JP2005191482A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 シリコン基板1上にゲート絶縁膜を介してゲート電極7bが形成されてなる半導体装置において、ゲート絶縁膜を、シリコン基板1上に形成されたシリコン酸化膜4aと、シリコン酸化膜4a上に形成されたHfシリケート膜5aと、Hfシリケート膜5a上に形成され、Hfを1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有し、窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する窒素含有Hfシリケート膜6aとを積層することにより構成する。
【選択図】 図1
Description
しかし、上記高誘電率膜をゲート絶縁膜として用い、ポリシリコン電極をゲート電極として用いた場合、ポリシリコン電極にドープされた不純物が不純物活性化時にゲート絶縁膜を通して基板に拡散してしまい、トランジスタ特性が劣化してしまうという問題があった。
具体的には、基板上にジルコニウム又はハフニウムからなる金属層を形成し、該金属層を酸窒化処理することにより、オキシ窒化ジルコニウム層又はオキシ窒化ハフニウム層からなる高誘電率ゲート絶縁膜を形成する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
また、ハフニウム含有シリコン酸窒化膜からなる下部バリア膜と、シリコン含有ハフニウム酸化膜からなる高誘電率膜と、窒素を含むシリコン含有ハフニウム酸化膜からなる上部バリア膜とを積層することによりゲート絶縁膜を構成し、高誘電率膜及び下部バリア膜中の金属(M)、酸素(O)、窒素(N)及びシリコン(Si)の組成を制御することが記載されている(例えば、特許文献2参照。)。
前記基板上に形成されたゲート絶縁膜であって、金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する窒素含有金属シリケート膜若しくは窒素含有金属アルミネート膜を最上層に有するゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極とを備えたことを特徴とするものである。
前記基板上に形成されたゲート絶縁膜であって、
前記基板上に形成された下地界面層と、
該下地界面層上に形成され、金属、酸素及びシリコンを含む金属シリケート膜と、
該金属シリケート膜上に形成され、金属、酸素、シリコン及び窒素を含む窒素含有金属シリケート膜とを有するゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極とを備え、
前記窒素含有金属シリケート膜は、前記金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有することを特徴とするものである。
前記下地界面層上に、金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する金属シリケート膜を形成する工程と、
前記金属シリケート膜の上層に、窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する窒素含有金属シリケート膜を形成する工程と、
前記窒素含有金属シリケート膜上にゲート電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とするものである。
前記下地界面層上に、金属を5atomic%以上40atomic%以下のピーク濃度で含有する金属シリケート膜を形成する工程と、
前記金属シリケート膜上に、金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有し、窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する窒素含有金属シリケート膜を形成する工程と、
前記窒素含有金属シリケート膜上にゲート電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とするものである。
金属を含む原料を前記基板上に供給した後、酸化性ガスを供給して金属酸化膜を形成するステップと、シリコンを含む原料を前記基板上に供給した後、酸化性ガスを供給してシリコン酸化膜を形成するステップとを組み合わせて行い、かつ、該ステップの回数をそれぞれ制御することにより、金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する金属シリケート膜を形成する工程と、
該金属シリケート膜を窒化することにより、該金属シリケート膜に窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で導入する工程と、
を含むことが好適である。
図1は、本発明の実施の形態による半導体装置を説明するための断面図である。詳細には、P型チャネルMOSトランジスタ(以下「PMOSトランジスタ」という。)を説明するための断面図である。
図1に示すように、基板1としてのp型シリコン基板内に、n型不純物が導入されてなるn型ウェル2が形成されている。該基板1の素子分離領域に素子分離構造3が形成されている。この素子分離構造3により、活性領域であるPMOSトランジスタ形成領域が区画形成される。素子分離構造3は、基板1の表面側から形成された浅溝内にシリコン酸化膜が充填されてなるSTI(Shallow Trench Isolation)である。MOSトランジスタ形成領域の基板1上には、積層されたゲート絶縁膜4a,5a,6aを介してゲート電極7bが形成されている。
