ、安価であるポリエステル系フィルムを用いたハードコートフィルムや反射防止フィルム（特許文献１、２参照）が必要とされてきた。
しかし、基材にポリエステルフィルムを用いると、その上に設けるハードコート層との密着性を良好に保つことは困難である。そこで密着性を向上するために、ポリエステルフィルムにコロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を加えたり、あるいはアンカー層を設けたりする等の各種対策が提案されてきた。
しかし、コロナ処理やプラズマ処理だけではハードコート層の十分な密着性を確保することは難しい。また、アンカー層を設ける場合、密着性は向上するものの、光学設計が難しく、干渉縞の発生を抑えることが困難であった。尚、アンカー層を光硬化性の材料で形成すること自体も困難である。
しかし、コロナ処理やプラズマ処理だけではハードコート層の十分な密着性を確保することは難しい。また、アンカー層を設ける場合、密着性は向上するものの、光学設計が難しく、干渉縞の発生を抑えることが困難であった。尚、アンカー層を光硬化性の材料で形成すること自体も困難である。
また、従来の感光性組成物から形成される硬化塗膜は、多くの場合、経時で黄変する。
塗料、インキ、各種レジスト材料の場合も硬化塗膜の色は経時で変化しないことが一般に要求される。しかし、硬化塗膜が光学部材の一種である反射防止フィルムを構成する場合、耐黄変性に対する要求は極めて厳しい。このような要求に対し、各種添加剤を用いて黄変を防止してきたが、根本的な解決には至っていなかった。
特開平１１−９２７５０号公報
特開２０００−２３３４３６７号公報
塗料、インキ、各種レジスト材料の場合も硬化塗膜の色は経時で変化しないことが一般に要求される。しかし、硬化塗膜が光学部材の一種である反射防止フィルムを構成する場合、耐黄変性に対する要求は極めて厳しい。このような要求に対し、各種添加剤を用いて黄変を防止してきたが、根本的な解決には至っていなかった。
本発明は，ディスプレイに用いられる反射防止フィルムの形成に好適に用いられる感光性組成物であって、高屈折率で透明性に優れ、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系基材に対する密着性に優れ、経時で黄変し難い硬化塗膜を形成し得る感光性組成物を提供することを目的とする。
本発明は、ビフェニレン骨格を主鎖に含み、かつ重合性不飽和結合を有する化合物（Ａ）、該感光性化合物（Ａ）以外の他の多官能感光性化合物（Ｂ）、及び酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子を含有する感光性組成物に関し、
また本発明は、光重合開始剤（Ｃ）をさらに含有する上記発明に記載の感光性組成物に関し、
さらに本発明は、ビフェニレン骨格が、下記一般式（１）である上記発明に記載の感光性組成物に関する。
一般式（１）
−（Ｒ１−Ａｒ１−Ａｒ２−Ｒ２−Ａｒ３）−
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、
Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立に、アリーレン基を表す。）
また本発明は、光重合開始剤（Ｃ）をさらに含有する上記発明に記載の感光性組成物に関し、
さらに本発明は、ビフェニレン骨格が、下記一般式（１）である上記発明に記載の感光性組成物に関する。
一般式（１）
−（Ｒ１−Ａｒ１−Ａｒ２−Ｒ２−Ａｒ３）−
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、
Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立に、アリーレン基を表す。）
さらにまた本発明は、化合物（Ａ）が、下記一般式（２）で表される化合物（Ａ１）である上記発明に記載の感光性組成物に関する。
一般式（２）
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、
Ｒ４およびＲ４’は、それぞれ独立に、１価の有機残基を表し、少なくとも一つは不飽和二重結合を含む１価の有機残基である。
Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、
ｎは１〜２０を表す。）
一般式（２）
Ｒ４およびＲ４’は、それぞれ独立に、１価の有機残基を表し、少なくとも一つは不飽和二重結合を含む１価の有機残基である。
Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、
ｎは１〜２０を表す。）
また本発明は、一般式（２）で表される化合物（Ａ１）が、
下記一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）、およびグリシジル基と反応し得る官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）を反応させたものである上記発明に記載の感光性組成物に関する。
一般式（３）
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、
Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、
ｎは１〜２０を表す。）
下記一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）、およびグリシジル基と反応し得る官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）を反応させたものである上記発明に記載の感光性組成物に関する。
一般式（３）
Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、
ｎは１〜２０を表す。）
また本発明は、一般式（２）で表される化合物（Ａ１）が、
一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）、グリシジル基と反応し得る官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）及びグリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を有し不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）を反応させたものである上記発明に記載の感光性組成物に関する。
一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）、グリシジル基と反応し得る官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）及びグリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を有し不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）を反応させたものである上記発明に記載の感光性組成物に関する。
さらにまた本発明は、一般式（２）で表される化合物（Ａ１）が、
一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）のグリシジル基１倍当量に対して、化合物（Ｅ）中のグリシジル基と反応する官能基（ａ）及び化合物（Ｆ）中のグリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を、０．１〜０．７／０．９〜０．３の当量比で反応させたものである上記発明に記載の感光性組成物に関する。
一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）のグリシジル基１倍当量に対して、化合物（Ｅ）中のグリシジル基と反応する官能基（ａ）及び化合物（Ｆ）中のグリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を、０．１〜０．７／０．９〜０．３の当量比で反応させたものである上記発明に記載の感光性組成物に関する。
本発明により、高屈折率で透明性に優れ、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系基材に対する密着性に優れ、経時で黄変し難い硬化塗膜を形成し得る感光性組成物を提供することができるようになった。その結果、本発明の感光性組成物は、反射防止フィルムの形成に好適に用いられ、得られた反射防止フィルムはディスプレイ、特にプズマディスプレイの分野に好適に用いられる。
＜ビフェニレン骨格を主鎖に含み、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物（Ａ）＞
ビフェニレン骨格を主鎖に含み、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物（Ａ）は、例えば、一般式（１）のような骨格を含む。
一般式（１）
−（Ｒ１−Ａｒ１−Ａｒ２−Ｒ２−Ａｒ３）−
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、
Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立に、アリーレン基を表す。）
本発明で言う、アルキレン基とは、置換もしくは未置換の、直鎖または分岐の２価の脂肪族残基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などが挙げられる。また、アリーレン基は、置換もしくは未置換の２価の芳香族残基であり、フェニレン基、ナフタレン基などが挙げられる。
ビフェニレン骨格を主鎖に含み、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物（Ａ）は、例えば、一般式（１）のような骨格を含む。
一般式（１）
−（Ｒ１−Ａｒ１−Ａｒ２−Ｒ２−Ａｒ３）−
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、
Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立に、アリーレン基を表す。）
本発明で言う、アルキレン基とは、置換もしくは未置換の、直鎖または分岐の２価の脂肪族残基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などが挙げられる。また、アリーレン基は、置換もしくは未置換の２価の芳香族残基であり、フェニレン基、ナフタレン基などが挙げられる。
ビフェニレン骨格を主鎖に含み、かつ、重合性不飽和結合を有する化合物（Ａ）は、例えば、
下記一般式（２）で表される化合物（Ａ１）で表される。
下記一般式（２）で表される化合物（Ａ１）で表される。
一般式（２）
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、
Ｒ４およびＲ４’は、それぞれ独立に、１価の有機残基を表し、少なくとも一つは不飽和二重結合を含む１価の有機残基である。
Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、
ｎは１〜２０を表す。）
Ｒ４およびＲ４’は、それぞれ独立に、１価の有機残基を表し、少なくとも一つは不飽和二重結合を含む１価の有機残基である。
Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、
ｎは１〜２０を表す。）
ここで、１価の有機残基とは、脂肪族、芳香族、ヘテロ原子を含む原子団を単独もしくは組み合わせてなる原子団であり、具体的には、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルキレンオキシ基などの脂肪族、アリーレン基などの芳香族の有機残基が挙げられ、これらは、さらに、置換基を有していても良い。ここで表される１価の有機残基は、少なくともひとつは（メタ）アクリレート基、ビニル基、アリル基、マレイン酸残基などの不飽和二重結合を含む。
Ｒ５〜Ｒ１２は、フェニレン基の水素原子もしくは置換基である。
Ｒ５〜Ｒ１２は、フェニレン基の水素原子もしくは置換基である。
本発明で言う置換基とは、特に、断らない限り、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基、アミノ基、シアノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基などをいう。
