JP2005191034A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】Cu配線形成工程のうちCu膜の化学機械研磨において、配線上部のCuが配線間絶縁膜上に残留することにより隣の配線と接触し、配線間ショートが発生するという課題がある。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法においては、化学機械研磨の後、配線間絶縁膜上に残留したCu膜をオゾン水処理により酸化Cuとし、次に無機酸または有機酸処理によりこの酸化Cuをエッチング除去することにより、配線間ショートの発生を未然に防止する。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法においては、化学機械研磨の後、配線間絶縁膜上に残留したCu膜をオゾン水処理により酸化Cuとし、次に無機酸または有機酸処理によりこの酸化Cuをエッチング除去することにより、配線間ショートの発生を未然に防止する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置の製造方法、特にCu(銅)配線の形成方法に関するものである。
近年、シリコン半導体製品の微細化と高性能化に伴い、Cu配線が多用されている。Cu配線の形成方法として、銅のドライエッチングが極めて困難なことから、配線間絶縁膜へのドライエッチングによる配線溝形成工程と、形成された配線溝への電解めっきによる銅の埋め込み工程と、化学機械研磨による余剰なCu膜の除去および平坦化という一連の工程(ダマシン法)が一般的に行われている。
上記工程のうち、化学機械研磨工程においては、Cu膜およびバリア膜を研磨し、配線間絶縁膜が露出したところで研磨を終了するが、Cu膜が薄くなることによる配線抵抗の上昇を防止するため、研磨後表面の断面形状は配線間絶縁膜に対し、Cu膜が凸形状となる場合がある。この凸形状の大きさは最大で40nm程度である。図4はCu配線間に発生する配線間ショートを示す概略図である。上記のようにCu膜が配線間絶縁膜に対して凸形状となる場合、研磨中に凸形状となったCu膜が研磨圧力によって配線間絶縁膜上に延び、隣のCu配線10と接触することにより、配線間ショートが発生することが問題となる(図4(a))。
また、研磨中の異物によって、Cu膜にスクラッチが生じた場合は、スクラッチによって取り除かれたCuが配線間絶縁膜上に延び、配線間ショートが生じる(図4(b))。さらに、配線間絶縁膜上にスクラッチが生じた場合は、そのスクラッチにCuが埋め込まれることにより配線間ショートが生じる場合もある(図4(c))。
以上のようにして形成された配線間のCu膜は、その厚さに依存して、研磨後の洗浄では除去することができない場合があり、配線ショートを引き起こし、半導体製品の歩留まり低下の原因となる。従来は、このような問題の原因となるスクラッチ等のダメージを低減するために、研磨液に関し、液組成、研磨砥粒の濃度等を調整する方法が取られている(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−135466号公報
しかしながら、研磨液の調整による方法では、スクラッチ等のダメージの発生を完全に防止することは困難であり、また配線間絶縁膜上に残留するCuを除去することはできない。その結果、残留Cuにより配線間ショートが発生する恐れがある。
本発明の目的は、化学機械研磨後の配線間絶縁膜上に残留したCuをほぼ完全に除去することにより、Cu配線間ショートの発生を未然に防止することにある。
上記目的を達成するために、本発明の半導体装置の製造方法においては、化学機械研磨工程後に、Cu配線間の配線間絶縁膜上に残留したCu膜を酸化し、酸化Cuとする工程と、前記酸化Cuをエッチングにより除去する工程を備える。
本発明により、Cu配線形成工程において、Cu膜の化学機械研磨後に存在するCu配線間の配線間絶縁膜上Cu膜を酸化Cuとした後、エッチング除去することにより、配線間ショートの発生を未然に防止することができる。
以下に、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。図1にCu(銅)配線の形成方法を示す工程フローを、図2に各工程の断面図を示す。
図1、図2(a)に示すように、半導体基板1上に配線間絶縁膜2を形成し(ステップ1)、配線間絶縁膜2にドライエッチングにより配線溝を形成した後(ステップ2)、スパッタリングによってバリア膜3およびCuシード膜4を形成し(ステップ3)、さらに電解メッキ(Cuメッキ)によってCu膜5の埋め込みを形成する(ステップ4)。その後、図2(b)に示すように、Cu膜5をアニール処理した後、電解メッキによって生じた余剰なCu膜5を化学機械研磨によって除去し、Cu配線10が形成される(ステップ5)。この際、Cu膜5が薄くなり、配線抵抗が上昇することを防止するために、研磨後表面の断面形状が配線間絶縁膜に対しCu膜6が凸形状となる場合がある。この凸形状の大きさは最大で40nm程度である。
ここで、図4に示したような各種要因により発生するCu配線10間に配線ショートの原因となるCu膜6が生じている場合、このようにして配線間に残留するCu膜6を除去するために、枚様式スピン洗浄装置を用いて、以下の処理を行う。まず、図2(c)に示すように、化学機械研磨後の半導体基板を、5〜20ppmのオゾン水で洗浄処理することにより、Cu膜表面に1〜40nmのCuの凸量に相当する制御された厚さの酸化Cu7を形成する(ステップ6)。その後、図2(d)に示すように、無機酸で洗浄処理し、酸化Cu7をエッチング除去する(ステップ7)。最後に、Cu拡散防止膜を形成する(ステップ8)。
オゾン水による洗浄処理と無機酸による洗浄処理は、同一チャンバー内で連続して行い、Cu膜6が完全に除去できない場合は連続処理を複数回繰り返すことにより、Cu膜6を完全に除去することが可能である。洗浄はウエハを回転させて行なう。無機酸としては、フッ酸、硝酸、硫酸、塩酸、過酸化水素のうち少なくとも1つを含むものを使用する。また、無機酸洗浄処理による配線間絶縁膜へのダメージ等の影響が懸念される場合には、無機酸洗浄処理に替えて有機酸による洗浄処理とすることにより同様の効果が得られる。有機酸としては、シュウ酸、クエン酸のうち少なくとも1つを含むものを使用する。本処理により、Cu配線10間に残留したCu膜6はエッチング除去され、配線間ショートの発生を防止できる。