下地界面層4aは、基板1と高誘電率膜5aとの界面反応を抑制するシリコン酸化膜である。下地界面層4aの膜厚は、1nm以下が好適であり、例えば、0.5nm程度である。
高誘電率膜5aは、金属、酸素及びシリコンを含有する金属シリケート膜であり、例えば、Hf(ハフニウム)シリケート膜又はZr(ジルコニウム)シリケート膜を用いることができる。高誘電率膜5aの膜厚は、例えば、3nm程度である。
上層絶縁膜6aは、HfやZrのような金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する膜である。すなわち、窒素含有金属シリケート膜6aは、シリコンリッチな膜とする。金属ピーク濃度が30atomic%を超える場合、後述するように、良好な電気特性が得られないためである。
また、上層絶縁膜6aは、窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する。窒素ピーク濃度が10atomic%未満の場合には、上層絶縁膜6aの緻密化が不十分となり、活性化熱処理においてゲート電極であるポリシリコンへ導入したリンあるいはボロンなどの不純物の拡散抑制が困難となるためである。また、窒素ピーク濃度が30atomic%を超えるようにするのは実際困難であり、仮に可能であったとしても優れた電気特性が得られない。
上層絶縁膜6aの膜厚は、高誘電率膜5aの膜厚の1/20〜2/3程度が好適である。
ゲート電極7b及びゲート絶縁膜4a,5a,6aの側面には、LDD形成用スペーサとしてのサイドウォール11が形成されている。該サイドウォール11は、シリコン酸化膜やシリコン窒化膜等からなる。
ゲート電極7b下方の基板1表面のチャネル領域を挟んで、低濃度のp型不純物が導入されてなるエクステンション領域14が形成されている。高濃度のp型不純物が導入されてなるソース/ドレイン領域15が、エクステンション領域14と接続するようにn型ウェル2に形成されている。
NMOSトランジスタの場合には、p型シリコン基板1内にp型ウェルが形成され、素子分離構造3によりNMOSトランジスタ形成領域が区画形成されている。さらに、p型ウェルには、低濃度のn型不純物が導入されてなるエクステンション領域と、該エクステンションに接続され、高濃度のn型不純物が導入されてなるソース/ドレイン領域とが形成されている。
ハフニウム酸化膜は、Hf原料としてのテトラメチルエチルアミドハフニウム[Hf(N(CH3)(C2H5))4]を液体マスフローコントローラを用いて流量制御し、該流量制御されたHf原料を気化させて、成膜チャンバ内に保持されたシリコン基板表面に吸着させた後、該チャンバ内にオゾンガスのような酸化性ガスを導入することにより形成される。かかるハフニウム酸化膜の形成工程を1サイクルとする。
図2は、テトラメチルエチルアミドハフニウム[Hf(N(CH3)(C2H5))4]をHf原料として用いてハフニウム酸化膜を形成する場合において、サイクル数とハフニウム酸化膜の膜厚との関係を示す図である。図2には、基板温度が200℃、250℃、275℃、300℃、325℃である場合の膜厚の変化を示している。図2に示すように、各シリコンウエハ温度において、サイクル数の増加に伴い、ハフニウム酸化膜の膜厚が線形的に増加している。さらに、基板温度が増加するのに伴い、直線の傾きが大きくなり、1サイクル当たりの成膜速度が増加している。これは、基板温度の増加に伴い、基板表面に吸着するテトラメチルエチルアミドハフニウム[Hf(N(CH3)(C2H5))4]の量も増加するためであると考えられる。図2に示すように、各基板温度における1サイクル当たりのHfO2成膜速度は、200℃:0.090nm/cycle、250℃:0.093nm/cycle、275℃:0.117nm/cycle、300℃:0.227nm/cycle、325℃:0.458nm/cycleであった。
また、Hfシリケート膜に代えて、Zrシリケート膜を形成することができる。この場合、Zr原料として、テトラメチルエチルアミドジルコニウム[Zr(N(CH3)(C2H5))4]、テトラジメチルアミドジルコニウム[Zr(N(CH3)2)4]又はテトラジエチルアミドジルコニウム[Zr(N(C2H5)2)4]を用いることができる。
同様に、金属として、Hf又はZr以外に、タンタル(Ta)、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、ランタン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジウム(Pr)、ネオジウム(Nd)、サマリウム(Sm)、ユーロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、イッテルビウム(Yb)およびルテチウム(Lu)を用いることができる。この場合、金属原料として、上記Hf原料のハフニウム部分を各金属元素に変えた原料を用いることができる。
シリコン酸化膜は、Si原料としてのトリスジメチルアミノシラン[SiH(N(CH3)2)3]を液体マスフローコントローラを用いて流量制御し、該流量制御されたSi原料を気化させて、成膜チャンバ内に保持されたシリコン基板表面に吸着させた後、該チャンバ内にオゾンガスのような酸化性ガスを導入することにより形成される。かかるシリコン酸化膜の形成工程を1サイクルとする。