一般式（２）で表される化合物（Ａ１）は、たとえば、下記一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）、および、グリシジル基と反応する官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）を反応させて得ることができる。
一般式（２）で表される化合物（Ａ１）は、たとえば、下記一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）、および、グリシジル基と反応する官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）を反応させて得ることができる。
一般式（３）
＜化合物（Ｄ１）＞
前記一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）は、エポキシ樹脂とも呼ばれ、例えば、下記一般式（４）で表されるフェノール系化合物とエピハロヒドリンとの反応をアルカリ金属水酸化物の存在下で行うことにより得ることができる。
前記一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）は、エポキシ樹脂とも呼ばれ、例えば、下記一般式（４）で表されるフェノール系化合物とエピハロヒドリンとの反応をアルカリ金属水酸化物の存在下で行うことにより得ることができる。
一般式（４）
（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ５〜Ｒ１２は一般式（１）におけるそれらと同じ意味を表す。）一般式（４）で表されるフェノール系化合物は、例えば、下記一般式（５）で表される化合物とフェノール類とを酸触媒の存在下で縮合反応させることにより得ることができる。
一般式（５）
（式中、Ｘはハロゲン原子、水酸基、低級アルコキシ基を表す。Ｒ１，Ｒ２，Ｒ５〜Ｒ１２は一般式（１）におけるそれらと同じ意味を表す。）
一般式（５）におけるＸのうち、ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子などが、低級アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基などが、低級アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基などがそれぞれ好ましい基として挙げられる。
一般式（４）で表されるフェノール系化合物を得る際に用いられるフェノール類としては、フェノール性水酸基を１分子中に１個有する芳香族化合物が該当し、用いうる具体例としては、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ｎ−プロピルフェノール、イソブチルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、キシレノール、メチルブチルフェノール、ジ−ｔ−ブチルフェノール等を代表例とするアルキルフェノールの各種ｏ−，ｍ−，ｐ−異性体、またはビニルフェノール、アリルフェノール、プロペニルフェノール、エチニルフェノールの各種ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、またはシクロペンチルフェノール、シクロヘキシルフェノール、シクロヘキシルクレゾール等を代表例とするシクロアルキルフェノール、またはフェニルフェノールなどの置換フェノール類が挙げられる。これらのフェノール類は１種類あるいは２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
一般式（４）で表されるフェノール系化合物を得る際に用いられるフェノール類としては、フェノール性水酸基を１分子中に１個有する芳香族化合物が該当し、用いうる具体例としては、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ｎ−プロピルフェノール、イソブチルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、キシレノール、メチルブチルフェノール、ジ−ｔ−ブチルフェノール等を代表例とするアルキルフェノールの各種ｏ−，ｍ−，ｐ−異性体、またはビニルフェノール、アリルフェノール、プロペニルフェノール、エチニルフェノールの各種ｏ−、ｍ−、ｐ−異性体、またはシクロペンチルフェノール、シクロヘキシルフェノール、シクロヘキシルクレゾール等を代表例とするシクロアルキルフェノール、またはフェニルフェノールなどの置換フェノール類が挙げられる。これらのフェノール類は１種類あるいは２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
これらフェノール類は、上記縮合反応を行う際に、一般式（５）で表される化合物１モルに対して０．５〜２０モル使用することが好ましく、２〜１５モル使用することがより好ましい。
上記縮合反応においては酸触媒を用いるのが好ましく、酸触媒としては種々のものが使用できるが塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、シュウ酸、三弗化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛などが好ましく、特にｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸が好ましい。これら酸触媒の使用量は特に限定されるものではないが、一般式（５）で表される化合物の０．１〜３０重量％用いるのが好ましい。
上記縮合反応は無溶剤下で、あるいは有機溶剤の存在下で行うことができる。有機溶剤を使用する場合の具体例としてはトルエン、キシレン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。有機溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に対して５０〜３００重量％が好ましく、特に１００〜２５０重量％が好ましい。反応温度は４０〜１８０℃の範囲が好ましく、反応時間は１〜８時間が好ましい。
反応終了後、中和処理或は水洗処理を行って生成物のｐＨ値を３〜７好ましくは５〜７に調節する。水洗処理を行う場合は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、アンモニア、リン酸二水素ナトリウムさらにはジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、アニリン、フェニレンジアミンなどの有機アミンなど様々な塩基性物質等を中和剤として用いて処理してもよい。また水洗処理の場合は常法にしたがって行えばよい。例えば反応混合物中に上記中和剤を溶解した水を加え分液抽出操作をくり返す。
中和処理を行った後、減圧加熱下で未反応のジヒドロキシベンゼン類及び溶剤を留去し生成物の濃縮を行い、一般式（４）で表されるフェノール系化合物を得ることが出来る。
一般式（４）で表されるフェノール系化合物から感光性化合物（Ａ１）の原料たるグリシジル化合物（Ｄ１）、つまりエポキシ樹脂を得る方法としては公知の方法が採用できる。
例えば前記で得られた一般式（４）で表される化合物と過剰のエピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン等のエピハロヒドリンの溶解混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物をあらかじめ添加し、または添加しながら２０〜１２０℃の温度で１〜１０時間反応させることにより一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）を得ることが出来る。
例えば前記で得られた一般式（４）で表される化合物と過剰のエピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン等のエピハロヒドリンの溶解混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物をあらかじめ添加し、または添加しながら２０〜１２０℃の温度で１〜１０時間反応させることにより一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）を得ることが出来る。
一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）を得る反応において、アルカリ金属水酸化物はその水溶液を使用してもよく、その場合に該アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加すると共に減圧下、または常圧下連続的に水及びエピハロヒドリンを留出させ、更に分液し水は除去しエピハロヒドリンは反応系内に連続的に戻す方法でもよい。
また、一般式（４）で表される化合物とエピハロヒドリンの溶解混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムプロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩を触媒として添加し５０〜１５０℃で１〜５時間反応させて得られる一般式（４）の化合物のハロヒドリンエーテル化物にアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を加え、再び２０〜１２０℃の温度で１〜１０時間反応させ脱ハロゲン化水素（閉環）させる方法でもよっても、一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）を得ることが出来る。
通常これらの反応において使用されるエピハロヒドリンの量は一般式（４）で表されるフェノール系化合物の水酸基１当量に対し通常１〜２０モル、好ましくは２〜１０モルである。アルカリ金属水酸化物の使用量は式（４）で表されるフェノール系化合物の水酸基１当量に対し０．８〜１５モル、好ましくは０．９〜１１モルである。
更に、反応を円滑に進行させるためにメタノール、エタノールなどのアルコール類の他、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行うことが好ましい。
更に、反応を円滑に進行させるためにメタノール、エタノールなどのアルコール類の他、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行うことが好ましい。
一般式（４）で表されるフェノール系化合物を得る際に、アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対し２〜２０重量％、好ましくは４〜１５重量％である。また非プロトン性極性溶媒を用いる場合はエピハロヒドリンの量に対し５〜１００重量％、好ましくは１０〜９０重量％である。
これらのエポキシ化反応の反応物を水洗後、または水洗無しに加熱減圧下、１１０〜２５０℃、圧力１０ｍｍＨｇ以下でエピハロヒドリンや他の添加溶媒などを除去する。また更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、得られたエポキシ樹脂を再びトルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて反応を行い、閉環を確実なものにすることができる。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量はエポキシ化に使用した式（４）で表されるフェノール系化合物の水酸基１当量に対して好ましくは０．０１〜０．３モル、特に好ましくは０．０５〜０．２モルである。反応温度は５０〜１２０℃、反応時間は通常０．５〜２時間である。
反応終了後、生成した塩をろ過、水洗などにより除去し、更に、加熱減圧下トルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤を留去することによりエポキシ樹脂が得られる。
一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）は市販品としても入手できる。例えば、ＮＣ―３０００シリーズ（日本化薬株式会社製）、エピコート、ビフェニルタイプ、（ジャパンエポキシレジン株式会社製）具体的にはエピコートＹＸ−４０００、エピコートＹＸ４０００Ｈ、エピコートＹＬ６１２１Ｈ、エピコートＹＬ６６４０，エピコートＹＬ６６７７が挙げられる。
