JP2005175407A - 計測方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 - Google Patents
計測方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005175407A JP2005175407A JP2003417212A JP2003417212A JP2005175407A JP 2005175407 A JP2005175407 A JP 2005175407A JP 2003417212 A JP2003417212 A JP 2003417212A JP 2003417212 A JP2003417212 A JP 2003417212A JP 2005175407 A JP2005175407 A JP 2005175407A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- pattern
- test
- projection optical
- reticle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
- G03F7/706—Aberration measurement
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003417212A JP2005175407A (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 計測方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
| US11/013,252 US7495742B2 (en) | 2003-12-15 | 2004-12-15 | Measuring method and apparatus, exposure method and apparatus using the same, and device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003417212A JP2005175407A (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 計測方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005175407A true JP2005175407A (ja) | 2005-06-30 |
| JP2005175407A5 JP2005175407A5 (enExample) | 2007-02-08 |
Family
ID=34650656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003417212A Pending JP2005175407A (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 計測方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7495742B2 (enExample) |
| JP (1) | JP2005175407A (enExample) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008186912A (ja) * | 2007-01-29 | 2008-08-14 | Nikon Corp | 収差評価方法、調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
| JP2008244386A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Canon Inc | 収差計測方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
| US8248580B2 (en) | 2008-05-01 | 2012-08-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device |
| JP2023036641A (ja) * | 2015-04-21 | 2023-03-14 | ケーエルエー コーポレイション | 計測ターゲット設計の方法、計測モジュール、及び計測ターゲットの製造方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4455129B2 (ja) * | 2004-04-06 | 2010-04-21 | キヤノン株式会社 | 収差計測方法及びそれを用いた投影露光装置 |
| US7580113B2 (en) * | 2006-06-23 | 2009-08-25 | Asml Netherlands B.V. | Method of reducing a wave front aberration, and computer program product |
| JP2008042036A (ja) * | 2006-08-08 | 2008-02-21 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2009152251A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Canon Inc | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2009277711A (ja) * | 2008-05-12 | 2009-11-26 | Canon Inc | 露光装置、補正方法及びデバイス製造方法 |
| EP2857820A4 (en) * | 2012-05-30 | 2016-01-27 | Nikon Corp | METHOD AND DEVICE FOR WAVE FRONT MEASUREMENT AND EXPOSURE METHOD AND DEVICE |
| CN102854757B (zh) * | 2012-08-23 | 2015-08-12 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于空间像线性拟合的投影物镜波像差检测系统和方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000021768A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Canon Inc | 面位置検出装置及びそれを用いた走査型投影露光装置 |
| JP2002025884A (ja) * | 2000-06-30 | 2002-01-25 | Toshiba Corp | 投影光学系の収差補正方法及び半導体装置の製造方法 |
| JP2002289494A (ja) * | 2000-03-21 | 2002-10-04 | Canon Inc | 計測方法及びそれを用いた投影露光装置 |
| JP2003007598A (ja) * | 2001-06-25 | 2003-01-10 | Mitsubishi Electric Corp | フォーカスモニタ方法およびフォーカスモニタ用装置ならびに半導体装置の製造方法 |
| JP2003045795A (ja) * | 2001-05-10 | 2003-02-14 | Nikon Corp | 光学特性計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法 |
| JP2003178968A (ja) * | 2001-10-01 | 2003-06-27 | Canon Inc | 収差計測方法及び投影露光装置 |
| WO2003088329A1 (fr) * | 2002-04-17 | 2003-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Reticule et procede de mesure de caracteristique optique |
| JP2003318090A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-07 | Canon Inc | 投影光学系の敏感度計測方法、及びそれを有する投影露光装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5661548A (en) * | 1994-11-30 | 1997-08-26 | Nikon Corporation | Projection exposure method and apparatus including a changing system for changing the reference image-formation position used to generate a focus signal |
| US5828455A (en) * | 1997-03-07 | 1998-10-27 | Litel Instruments | Apparatus, method of measurement, and method of data analysis for correction of optical system |
| JP2001264582A (ja) | 2000-03-22 | 2001-09-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光コネクタ用フェルール |