図3は、トリスジメチルアミノシラン[SiH(N(CH3)2)3]をSi原料として用いてシリコン酸化膜を形成する場合において、サイクル数とシリコン酸化膜の膜厚との関係を示す図である。図3(a)は成膜チャンバ内の圧力が0.5Torrの場合、図3(b)は成膜チャンバ内の圧力が5.0Torrの場合の結果を示している。成膜チャンバ内の圧力が0.5Torrの場合、図3(a)に示すように、サイクル数の増加に伴いシリコン酸化膜の膜厚が線形的に増加しているが、成膜速度は小さかった。一方、成膜チャンバ内の圧力を5.0Torrに上げた場合には、図3(b)に示すように、成膜速度が増加した。これは、Si原料であるトリスジメチルアミノシラン[SiH(N(CH3)2)3]は、0.5Torrの低圧では基板表面に吸着しにくく、5.0Torrの圧力にすることにより吸着量が増加するためであると考えられる。図3(b)に示すように、0.5Torrの低圧で成膜した場合、各基板温度における1サイクル当たりのSiO2成膜速度は、225℃:0.058nm/cycle、250℃:0.070nm/cycle、275℃:0.080nm/cycleであった。
図4に示すように、Hf/Si=1/1、Hf/Si=1/2及びHf/Si=1/4の何れの場合においても、サイクル数の増加に伴い、Hfシリケート膜厚が線形的に増加している。これは、サイクル数によりHfシリケート膜の膜厚を非常に精度良く制御できていることを意味している。図4に示すように、1サイクル当たりのHfシリケート成膜速度は、Hf/Si=1/1:0.155nm/cycle、Hf/Si=1/2:0.222nm/cycle、Hf/Si=1/4:0.373nm/cycleであった。
図6〜図8は、本実施の形態による半導体装置の製造方法を説明するための工程断面図である。詳細には、PMOSトランジスタの製造方法を説明するための工程断面図である。NMOSトランジスタとPMOSトランジスタは同様の断面構造を有するため、NMOSトランジスタの製造方法については図示を省略し適宜説明する。
先ず、図6(a)に示すように、PMOSトランジスタ形成領域において、P型シリコン基板1内にn型不純物を導入し熱処理を施すことによりn型ウェル2を形成する。一方、NMOSトランジスタ形成領域において、シリコン基板1内にp型不純物を導入し熱処理を施すことによりp型ウェルを形成する。そして、STI法により素子分離構造3を形成することにより、上記PMOS及びNMOSトランジスタ形成領域に仕切られる。具体的には、シリコン基板1の素子分離領域に浅い溝を形成し、該溝内にシリコン酸化膜を埋め込むことにより素子分離構造3を形成する。溝以外に形成されたシリコン酸化膜は、CMP法又はエッチバック法により除去することができる。
Hfシリケート膜5形成後、窒素含有Hfシリケート膜6の形成前に、Hfシリケート膜5を緻密化する処理を行ってもよい。該緻密化は、例えば、酸素ガスが微量添加された窒素ガス雰囲気、又は窒素ガス雰囲気中で、ハロゲンランプを用いた急速加熱処理を、1sec−600sec行うことにより実行することができる。また、該雰囲気中で、フラッシュランプを用いた急速加熱処理を、0.3msec−100msec行うことにより実行することができる。
なお、Hfシリケート膜5を窒化することにより窒素含有Hfシリケート膜6を形成する代わりに、Hfシリケート膜5上に、ハフニウム、酸素、シリコン及び窒素を含む原料を用いて、窒素含有Hfシリケート膜6を形成してもよい。
窒素含有Hfシリケート膜6を形成した後、緻密化処理を行う必要である。緻密化処理は、例えば、酸素ガスが微量添加された窒素ガス雰囲気、又は窒素ガス雰囲気中で、ランプを用いた急速加熱処理を行うことにより実行することができる。
そして、図7(a)に示すように、ポリシリコン膜7にボロンのような不純物8をイオン注入する。これにより、窒素含有Hfシリケート膜6上に、ドープトポリシリコン膜7aが形成される。一方、図示しないが、NMOSトランジスタ形成領域に形成されたポリシリコン膜には、リンのような不純物をイオン注入する。
ここで、活性化のための熱処理温度は、緻密化のための熱処理温度よりも、少なくとも10℃以上低くすることが好適である。例えば、活性化熱処理温度を980℃で行い、緻密化熱処理温度を1000℃で行うことができる。これにより、ゲート絶縁膜とゲート電極との相互反応が抑制され、熱的に安定で、ゲート電極に導入された不純物拡散を抑制したゲート絶縁膜が得られる。
図9は、本実施の形態による半導体装置のC−V特性を示す図である。詳細には、図9(a)は、NMOSトランジスタのC−V特性を示す図であり、図9(b)は、PMOSトランジスタのC−V特性を示す図である
図9(a),(b)に示すように、Hf/Si=1/1(上述)でHfシリケート膜を形成した場合、実際に得られたMOSトランジスタのC−V特性は、理想のC−Vよりずれてしまう。これは、初期のVfbシフトが抑制されていないためである。
一方、Hf/Si=1/2でHfシリケート膜を形成した場合、C−V特性が理想のC−V特性に近づいている。
さらに、Hf/Si=1/4でHfシリケート膜を形成した場合、すなわち金属濃度[Hf/(Hf+Si)]が約30%以下になる場合、ほぼ理想のC−V特性が得られる。よって、初期のVfbが十分に抑制できていることが分かる。
よって、シリコンリッチなHfシリケート膜を形成することにより良好なC−V特性が得られ、金属濃度が約30%以下になった場合、ほぼ理想C−V曲線に近い結果となった。特に、図9(b)に示すように、PMOSトランジスタにおいて顕著なC−V特性の改善が見られた。
また、図9(a),(b)に示すように、反転側で、Hf/Si比によりC/Cmax値が異なり、シリコンリッチになるほどC/Cmax値が大きくなっているのがわかる。これは、シリコンリッチなHfシリケート膜であるほど、上部電極ポリシリコンからの不純物拡散が小さく、空乏化がなくなるためであると考えられる。
なお、上述した他のHf原料及びSi原料を用いてHfシリケートを形成した場合についても同様の結果が得られる。