＜グリシジル基と反応する官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）＞
グリシジル基と反応する官能基（ａ）としては水酸基、有機酸などが挙げられ、有機酸が好ましく、有機酸のうちカルボキシル基がより好ましい。
有機酸の１つであるカルボキシル基が、一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）中のグリシジル基と反応すると、グリシジル基が開裂し、水酸基とエステル結合とが生成する。そして、この反応よって感光性の官能基である不飽和二重結合を導入し、一般式（２）で示される感光性化合物（Ａ１）を得ることができる。
カルボキシル基と不飽和二重結合とを共に有する化合物としては、公知のものを使用することができる。例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、エチレングリコールアクリレートフタレート、プロピレングリコールアクリレートフタレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレートなどが挙げられ、アクリル酸、メタクリル酸、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。
グリシジル基と反応する官能基（ａ）としては水酸基、有機酸などが挙げられ、有機酸が好ましく、有機酸のうちカルボキシル基がより好ましい。
有機酸の１つであるカルボキシル基が、一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）中のグリシジル基と反応すると、グリシジル基が開裂し、水酸基とエステル結合とが生成する。そして、この反応よって感光性の官能基である不飽和二重結合を導入し、一般式（２）で示される感光性化合物（Ａ１）を得ることができる。
カルボキシル基と不飽和二重結合とを共に有する化合物としては、公知のものを使用することができる。例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、エチレングリコールアクリレートフタレート、プロピレングリコールアクリレートフタレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレートなどが挙げられ、アクリル酸、メタクリル酸、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。
水酸基と、一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）中のグリシジル基とが反応すると、グリシジル基が開裂し、水酸基とエーテル結合とが生成する。そして、この反応よって感光性の官能基である不飽和二重結合を導入し、一般式（２）で示される化合物（Ａ１）を得ることができる。
水酸基と不飽和二重結合とを共に有する化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどが挙げられる。
水酸基と不飽和二重結合とを共に有する化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどが挙げられる。
ポリエチレンテレフタレートフィルムに代表されるポリエステル系基材フィルムに対する硬化塗膜の密着性の観点から、一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）中のグリシジル基の全てを上記化合物（Ｅ）と反応させるのではなく、一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）中のグリシジル基の１当量に対して、上記化合物（Ｅ）中のグリシジル基と反応し得る官能基（ａ）を０．１〜０．７当量の範囲で反応させることが好ましく、０．１５〜０．６当量の範囲で反応させることがより好ましく、０．２〜０．５当量の範囲で反応させることがさらに好ましい。
このような場合、上記化合物（Ｅ）中のグリシジル基と反応し得る官能基（ａ）に比して過量のグリシジル基はそのまま残しておくこともできる。しかし、硬化前の感光性組成物の経時安定性を考慮すると、後述するグリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を有し、不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）と過量のグリシジル基とを反応させておくことが好ましい。
このような場合、上記化合物（Ｅ）中のグリシジル基と反応し得る官能基（ａ）に比して過量のグリシジル基はそのまま残しておくこともできる。しかし、硬化前の感光性組成物の経時安定性を考慮すると、後述するグリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を有し、不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）と過量のグリシジル基とを反応させておくことが好ましい。
＜グリシジル基と反応する官能基（ｂ）を有し、不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）＞
上記したようにグリシジル基と反応する官能基（ｂ）を有し、不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）は、一般式（３）で表されるグリシジル化合物（Ｄ１）中の過量のグリシジル基を消費するために用いるものである。
化合物（Ｆ）中のグリシジル基と反応する官能基（ｂ）としては、化合物（Ｅ）中の官能基（ａ）として挙げた水酸基、カルボキシル基のような有機酸の他、アミノ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。
上記したようにグリシジル基と反応する官能基（ｂ）を有し、不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）は、一般式（３）で表されるグリシジル化合物（Ｄ１）中の過量のグリシジル基を消費するために用いるものである。
化合物（Ｆ）中のグリシジル基と反応する官能基（ｂ）としては、化合物（Ｅ）中の官能基（ａ）として挙げた水酸基、カルボキシル基のような有機酸の他、アミノ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。
カルボキシル基を有し、不飽和二重結合を有しない化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば、トリクロロ酢酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、サリチル酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸などが挙げられる。
尚、サリチル酸のようにカルボキシル基と水酸基とを有する化合物の場合、グリシジル化合物（Ｄ１）中の過量のグリシジル基との反応は、カルボキシル基の方が優先して生じる。そこで、本発明においては、このような化合物を使用する場合、カルボキシル基の量をグリシジル基に対する官能基（ｂ）の当量とする。
尚、サリチル酸のようにカルボキシル基と水酸基とを有する化合物の場合、グリシジル化合物（Ｄ１）中の過量のグリシジル基との反応は、カルボキシル基の方が優先して生じる。そこで、本発明においては、このような化合物を使用する場合、カルボキシル基の量をグリシジル基に対する官能基（ｂ）の当量とする。
水酸基を有し、不飽和二重結合を有しない化合物としては、公知のものを使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。
アミノ基を有し、不飽和二重結合を有しない化合物としては、公知のものを使用することができる。反応制御の点から２級アミンが好ましい。例えば、ジイソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソブチルアミン、ジブチルアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン、３−（ジブチルアミノ）プロピルアミンなどが挙げられる。
このような化合物（Ｆ）は、一般式（３）で示される化合物（Ｄ１）中のグリシジル基１当量に対して、グリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を０．３〜０．９当量反応させることが好ましく、０．４〜０．８５当量反応させることがより好ましく、０．５〜０．８当量反応させることがさらに好ましい。
グリシジル化合物（Ｄ１）に対して、感光性の不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）の反応量を感光性の不飽和二重結合を有する化合物（Ｅ）よりも少なくすると、生成する感光性化合物（Ａ１）を含有する感光性組成物の硬化塗膜は、ポリエステルに対する密着性が低下する。他方、感光性の不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）を多く反応させると、相対的に感光性の不飽和二重結合を有する化合物（Ｅ）由来の感光性不飽和二重結合が少なくなるので、硬化塗膜の硬度が低下する傾向にある。硬化塗膜に高硬度が要求される場合には、後述するその他の多官能感光性化合物（Ｂ）として、より多官能のものを用いたり、その他の多官能感光性化合物（Ｂ）を多めに使用したりすればよい。
グリシジル化合物（Ｄ１）に対して、感光性の不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）の反応量を感光性の不飽和二重結合を有する化合物（Ｅ）よりも少なくすると、生成する感光性化合物（Ａ１）を含有する感光性組成物の硬化塗膜は、ポリエステルに対する密着性が低下する。他方、感光性の不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）を多く反応させると、相対的に感光性の不飽和二重結合を有する化合物（Ｅ）由来の感光性不飽和二重結合が少なくなるので、硬化塗膜の硬度が低下する傾向にある。硬化塗膜に高硬度が要求される場合には、後述するその他の多官能感光性化合物（Ｂ）として、より多官能のものを用いたり、その他の多官能感光性化合物（Ｂ）を多めに使用したりすればよい。
＜触媒＞
一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）と、化合物（Ｅ）及び必要に応じて用いられる化合物（Ｆ）とを反応させるときには、必要に応じて、アミン類等の触媒を添加して行っても良い。使用される触媒としたは公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。
一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）と、化合物（Ｅ）及び必要に応じて用いられる化合物（Ｆ）とを反応させるときには、必要に応じて、アミン類等の触媒を添加して行っても良い。使用される触媒としたは公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。
（１）３級アミン類及び／又はその塩類
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ−メチルピペラジン等
（２）イミダゾール類及び／又はその塩類
２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−６−[２−メチルイミダゾリル−（１）]−エチル−Ｓ−トリアジン等
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ−メチルピペラジン等
（２）イミダゾール類及び／又はその塩類
２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−６−[２−メチルイミダゾリル−（１）]−エチル−Ｓ−トリアジン等
（３）ジアザビシクロ化合物類
1,5−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン、1,4−ジアビシクロ［2.2.2］オクタン等
（４）ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等
（５）ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等