以下に、本発明の洗浄方法で半導体基板を洗浄処理した時の具体例を示す。本処理においては、オゾン水洗浄処理は処理時間10秒でCu膜表面を酸化し、その後、無機酸として希フッ酸を用いた洗浄処理は処理時間10秒で酸化Cuをエッチング除去する。
条件は下記の通りである。
オゾン水濃度:13.5ppm
オゾン水流量:1.0l/min
オゾン水洗浄時間:10sec
オゾン水洗浄時のウエハ回転数:500rpm
希フッ酸濃度:1.0%
希フッ酸流量:1.0l/min
希フッ酸洗浄時間:10sec
希フッ酸洗浄時のウエハ回転数:500rpm
被洗浄ウエハ:Cu配線パターンが形成された化学機械研磨後の半導体基板
検査装置:光学式パターン欠陥検査装置
本処理実施前後の配線間ショート数の変化を図3に示す。この結果より、本処理によって配線間ショート数は96%減少していることがわかる。したがって、オゾン水処理によるCu膜の酸化およびフッ酸処理による酸化Cuのエッチング除去の連続処理によって配線間ショートを大幅に低減できる。
オゾン水流量:1.0l/min
オゾン水洗浄時間:10sec
オゾン水洗浄時のウエハ回転数:500rpm
希フッ酸濃度:1.0%
希フッ酸流量:1.0l/min
希フッ酸洗浄時間:10sec
希フッ酸洗浄時のウエハ回転数:500rpm
被洗浄ウエハ:Cu配線パターンが形成された化学機械研磨後の半導体基板
検査装置:光学式パターン欠陥検査装置
本処理実施前後の配線間ショート数の変化を図3に示す。この結果より、本処理によって配線間ショート数は96%減少していることがわかる。したがって、オゾン水処理によるCu膜の酸化およびフッ酸処理による酸化Cuのエッチング除去の連続処理によって配線間ショートを大幅に低減できる。
本発明のCu配線の形成方法によれば、半導体基板上におけるCu配線だけでなく、プリント基板等のCu配線においても、Cu配線表面層を薄く除去する場合等の処理にも適用できる。
1 半導体基板
2 配線間絶縁膜
3 バリア膜
4 Cuシード膜
5 Cu膜
6 Cu膜
7 酸化Cu
10 Cu配線
2 配線間絶縁膜
3 バリア膜
4 Cuシード膜
5 Cu膜
6 Cu膜
7 酸化Cu
10 Cu配線
Claims (7)
- 絶縁膜上に形成された配線溝にCu膜を埋め込み、Cu配線を形成する工程と、前記絶縁膜の表面上に形成された前記Cu膜を酸化させる工程と、酸化された前記Cu膜をエッチングにより除去する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- Cu配線を形成する工程は、絶縁膜上へのCuメッキする工程と、メッキ後の前記絶縁膜の表面を化学機械研磨する工程とを備えたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- Cu膜を酸化させる工程は、オゾン水で洗浄処理することにより行なうことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 酸化された前記Cu膜をエッチングにより除去する工程のエッチング液は、無機酸または有機酸を用いることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- Cu膜を酸化させる工程と、酸化された前記Cu膜をエッチングにより除去する工程の連続処理を少なくとも1回以上行なうことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 無機酸は、フッ酸、硝酸、硫酸、塩酸、過酸化水素のうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 有機酸は、シュウ酸、クエン酸のうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003426827A JP2005191034A (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | 半導体装置の製造方法 |
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JP (1) | JP2005191034A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007311383A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Nec Corp | 銅ダマシン多層配線の形成方法 |
JP2013153099A (ja) * | 2012-01-26 | 2013-08-08 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 半導体装置の製造方法 |
CN109545737A (zh) * | 2017-09-22 | 2019-03-29 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理方法及基板处理装置 |
JP2020155615A (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
CN113061881A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-07-02 | 鑫巨(深圳)半导体科技有限公司 | 一种电解镀铜的铜处理装置及方法 |
-
2003
- 2003-12-24 JP JP2003426827A patent/JP2005191034A/ja active Pending
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