また、窒素含有Hfシリケート膜6a中の窒素ピーク濃度を10atomic%以上30atomic%以下に制御した。これにより、活性化熱処理時のゲート電極に導入された不純物のゲート絶縁膜への拡散を抑制することができ、不純物拡散によるVfbシフトを抑制することができる。
上述した実施の形態では、金属シリケート膜5aと窒素含有金属シリケート膜6aにおける金属ピーク濃度が同等であった。これに対して、本変形例では、金属シリケート膜5aの金属ピーク濃度を、窒素含有金属シリケート膜6aの金属ピーク濃度よりも高くすることとした。すなわち、金属シリケート膜5aを金属リッチな膜とし、窒素含有金属シリケート膜6aをシリコンリッチな膜とした。その他の構成については、上記実施の形態と同様であるので、説明を省略する。
2 n型ウェル
3 素子分離構造
4a 下地界面層(シリコン酸化膜)
5a 高誘電率膜(金属シリケート膜)
6a 上層絶縁膜(窒素含有金属シリケート膜)
7 ポリシリコン膜
7a ドープトポリシリコン膜
7b ゲート電極(ポリシリコン電極)
8 不純物
9 不純物
10 低濃度イオン注入層
11 サイドウォール
12 不純物
13 低濃度イオン注入層
14 エクステンション領域
15 ソース/ドレイン領域
16 層間絶縁膜
17 コンタクト
18 金属配線
Claims (8)
- 基板と、
前記基板上に形成されたゲート絶縁膜であって、金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する窒素含有金属シリケート膜若しくは窒素含有金属アルミネート膜を最上層に有するゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極とを備えた半導体装置。 - 基板と、
前記基板上に形成されたゲート絶縁膜であって、
前記基板上に形成された下地界面層と、
該下地界面層上に形成され、金属、酸素及びシリコンを含む金属シリケート膜と、
該金属シリケート膜上に形成され、金属、酸素、シリコン及び窒素を含む窒素含有金属シリケート膜とを有するゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極とを備え、
前記窒素含有金属シリケート膜は、前記金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置において、
前記金属シリケート膜は、金属を5atomic%以上40atomic%以下のピーク濃度で含有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1から3の何れかに記載の半導体装置において、
前記窒素含有金属シリケート膜は、前記窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有することを特徴とする半導体装置。 - 基板上に下地界面層を形成する工程と、
前記下地界面層上に、金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する金属シリケート膜を形成する工程と、
前記金属シリケート膜の上層に、窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する窒素含有金属シリケート膜を形成する工程と、
前記窒素含有金属シリケート膜上にゲート電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項5に記載の半導体装置の製造方法において、
前記金属シリケート膜を形成する工程は、金属を含む原料を前記基板上に供給した後、酸化性ガスを供給して金属酸化膜を形成する第1ステップと、シリコンを含む原料を前記基板上に供給した後、酸化性ガスを供給してシリコン酸化膜を形成する第2ステップとを組み合わせて行い、かつ、該第1及び第2ステップの回数を制御して行う工程であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 基板上に下地界面層を形成する工程と、
前記下地界面層上に、金属を5atomic%以上40atomic%以下のピーク濃度で含有する金属シリケート膜を形成する工程と、
前記金属シリケート膜上に、金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有し、窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する窒素含有金属シリケート膜を形成する工程と、
前記窒素含有金属シリケート膜上にゲート電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項7に記載の半導体装置の製造方法において、
前記窒素含有金属シリケート膜を形成する工程は、
金属を含む原料を前記基板上に供給した後、酸化性ガスを供給して金属酸化膜を形成するステップと、シリコンを含む原料を前記基板上に供給した後、酸化性ガスを供給してシリコン酸化膜を形成するステップとを組み合わせて行い、かつ、該ステップの回数をそれぞれ制御することにより、金属を1atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で含有する金属シリケート膜を形成する工程と、
該金属シリケート膜を窒化することにより、該金属シリケート膜に窒素を10atomic%以上30atomic%以下のピーク濃度で導入する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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