1,5−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン、1,4−ジアビシクロ［2.2.2］オクタン等
（４）ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等
（５）ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等
一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）１００重量部に対し、上記触媒は０.０１〜１０重量部であることが好ましい。触媒が０.０１重量部未満であると反応が遅くなり、１０重量部を越えると硬化物の耐水性が低下するため好ましくない。
一般式（３）で示されるグリシジル化合物（Ｄ１）と、化合物（Ｅ）及び必要に応じて用いられる化合物（Ｆ）とを反応させる場合、用いるグリシジル化合物（Ｄ１）の軟化温度が反応温度範囲よりも低い場合には無溶剤にて行うことができる。また、用いるグリシジル化合物（Ｄ１）の軟化温度に関わらず適当な溶剤を用いて行うこともできる。この時用いる溶剤としては、グリシジル基、水酸基、有機酸と反応しないものであれば特に制限なく、用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、アセトン、ベンゼン等の公知の溶剤を使用できる。
［感光性組成物］
本発明の感光性組成物は、上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）、該感光性化合物（Ａ）以外のその他の多官能感光性化合物（Ｂ）、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子を含有するものであり、さらに光重合開始剤（Ｃ）、その他の単官能感光性成分、有機溶剤、光硬化性を有しない樹脂等を含有することができる。
本発明の感光性組成物は、上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）、該感光性化合物（Ａ）以外のその他の多官能感光性化合物（Ｂ）、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子を含有するものであり、さらに光重合開始剤（Ｃ）、その他の単官能感光性成分、有機溶剤、光硬化性を有しない樹脂等を含有することができる。
＜その他の多官能感光性化合物（Ｂ）＞
ところで、ポリエステル系基材／上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）を含有する感光性組成物から形成される硬化塗膜／低屈折率の反射防止層を順次積層し、良好な反射防止フィルムを形成するためには、ポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜の屈折率がポリエステル系基材の屈折率（約１．６０〜１．７２）に近いことが要求される。上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）の硬化物の屈折率は約１．６２〜１．６６であり、屈折率自体はほぼ上記範囲に入る。
しかし、上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）の硬化物は、鉛筆硬度でいうと２Ｂ〜Ｂ程度と低硬度である。ポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜にはもっと高硬度であること要求される。従って、感光性化合物（Ａ）だけではポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜を形成することはできない。
そこで、該感光性化合物（Ａ）以外のその他の多官能感光性化合物（Ｂ）を用いる必要がある。
その他の多官能感光性化合物（Ｂ）としては、（メタ）アクリレート系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物などが挙げられ、３官能以上であることが好ましい。また、その他の多官能感光性化合物（Ｂ）は、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基などの官能基を有してもいてもよい。
ところで、ポリエステル系基材／上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）を含有する感光性組成物から形成される硬化塗膜／低屈折率の反射防止層を順次積層し、良好な反射防止フィルムを形成するためには、ポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜の屈折率がポリエステル系基材の屈折率（約１．６０〜１．７２）に近いことが要求される。上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）の硬化物の屈折率は約１．６２〜１．６６であり、屈折率自体はほぼ上記範囲に入る。
しかし、上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）の硬化物は、鉛筆硬度でいうと２Ｂ〜Ｂ程度と低硬度である。ポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜にはもっと高硬度であること要求される。従って、感光性化合物（Ａ）だけではポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜を形成することはできない。
そこで、該感光性化合物（Ａ）以外のその他の多官能感光性化合物（Ｂ）を用いる必要がある。
その他の多官能感光性化合物（Ｂ）としては、（メタ）アクリレート系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物などが挙げられ、３官能以上であることが好ましい。また、その他の多官能感光性化合物（Ｂ）は、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基などの官能基を有してもいてもよい。
先ず、重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の内、非ハロゲン系脂肪族系化合物を例示する。具体的には、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（アクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、ビス（メタクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＲ−１６７、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＨＸシリーズなどのアルキル型（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−８１１、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−８５１、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性プロレングリコールジ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−９１１などのアルキレングリコール型（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート：日本化薬製カヤラッドＲ−６０４、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：サートマーＳＲ−４５４、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：日本化薬製ＴＰＡ−３１０、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート：長瀬産業ＤＡ（Ｍ）−３２１などのトリメチロールプロパン型（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート：東亜合成アロニックスＭ−２３３、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート類：日本化薬製カヤラッドＤ−３１０，３２０，３３０など、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート類：日本化薬製カヤラッドＤＰＣＡ−２０，３０，６０，１２０などのペンタエリスリトール型（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート：長瀬産業デナコールＤＡ（Ｍ）−３１４、トリグリセロールジ（メタ）アクリレートなどのグリセロール型（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、トリシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート：山陽国策パルプＣＡＭ−２００などの脂環式（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート：東亜合成アロニックスＭ−３１５、トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのイソシアヌレート型（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
また、脂肪族基からのみ構成される重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物の内、硫黄原子をさらに分子内に含有する化合物を例示する。１，３−プロパンジオールジチオ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジチオ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジチオ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレート、ビス（チオアクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、ビス（チオメタクリロキシネオペンチルグリコール）アジペート、エピクロルヒドリン変性１，６−ヘキサンジオールジチオ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジチオ（メタ）アクリレートなどのアルキル型チオ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性ジエチレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性プロレングリコールジチオ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコール型チオ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジチオ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリチオ（メタ）アクリレートなどのトリメチロールプロパン型チオ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリチオ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラチオ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジチオ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサチオ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタチオ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールポリチオ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールポリチオ（メタ）アクリレート類などペンタエリスリトール型チオ（メタ）アクリレート、グリセロールジチオ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリチオ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジチオ（メタ）アクリレートなどのグリセロール型チオ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジチオ（メタ）アクリレート、トリシクロペンタニルジチオ（メタ）アクリレート、シクロヘキシルジチオ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジチオ（メタ）アクリレートなどの脂環式チオ（メタ）アクリレート、トリス（チオアクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（チオメタクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（チオアクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（チオメタクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのイソシアヌレート型チオ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは単独あるいは複数混合して用いても良い。