| TW591694B (en) * | 2001-02-13 | 2004-06-11 | Nikon Corp | Specification determining method, making method and adjusting method of projection optical system, exposure apparatus and making method thereof, and computer system |
| KR100654784B1 (ko) * | 2001-08-31 | 2006-12-08 | 캐논 가부시끼가이샤 | 레티클과 광학특성의 측정방법 |
| US6960415B2 (en) * | 2001-10-01 | 2005-11-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Aberration measuring method and projection exposure apparatus |
| JP4054666B2 (ja) * | 2002-12-05 | 2008-02-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
-
2003
- 2003-12-15 JP JP2003417212A patent/JP2005175407A/ja active Pending
-
2004
- 2004-12-15 US US11/013,252 patent/US7495742B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000021768A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Canon Inc | 面位置検出装置及びそれを用いた走査型投影露光装置 |
| JP2002289494A (ja) * | 2000-03-21 | 2002-10-04 | Canon Inc | 計測方法及びそれを用いた投影露光装置 |
| JP2002025884A (ja) * | 2000-06-30 | 2002-01-25 | Toshiba Corp | 投影光学系の収差補正方法及び半導体装置の製造方法 |
| JP2003045795A (ja) * | 2001-05-10 | 2003-02-14 | Nikon Corp | 光学特性計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法 |
| JP2003007598A (ja) * | 2001-06-25 | 2003-01-10 | Mitsubishi Electric Corp | フォーカスモニタ方法およびフォーカスモニタ用装置ならびに半導体装置の製造方法 |
| JP2003178968A (ja) * | 2001-10-01 | 2003-06-27 | Canon Inc | 収差計測方法及び投影露光装置 |
| WO2003088329A1 (fr) * | 2002-04-17 | 2003-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Reticule et procede de mesure de caracteristique optique |
| JP2003318090A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-07 | Canon Inc | 投影光学系の敏感度計測方法、及びそれを有する投影露光装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008186912A (ja) * | 2007-01-29 | 2008-08-14 | Nikon Corp | 収差評価方法、調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
| JP2008244386A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Canon Inc | 収差計測方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
| US8248580B2 (en) | 2008-05-01 | 2012-08-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning exposure apparatus and method of manufacturing device |
| JP2023036641A (ja) * | 2015-04-21 | 2023-03-14 | ケーエルエー コーポレイション | 計測ターゲット設計の方法、計測モジュール、及び計測ターゲットの製造方法 |
| JP7500694B2 (ja) | 2015-04-21 | 2024-06-17 | ケーエルエー コーポレイション | 計測ターゲット設計の方法、計測モジュール、及び計測ターゲットの製造方法 |
| US12117347B2 (en) | 2015-04-21 | 2024-10-15 | Kla Corporation | Metrology target design for tilted device designs |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20050128447A1 (en) | 2005-06-16 |
| US7495742B2 (en) | 2009-02-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3927774B2 (ja) | 計測方法及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP5219534B2 (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 | |
| JP2004063988A (ja) | 照明光学系、当該照明光学系を有する露光装置及びデバイス製造方法 | |
| CN101002300A (zh) | 光学特性测量装置及方法、曝光装置及方法及组件制造方法 | |
| JP4464166B2 (ja) | 測定装置を搭載した露光装置 | |
| KR20070099470A (ko) | 측정방법 및 장치와, 노광장치 | |
| US8013980B2 (en) | Exposure apparatus equipped with interferometer and exposure apparatus using the same | |
| JP4032501B2 (ja) | 投影光学系の結像特性計測方法及び投影露光装置 | |
| JP2003156832A (ja) | 収差計測用フォトマスク、収差計測方法、収差計測用装置および装置の製造方法 | |
| JP2005175407A (ja) | 計測方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 | |
| JP3870153B2 (ja) | 光学特性の測定方法 | |
| JP2005030963A (ja) | 位置検出方法 | |
| JP4095598B2 (ja) | 二次元波面収差の算出方法 | |
| JP2007180152A (ja) | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 | |
| US7221434B2 (en) | Exposure method and apparatus | |
| JP2008172102A (ja) | 測定方法及び露光装置 | |
| JP4724558B2 (ja) | 測定方法及び装置、露光装置 | |
| JP2006279029A (ja) | 露光方法及び装置 | |
| JP2006080444A (ja) | 測定装置、テストレチクル、露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP3673783B2 (ja) | 収差計測方法及び投影露光装置 | |
| JP3351417B2 (ja) | 露光方法 | |
| JP4835921B2 (ja) | 計測方法、露光方法、デバイス製造方法、及びマスク | |
| JP2876616B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2009200259A (ja) | 測定方法及び測定用レチクル | |
| JP2008124341A (ja) | 露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061212 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061212 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090723 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090908 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091029 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100601 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100802 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101109 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110308 |