芳香族ポリヒドロキシ化合物、例えば、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ピロガロール等のジあるいはポリ（メタ）アクリレート化合物、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エチ（プロピ）レンオキサイド変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性フタル酸ジ（メタ）アクリレートなどの芳香族基を有する（メタ）アクリレート化合物、テトラクロロビスフェノールＳエチ（プロピ）レンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＳエチ（プロピ）レンオキシド変性ジ（メタ）アクリレートなどの塩素以上の原子量を持つハロゲン原子で置換された芳香族基を有するスチレン類および（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。
ウレタンアクリレート、例えば、フェニルグリシジルエーテルアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＨ−６００、フェニルグリシジルエーテルアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＴ−６００、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｈ、フェニルグリシジルエーテルアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＡＩ−６００、グリセリンジメタクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ−１０１Ｔ、グリセリンジメタクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ−１０１Ｉ、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｔ、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー：共栄社化学ＵＡ―３０６Ｉ、その他ダイセルＵＣＢ社製のエベクリルシリーズなどが挙げられる。
＜導電性粒子＞
一般に感光性組成物には種々の無機粒子を充填剤として含有することができる。
ところで、防塵の観点から各種ディスプレイに用いられる反射防止フィルムには帯電防止性を具備することが要求される。反射防止フィルムは、ポリエステル系基材／上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）を含有する感光性組成物から形成される硬化塗膜／低屈折率の反射防止層が順次積層された構成を基本とする。そこで、ポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜に帯電防止性が要求される。そのため、本発明の感光性組成物は導電性粒子を含有する必要がある。
一般に感光性組成物には種々の無機粒子を充填剤として含有することができる。
ところで、防塵の観点から各種ディスプレイに用いられる反射防止フィルムには帯電防止性を具備することが要求される。反射防止フィルムは、ポリエステル系基材／上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）に代表される感光性化合物（Ａ）を含有する感光性組成物から形成される硬化塗膜／低屈折率の反射防止層が順次積層された構成を基本とする。そこで、ポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜に帯電防止性が要求される。そのため、本発明の感光性組成物は導電性粒子を含有する必要がある。
導電性粒子としては、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物、亜鉛アルミニウム酸化物、チタン酸亜鉛、錫酸化物，インジウム錫酸化物、水酸化アルミニウム、チタン酸カリウムアンチモン酸亜鉛、カーボンブラック等種々のものが挙げられる。
各種ディスプレイに用いられる反射防止フィルムには、当然のことながら着色がなく透明であることも要求され、上記導電性粒子にも着色がなく透明であることが要求される。
そこで、導電性、無着色、透明性の観点から各種無機粒子を検討すると、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物、亜鉛アルミニウム酸化物が反射防止フィルム向けには好ましいことが分かった。以下、本発明においてはこれら６種の導電性粒子を酸化アンチモン等の導電性粒子という。
そこで、導電性、無着色、透明性の観点から各種無機粒子を検討すると、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物、亜鉛アルミニウム酸化物が反射防止フィルム向けには好ましいことが分かった。以下、本発明においてはこれら６種の導電性粒子を酸化アンチモン等の導電性粒子という。
また、ポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜の屈折率はポリエステル系基材の屈折率に近いことが要求されることは先に述べた。そして、上記一般式（２）で示される感光性の化合物（Ａ１）で代表される感光性化合物（Ａ）の硬化物の屈折率は１．６２〜１．６６程度ではあるが、低硬度のため、他の多官能感光性化合物（Ｂ）を併用する必要があることも先に述べた。
他の多官能感光性化合物（Ｂ）を併用すると、その結果硬化物の屈折率に対する感光性化合物（Ａ）の寄与が小さくなり、硬化物の屈折率が低下する。そこで、感光性組成物中に配合する導電性粒子としては高屈折率のものが好ましい。上記６種の導電性粒子はこの高屈折率という点からも望ましいものである。
他の多官能感光性化合物（Ｂ）を併用すると、その結果硬化物の屈折率に対する感光性化合物（Ａ）の寄与が小さくなり、硬化物の屈折率が低下する。そこで、感光性組成物中に配合する導電性粒子としては高屈折率のものが好ましい。上記６種の導電性粒子はこの高屈折率という点からも望ましいものである。
これら導電性粒子の粒子径は１〜１００ｎｍであることが好ましく、３〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。１ｎｍ未満では帯電防止性能が低下し、１００ｎｍを超えると透過光、反射光の散乱が起こり、濁度（ヘイズ）が上昇するため好ましくない。また、
導電性粒子を粉体のまま他の成分と混合し、本発明の感光性組成物を得ることもできるし、分散性を考慮して、予め分散体としておいて、他の成分と混合し、本発明の感光性組成物を得ることもできる。
導電性粒子を粉体のまま他の成分と混合し、本発明の感光性組成物を得ることもできるし、分散性を考慮して、予め分散体としておいて、他の成分と混合し、本発明の感光性組成物を得ることもできる。
酸化アンチモン等の導電性粒子は、加えることで帯電防止効果を出すとと共に、屈折率の調整を兼ねることもできる。これらの配合量は、基材と硬化塗膜との屈折率の関係や帯電防止性能を考慮して決定される。
本発明の感光性組成物は、感光性化合物（Ａ）／他の多官能感光性化合物（Ｂ）／導電性粒子＝１〜５０／２〜６０／３０〜９０（重量比）であることが好ましく、５〜３０／５〜４０／５０〜８０（重量比）でることがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、感光性化合物（Ａ）／他の多官能感光性化合物（Ｂ）／導電性粒子＝１〜５０／２〜６０／３０〜９０（重量比）であることが好ましく、５〜３０／５〜４０／５０〜８０（重量比）でることがより好ましい。
＜光重合開始剤（Ｃ）＞
光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線により感光性組成物を硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤（Ｃ）としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線により感光性組成物を硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤（Ｃ）としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4-メチル-ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、4-(4-メチルフェニルチオ)フェニル-エネタノン、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-(1,3-アクリロイル-1,4,7,10,13-ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3'4,4'-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-N,N,N-トリメチルベンゼンメタアンモニウムクロリド、2-ヒドロキシ-3-(4-ベンゾイル-フェノキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、4-ベンゾイル-N,N-ジメチル-N-[2-(1-オキソ-2-プロペニルオキシエチル)メタアンモニウム臭酸塩、2-/4-iso-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメチル-9-オキソ-9Hチオキサントン-2-イロキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン-3-メチルナフト(1,2-d)チアゾリン等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。
アセトフェノン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-ジ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-スチリルプロパン-1-オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノ-フェニル)ブタン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム、3,6-ビス(2-メチル-2-モルホリノ-プロパノニル)-9-ブチルカルバゾール等が挙げられる。
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
アミノカルボニル化合物としては、メチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-nブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4'-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5'-ビス-(4-ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。
これらは上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、被硬化物の乾燥重量の合計１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲で添加されるのが好ましい。また、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。
＜その他の単官能感光性成分＞
本発明の感光性組成物には、上記感光性化合物（Ａ）、該化合物（Ａ）以外の多官能感光性化合物以外に、硬化物の硬度、屈折率を低下させない範囲で種々の単官能の感光性成分も使用することができる。
例えば、（メタ）アクリレート系化合物としては、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート等が例示できる。
組成物の液粘度を下げるために、屈折率を低下させないベンジルアクリレート等を使用することも出来る。例えば、感光性化合物（Ａ）／多官能感光性化合物（Ｂ）／ベンジルアクリレート／導電性粒子＝５／１０／３５／５０（重量比）程度の組成物も好ましい。
本発明の感光性組成物には、上記感光性化合物（Ａ）、該化合物（Ａ）以外の多官能感光性化合物以外に、硬化物の硬度、屈折率を低下させない範囲で種々の単官能の感光性成分も使用することができる。
例えば、（メタ）アクリレート系化合物としては、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート等が例示できる。
組成物の液粘度を下げるために、屈折率を低下させないベンジルアクリレート等を使用することも出来る。例えば、感光性化合物（Ａ）／多官能感光性化合物（Ｂ）／ベンジルアクリレート／導電性粒子＝５／１０／３５／５０（重量比）程度の組成物も好ましい。
更に具体的に例示すると、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数1〜２
２のアルキル（メタ）アクリレートがあり、極性の調節を目的とする場合には好ましくは炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。レベリング性の調節等を目的とする場合には炭素数６以上が好ましい。
２のアルキル（メタ）アクリレートがあり、極性の調節を目的とする場合には好ましくは炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。レベリング性の調節等を目的とする場合には炭素数６以上が好ましい。
また、アルキレングリコール系(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）等、末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、
メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレートなど末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートがある。
カルボキシル基含有不飽和化合物としてはマレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、テレフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等を例示することが出来る。
上記以外の水酸基含有不飽和化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４-ヒドロキシビニルベンゼンなどが挙がられる。
窒素含有不飽和化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミドなどのモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミドなどのジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートメチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてＣｌ-，Ｂｒ-，Ｉ-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ3 -（Ｑ：炭素数1〜12アルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の4級アンモニウム塩を例示できる。
更にその他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類；パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-（メタ）ア
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３、４-エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。
クリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３、４-エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。
脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、クロロスチレン、などが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。これらは単独もしくは２種類以上を併用して使用することもできる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、クロロスチレン、などが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。これらは単独もしくは２種類以上を併用して使用することもできる。
＜有機溶剤＞
本発明の感光性組成物は、有機溶剤を含まない感光性組成物としても、有機溶剤を含む感光性組成物としても用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。
本発明の感光性組成物は、有機溶剤を含まない感光性組成物としても、有機溶剤を含む感光性組成物としても用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。
＜光硬化性を有しない樹脂＞
本発明の感光性組成物には、さらに必要に応じて光硬化性を有しない樹脂も含有することができる。
光硬化性を有しない樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂などが挙げられ、これは単独で添加しても良いし、複数の樹脂を加しても良い。
本発明の感光性組成物には、さらに必要に応じて光硬化性を有しない樹脂も含有することができる。
光硬化性を有しない樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂などが挙げられ、これは単独で添加しても良いし、複数の樹脂を加しても良い。
＜その他＞
この他、本発明の感光性組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、さらに溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、球状フィラー等を添加することができる。
この他、本発明の感光性組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、さらに溶剤、染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、球状フィラー等を添加することができる。
本発明の感光性組成物は、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、４００〜５００ｎｍの可視光を使用することができる。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜１０００ｍＪの範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜１０００ｍＪの範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
本発明の感光性樹脂組成物は、基材に塗工後、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行っても良いし、塗工に続いてラジエーション硬化させた後に自然または強制乾燥しても構わないが、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化した方が好ましい。電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害又は有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行うのが好ましい。ラジエーション硬化のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。
本発明の感光性樹脂組成物は、ポリエステル系以外の各種基材に適用することも可能ではあるが、ポリエステル系基材に塗布することが好適である。ポリエステル系基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：屈折率１．６０〜１．６７）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：屈折率１．６８〜１．７２）等が挙げられる。
また、これらはコロナ処理、プラズマ処理などの前処理を施しても良い。前処理をすると本発明の感光性樹脂組成物から形成される硬化塗膜の密着性がさらに向上する。
本発明の感光性樹脂組成物は、ポリエステル系以外の各種基材に適用することも可能ではあるが、ポリエステル系基材に塗布することが好適である。ポリエステル系基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：屈折率１．６０〜１．６７）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：屈折率１．６８〜１．７２）等が挙げられる。
また、これらはコロナ処理、プラズマ処理などの前処理を施しても良い。前処理をすると本発明の感光性樹脂組成物から形成される硬化塗膜の密着性がさらに向上する。
次に本発明の感光性樹脂組成物の利用の一態様として、反射防止フィルムについて簡単に説明する。
反射防止フィルムは、ポリエステル系基材／本発明の感光性樹脂組成物から形成される硬化塗膜／反射防止層とを順次積層してなる構成を基本とする。
反射防止層は、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を交互に積層したものや、前記低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有する中屈折率材料と低屈折率材料からなる層を順次積層したもの、低屈折率材料からなる層単層を用いることができる。
具体的な例としては、例えば低屈折率層単層、高屈折率層／低屈折率層、高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層などがあり、光学設計により、平均反射率が低く、反射防止性能、視認性の優れたものであればよい。
反射防止フィルムは、ポリエステル系基材／本発明の感光性樹脂組成物から形成される硬化塗膜／反射防止層とを順次積層してなる構成を基本とする。
反射防止層は、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を交互に積層したものや、前記低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有する中屈折率材料と低屈折率材料からなる層を順次積層したもの、低屈折率材料からなる層単層を用いることができる。
具体的な例としては、例えば低屈折率層単層、高屈折率層／低屈折率層、高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層などがあり、光学設計により、平均反射率が低く、反射防止性能、視認性の優れたものであればよい。
低屈折率層には、屈折率の低いＭｇＦ（屈折率：約１．４）、ＳｉＯ2（屈折率：約１．２〜１．５）等を含有することができる。
これらを各種マトリックス材料に分散させた後、塗工し、乾燥や硬化を経て低屈折率層を形成することができる。
あるいは、真空蒸着やスパッタリング法等を利用して、ＭｇＦやＳｉＯ2からなる低屈折率層を形成することもできる。
これらを各種マトリックス材料に分散させた後、塗工し、乾燥や硬化を経て低屈折率層を形成することができる。
あるいは、真空蒸着やスパッタリング法等を利用して、ＭｇＦやＳｉＯ2からなる低屈折率層を形成することもできる。
高屈折率層には、屈折率の高いＴｉＯ2（屈折率：２．３〜２．７）、Ｙ2Ｏ3（屈折率：１．９）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率：２．０）等を用いることができる。これらを用い上記低屈折率層の場合と同様に種々の方法で高屈折率層を形成することができる。
中屈折率層の場合は、上記した低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有するものを使用し、同様に種々の方法で得ることができる。
以下に製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、重量平均分子量はＧＰＣにより測定された標準ポリスチレン換算分子量を示す。
また、特に断らない限り、数字は重量基準で記載した。
また、特に断らない限り、数字は重量基準で記載した。
合成例１
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにＮＣ−３０００（日本化薬株式会社製）８０．０ｇ、上記「ＮＣ−３０００」中のグリシジル基１００モル％に対してカルボキシル基として３０モル％に当たるアクリル酸（株式会社日本触媒製）６．３ｇ、ヒドロキノン０．０４ｇ（和光純薬工業株式会社製）、上記「ＮＣ−３０００」中のグリシジル基１００モル％に対して７０モル％に当たる酢酸（和光純薬工業株式会社製）１２．２ｇ、メチルエチルケトン２０ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製）０．６４ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却したのちメチルエチルケトン６６．９ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量ＭＮ７６０、重量平均分子量ＭＷ１，１４０であった。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにＮＣ−３０００（日本化薬株式会社製）８０．０ｇ、上記「ＮＣ−３０００」中のグリシジル基１００モル％に対してカルボキシル基として３０モル％に当たるアクリル酸（株式会社日本触媒製）６．３ｇ、ヒドロキノン０．０４ｇ（和光純薬工業株式会社製）、上記「ＮＣ−３０００」中のグリシジル基１００モル％に対して７０モル％に当たる酢酸（和光純薬工業株式会社製）１２．２ｇ、メチルエチルケトン２０ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製）０．６４ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却したのちメチルエチルケトン６６．９ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量ＭＮ７６０、重量平均分子量ＭＷ１，１４０であった。
合成例２
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにＮＣ−３０００（日本化薬株式会社製）８０．０ｇ、上記「ＮＣ−３０００」中のグリシジル基１００モル％に対してカルボキシル基として３０モル％に当たるフタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート（商品名 Ｍ−５４００、東亞合成株式会社製）２２．９ｇ、ヒドロキノン０．０４ｇ（和光純薬工業株式会社製）、上記「ＮＣ−３０００」中のグリシジル基１００モル％に対してカルボキシル基として７０モル％に当たるサリチル酸（和光純薬工業株式会社製）２７．９ｇ、メチルエチルケトン２０ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製）０．６４ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却したのちメチルエチルケトン１１１．５ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量ＭＮ１，１３０、重量平均分子量ＭＷ２，０３０であった。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにＮＣ−３０００（日本化薬株式会社製）８０．０ｇ、上記「ＮＣ−３０００」中のグリシジル基１００モル％に対してカルボキシル基として３０モル％に当たるフタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート（商品名 Ｍ−５４００、東亞合成株式会社製）２２．９ｇ、ヒドロキノン０．０４ｇ（和光純薬工業株式会社製）、上記「ＮＣ−３０００」中のグリシジル基１００モル％に対してカルボキシル基として７０モル％に当たるサリチル酸（和光純薬工業株式会社製）２７．９ｇ、メチルエチルケトン２０ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製）０．６４ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却したのちメチルエチルケトン１１１．５ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量ＭＮ１，１３０、重量平均分子量ＭＷ２，０３０であった。
比較合成例１
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにエピコート１００１（ジャパンエポキシレジン株式会社製）８６．２ｇ、上記「エピコート１００１」中のグリシジル基１００モル％に対してカルボキシル基として１００モル％に当たるアクリル酸（株式会社日本触媒製）１３．８ｇ、ヒドロキノン０．０４ｇ（和光純薬工業株式会社製）、メチルエチルケトン２５．０ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製）０．８０ｇを加え、８５℃で７時間撹拌し、室温まで冷却したのちメチルエチルケトン７４．２ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量ＭＮ９８０、重量平均分子量ＭＷ１，７００であった。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにエピコート１００１（ジャパンエポキシレジン株式会社製）８６．２ｇ、上記「エピコート１００１」中のグリシジル基１００モル％に対してカルボキシル基として１００モル％に当たるアクリル酸（株式会社日本触媒製）１３．８ｇ、ヒドロキノン０．０４ｇ（和光純薬工業株式会社製）、メチルエチルケトン２５．０ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製）０．８０ｇを加え、８５℃で７時間撹拌し、室温まで冷却したのちメチルエチルケトン７４．２ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量ＭＮ９８０、重量平均分子量ＭＷ１，７００であった。
比較合成例２
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにペンタエリスリトールトリアクリレートトレレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（商品名 ＵＡ−３０６Ｔ、共栄社化学株式会社製）７０ｇとＮＫオリゴＥＡ７４２０（固形分７０％、新中村化学株式会社製）２１ｇとビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物（商品名 エポキシエステル３０００Ａ、共栄社化学株式会社製）１５ｇを加え混合した。
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにペンタエリスリトールトリアクリレートトレレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（商品名 ＵＡ−３０６Ｔ、共栄社化学株式会社製）７０ｇとＮＫオリゴＥＡ７４２０（固形分７０％、新中村化学株式会社製）２１ｇとビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物（商品名 エポキシエステル３０００Ａ、共栄社化学株式会社製）１５ｇを加え混合した。
比較合成例３
撹拌機、冷却器及び温度計を備えた３リットルのガラスフラスコ内に水９６０ｇ及び９８％硫酸１００ｇ（１．０００ｍｏｌ）を仕込み、室温にて攪拌しながらチオ尿素１６１．４ｇ（２．１２０ｍｏｌ）を溶解させた。
溶解後、攪拌しながらビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のエピコート８２８ＥＬ（商品名：ジャパンエポキシレジン社）を分子蒸留により精製したエポキシ樹脂（GPC分析より求めたジグリシジルエーテルの含有量９８．２重量％、全塩素含有量０．０９５ 重量％、エポキシ当量；１７２g／eq．）２９０ｇ（１．６８６当量）を約１時間かけて滴下させた後、温度４０℃で５時間反応を行った。
反応終了後、水を９６０ｇ加えた後、常温にて攪拌しながら炭酸ナトリウム２１６．５ｇ（２．０４３ｍｏｌ）を溶解させた。溶解後、更に、温度６０℃で６時間反応を行った後、水層を廃棄し、トルエン８５０ｇを添加し、純水７００ｇで５回水洗した。水洗後、トルエンをロータリーエバポレーターにて減圧下、温度１００℃で留去させエピサルファイド樹脂を得た。得られたエピサルファイド樹脂は室温に冷却後直ぐに固形化し、白色の固体となった。このエピサルファイド樹脂の融点は、８７〜９０℃であった。
次いで、撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに上記のエピサルファイド樹脂７３．６ｇ、該樹脂中のエピサルファイド基１００モル％に対してカルボキシル基として１００モル％に当たるアクリル酸（株式会社日本触媒製）２６．４ｇ、ヒドロキノン０．０５ｇ（和光純薬工業株式会社製）、メチルエチルケトン２５ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製製）０．８０ｇを加え、８５℃で７時間撹拌し、室温まで冷却したのちメチルエチルケトン７５．８ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量ＭＮ６６０、重量平均分子量ＭＷ１，７００であった。
撹拌機、冷却器及び温度計を備えた３リットルのガラスフラスコ内に水９６０ｇ及び９８％硫酸１００ｇ（１．０００ｍｏｌ）を仕込み、室温にて攪拌しながらチオ尿素１６１．４ｇ（２．１２０ｍｏｌ）を溶解させた。
溶解後、攪拌しながらビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のエピコート８２８ＥＬ（商品名：ジャパンエポキシレジン社）を分子蒸留により精製したエポキシ樹脂（GPC分析より求めたジグリシジルエーテルの含有量９８．２重量％、全塩素含有量０．０９５ 重量％、エポキシ当量；１７２g／eq．）２９０ｇ（１．６８６当量）を約１時間かけて滴下させた後、温度４０℃で５時間反応を行った。
反応終了後、水を９６０ｇ加えた後、常温にて攪拌しながら炭酸ナトリウム２１６．５ｇ（２．０４３ｍｏｌ）を溶解させた。溶解後、更に、温度６０℃で６時間反応を行った後、水層を廃棄し、トルエン８５０ｇを添加し、純水７００ｇで５回水洗した。水洗後、トルエンをロータリーエバポレーターにて減圧下、温度１００℃で留去させエピサルファイド樹脂を得た。得られたエピサルファイド樹脂は室温に冷却後直ぐに固形化し、白色の固体となった。このエピサルファイド樹脂の融点は、８７〜９０℃であった。
次いで、撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに上記のエピサルファイド樹脂７３．６ｇ、該樹脂中のエピサルファイド基１００モル％に対してカルボキシル基として１００モル％に当たるアクリル酸（株式会社日本触媒製）２６．４ｇ、ヒドロキノン０．０５ｇ（和光純薬工業株式会社製）、メチルエチルケトン２５ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒としてジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製製）０．８０ｇを加え、８５℃で７時間撹拌し、室温まで冷却したのちメチルエチルケトン７５．８ｇを加えて反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量ＭＮ６６０、重量平均分子量ＭＷ１，７００であった。
［実施例１〜２］、［比較例１〜３］
各合成例で得られた各樹脂溶液７０部もしくは６０部に対し、ｅｂｅｃｒｙｌ ２２０（ダイセルＵＣＢ社製多官能アクリレートを１５部もしくは２０部、上記五酸化アンチモンのメチルイソブチルケトン分散体（固形分３０重量％）１６７部混合し、メチルイソブチルケトン２０部を加えて粘度が１０〜１００ｍＰａ・Ｓになるように調整する。この樹脂溶液の固形分１００重量部に対して、光重合開始剤イルカギュア１８４を５重量部加え、ポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコーダーで乾燥塗膜が５μｍになるように塗工し、８０℃−２分乾燥し、メタルハライドランプで４００ｍＪの紫外線を照射し、試験用積層体を作製した。室温で１週間経過したものを以下の測定に用いた。
各合成例で得られた各樹脂溶液７０部もしくは６０部に対し、ｅｂｅｃｒｙｌ ２２０（ダイセルＵＣＢ社製多官能アクリレートを１５部もしくは２０部、上記五酸化アンチモンのメチルイソブチルケトン分散体（固形分３０重量％）１６７部混合し、メチルイソブチルケトン２０部を加えて粘度が１０〜１００ｍＰａ・Ｓになるように調整する。この樹脂溶液の固形分１００重量部に対して、光重合開始剤イルカギュア１８４を５重量部加え、ポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコーダーで乾燥塗膜が５μｍになるように塗工し、８０℃−２分乾燥し、メタルハライドランプで４００ｍＪの紫外線を照射し、試験用積層体を作製した。室温で１週間経過したものを以下の測定に用いた。
＜ＰＥＴへの密着性＞
密着性試験は上記塗工物上にカッターナイフで切れ目を入れ、１００個のゴバン目を作り、セロハンテープ剥離試験を行い
硬化塗膜が９５％以上残存するものを○
硬化塗膜の残存率が９０％より低いものを×
として評価した。
密着性試験は上記塗工物上にカッターナイフで切れ目を入れ、１００個のゴバン目を作り、セロハンテープ剥離試験を行い
硬化塗膜が９５％以上残存するものを○
硬化塗膜の残存率が９０％より低いものを×
として評価した。
＜耐黄変性＞
上記塗工物をカーボンアークに３０時間曝して、その前後で測色計を用い、Ｌ値、ａ値、ｂ値をそれぞれ測り、ｂ値の変化（Δｂ）を求め、黄変の程度を以下の基準に従って評価した。
Δｂが１０未満：○
Δｂが１０以上１５未満：△
Δｂが１５以上：×
上記塗工物をカーボンアークに３０時間曝して、その前後で測色計を用い、Ｌ値、ａ値、ｂ値をそれぞれ測り、ｂ値の変化（Δｂ）を求め、黄変の程度を以下の基準に従って評価した。
Δｂが１０未満：○
Δｂが１０以上１５未満：△
Δｂが１５以上：×
＜屈折率＞
アッベ屈折計（アタゴ株式会社）を用いて上記塗工物の屈折率を測定した。屈折率は表１のようになった。
アッベ屈折計（アタゴ株式会社）を用いて上記塗工物の屈折率を測定した。屈折率は表１のようになった。
＜鉛筆硬度＞
鉛筆硬度はJIS K 5400 8.4.2に従って試験を行った。
鉛筆硬度はJIS K 5400 8.4.2に従って試験を行った。
＜ヘイズ＞
濁度計３００Ａ（日本電色工業株式会社製）を用いて、上記塗工物の透明性を評価した。
ヘイズが
１．０より低いものを○
１．０以上のものを×
として評価した。
濁度計３００Ａ（日本電色工業株式会社製）を用いて、上記塗工物の透明性を評価した。
ヘイズが
１．０より低いものを○
１．０以上のものを×
として評価した。
＜表面抵抗値＞
超絶縁計ＳＭ−８２２０（東亜ＤＫＫ株式会社製）を用いて塗工物の表面抵抗値を測定した。尚、６×１０10（Ω／□）を「６Ｅ＋１０」と表現する。
超絶縁計ＳＭ−８２２０（東亜ＤＫＫ株式会社製）を用いて塗工物の表面抵抗値を測定した。尚、６×１０10（Ω／□）を「６Ｅ＋１０」と表現する。
［実施例３］
（反射防止層用塗液）
シリカゾル（屈折率：１．３、固形分３０wt％、エタノール分散体）２２重量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０重量部、イソプロピルアルコール２００重量部、イルガキュア１８４を０．８重量部加え、低屈折率層用塗液を得た。
（反射防止層用塗液）
シリカゾル（屈折率：１．３、固形分３０wt％、エタノール分散体）２２重量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０重量部、イソプロピルアルコール２００重量部、イルガキュア１８４を０．８重量部加え、低屈折率層用塗液を得た。
実施例２で得た硬化塗膜の上に、反射防止用の低屈折率層用塗液を硬化塗膜の厚さが約０．１μｍになるように塗布、乾燥し、窒素雰囲気下で積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ2となるように紫外線を照射し、反射防止層を形成し、反射防止フィルムを得た。
得られた反射防止フィルムについて、以下の方法に従って反射率、干渉縞の発生の有無を評価したところ、反射率は約１．２２％、干渉縞は全くなかった。
＜反射率＞
塗布面の裏面（基材フィルムの裏面）をサンドペーパーで荒らしたサンプルを作成。このサンプルの反射防止面測定面とし、日立製作所製 自動分光光度計Ｕ−４０００を用い、５°の正反射で反射スペクトルを測定した。このスペクトルデータから反射率が最も低い値を読みとり、最低反射率の値とした。
塗布面の裏面（基材フィルムの裏面）をサンドペーパーで荒らしたサンプルを作成。このサンプルの反射防止面測定面とし、日立製作所製 自動分光光度計Ｕ−４０００を用い、５°の正反射で反射スペクトルを測定した。このスペクトルデータから反射率が最も低い値を読みとり、最低反射率の値とした。
＜干渉縞＞
塗布面の裏面（基材フィルムの裏面）をサンドペーパーで荒らした裏面反射防止処理を行った。このサンプルについて２０Ｗ蛍光灯の直近２０ｃｍの距離から干渉縞の有無を目視評価した。
塗布面の裏面（基材フィルムの裏面）をサンドペーパーで荒らした裏面反射防止処理を行った。このサンプルについて２０Ｗ蛍光灯の直近２０ｃｍの距離から干渉縞の有無を目視評価した。
Claims (7)
- ビフェニレン骨格を主鎖に含み、かつ重合性不飽和結合を有する感光性化合物（Ａ）、該感光性化合物（Ａ）以外の他の多官能感光性化合物（Ｂ）、及び酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子を含有する感光性組成物。
- 光重合開始剤（Ｃ）をさらに含有する請求項１記載の感光性組成物。
- ビフェニレン骨格が、下記一般式（１）である請求項１又は２記載の感光性組成物。
一般式（１）
−（Ｒ１−Ａｒ１−Ａｒ２−Ｒ２−Ａｒ３）−
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキレン基を表し、
Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立に、アリーレン基を表す。） - 化合物（Ａ）が、下記一般式（２）で表される化合物（Ａ１）である請求項３記載の感光性組成物。
一般式（２）
Ｒ４およびＲ４’は、それぞれ独立に、１価の有機残基を表し、少なくとも一つは不飽和二重結合を含む１価の有機残基である。
Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、
ｎは１〜２０を表す。） - 一般式（２）で表される化合物（Ａ１）が、
下記一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）、およびグリシジル基と反応し得る官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）を反応させたものである請求項４記載の感光性組成物。
一般式（３）
Ｒ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基のいずれかを表し、
ｎは１〜２０を表す。） - 一般式（２）で表される化合物（Ａ１）が、
一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）、グリシジル基と反応し得る官能基（ａ）と不飽和二重結合とを共に有する化合物（Ｅ）及びグリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を有し不飽和二重結合を有しない化合物（Ｆ）を反応させたものである請求項５記載の感光性組成物。 - 一般式（２）で表される化合物（Ａ１）が、
一般式（３）で表される化合物（Ｄ１）のグリシジル基１倍当量に対して、化合物（Ｅ）中のグリシジル基と反応する官能基（ａ）及び化合物（Ｆ）中のグリシジル基と反応し得る官能基（ｂ）を、０．１〜０．７／０．９〜０．３の当量比で反応させたものである請求項６記載の感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004004497A JP2005194476A (ja) | 2004-01-09 | 2004-01-09 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2004004497A JP2005194476A (ja) | 2004-01-09 | 2004-01-09 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005194476A true JP2005194476A (ja) | 2005-07-21 |
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ID=34819098
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004004497A Pending JP2005194476A (ja) | 2004-01-09 | 2004-01-09 | 感光性組成物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005194476A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2219073A1 (de) * | 2009-02-17 | 2010-08-18 | Bayer MaterialScience AG | Neue holografische Medien und Photopolymere |
-
2004
- 2004-01-09 JP JP2004004497A patent/JP2005194476A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2219073A1 (de) * | 2009-02-17 | 2010-08-18 | Bayer MaterialScience AG | Neue holografische Medien und Photopolymere |
| CN101807003A (zh) * | 2009-02-17 | 2010-08-18 | 拜尔材料科学股份公司 | 新型全息介质和光聚合物 |
| EP2219075A1 (de) * | 2009-02-17 | 2010-08-18 | Bayer MaterialScience AG | Neue holografische Medien und Photopolymere |
| US8329773B2 (en) | 2009-02-17 | 2012-12-11 | Bayer Materialscience Ag | Holographic media and photopolymers |
| CN101807003B (zh) * | 2009-02-17 | 2014-08-13 | 拜尔材料科学股份公司 | 新型全息介质和光聚合物 |
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