JP2005174811A - 荷電粒子光学系における多極場発生装置および収差補正装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 球面収差補正光学系５において、装置の偏向場や４極子場を打ち消しながら、制御パラメータの決定を随時、簡便に行うための補助機能を提供する。
【解決手段】 収差補正光学系５の制御パラメータと偏向場や４極子場を打ち消すためのパラメータを決定する制御装置１４と、制御装置１４からの信号に基づいて収差補正光学系５に電位あるいは磁位を与える電源１３との間に、実時間ｔに対して周波数ｆで振幅を連続的に変化させた信号を付加するように、周期変動回路１５を配置したものである。
【選択図】 図１

Description

本発明は、荷電粒子光学系における多極場発生装置に係り、特に電子顕微鏡の収差補正装置に好適に利用できるものである。

荷電粒子光学系の各種の収差を補正する装置として様々な提案がなされている。例えば、電子顕微鏡の軸対称レンズの球面収差を補正する装置として、６極子場を発生する２つの多極子間に２つの軸対称レンズを配置したものが知られている。図３は、従来の球面収差補正装置を備えた電子顕微鏡の照射系の概略構成を示す図である。なお、図では偏向系や一部集束系等を省略している。光源１からの電子線２は、絞り３を有する集束レンズ４を通り、光軸に平行な電子線が球面収差補正光学系５に入射し、補正光学系５から出射した光軸に平行な電子線が対物レンズ６を通して試料７に照射される。

球面収差補正光学系５は、６極子場を発生する多極子８、９間に軸対称レンズ１０、１１を配置したものである。多極子８、９の各極は相互に光軸に対して位相が一致し、光軸と垂直な面内における光軸を中心とした回転関係をもたないように配置される。軸対称レンズ１０、１１は、焦点距離が同じｆで、多極子８と軸対称レンズ１０との間の距離がｆ、軸対称レンズ１０、１１間の距離が２ｆ、軸対称レンズ１１と多極子９との間の距離がｆ、多極子８、９の励起強度Ｋと光軸方向の幅（サイズ）Ｚがそれぞれ同じであるとき、球面収差が補正される。

多極子８、９の各極およびレンズ１０、１１には、球面収差が適切に補正されるようにするために、所定の電圧ないし電流が電源１３から供給されている。更に、電源１３は、補正に必要な電圧値ないし電流値を決定して電源１３を介して球面収差補正光学系５を制御するための制御装置１４によって制御される。

さて、多極子、例えば６極子を用いた球面収差補正においては、球面収差補正という本来の目的である６極場だけが生成されるようにすることが望ましい。６極子を用いて、６極場を発生させるには、６極子の各極の強度をＩ_ｋ（ｋ＝１，２，３…６）とすると、
Ｉ_ｋ＝Ａ cos（ｋπ） （１）
のように各極の強度を与えれば、任意の強度の６極場を生成できる。ただし、この場合は、位相角は固定である。ここで強度を制御するパラメータはＡである。

しかしながら、実際の装置においては、上式（１）により６極場を発生させるに際しては、装置を構成する多極子の各極などの機械的な工作精度や組み立て精度等によって、偏向場（２極場：像の位置ずれやコマ収差など）や４極場（非点収差）などが付随的に発生してしまう。

従来、このような付随的に発生する不要な収差（偏向場や４極場）の除去は以下のように行われる。まず、目的とする６極場を、上式（１）においてパラメータＡを所望の値に設定して発生させる。その上で、何らかの、収差の検出手段により上記不要な収差（偏向場や４極場）を検出する。その結果に基づいて、上記不要な収差（偏向場や４極場）を打ち消すための偏向場や４極場を式（２）によって意図的に発生させる。

Ｉ_ｋ＋＝Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/３）＋Ｃ_２cos ２(θ_２＋ｋπ/３） （２）
ここで、Ｉ_ｋ＋は、式（１）のＩ_ｋに加算される各極の強度である。すなわち、式（１）に式（２）を加算することによって、式（１）を用いた球面収差補正のための制御に伴って付随的に発生する偏向場や４極場を打ち消すことができる。式（２）右辺のＣ_１、θ_１は偏向場補正のための強度と位相角、Ｃ_２、θ_２は４極場補正のための強度と位相角である。

上記説明は、６極子を用いた６極場であり、６極場の位相角は不変である。実際の装置にあっては、任意の位相角と強度を得るために、例えば１２極子などが用いられる。１２極子の場合、位相角が３０度だけ異なる６極子が同一平面内に２個配置されたと考えることができる。もちろんこの様な１２極子を用いても部品の寸法精度等により、不要な収差（偏向場や４極場）が付随的に発生することは同じである。

特開2003-92078（電子顕微鏡の球面収差補正装置） 特開2003-157785（収差補正装置を備えた荷電粒子線装置）

上記の如く、多極子（例えば１２極子）を用いて、目的とする多極場（例えば６極場）を生成する場合において、部品の加工や組み立ての精度等に起因して付随的な不要な多極場（例えば偏向場や４極場）が発生した場合、上記の式（２）等を用いて不要な多極場を打ち消すのは、一つの方法ではある。しかしながら、何らかの方法で不要な収差（偏向場や４極場）を検出し、更に、式（２）における４つのパラメータＣ_１、θ_１、Ｃ_２、θ_２を正しく決定するのは容易ではない。本発明の目的は前記４つのパラメータを随時、簡便に決定するための補助機能を提供することにある。

前述の課題を解決するために、本発明に係る多極場を生成する装置は、磁気または静電２ｎ極子（ｎ＝1,2,3,…）を用いて２ｎ極場を生成するに際して、２ｎ極子の第ｋ番目の極子の強度Ｉ_ｋ（１≦ｋ≦２ｎ）を、
Ｉ_ｋ＝Ａ（cos（ｋπ）＋Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/ｎ）
＋Ｃ_２cos ２（θ_２＋ｋπ/ｎ）
＋Ｃ_３cos ３（θ_３＋ｋπ/ｎ）
＋ …
＋Ｃ_ｎ−１cos（ｎ−１）（θ_ｎ−１＋ｋπ/ｎ））
なる制御式に基づき、制御パラメータＡ,Ｃ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ−１）で制御し、更に、
Ａ＝Ｂcos（２πｔｆ）
なる実時間ｔに対して周波数ｆでＡを連続的に変化させることを特徴とする。

また、本発明に係る多極場を生成する装置は、磁気または静電２ｎ極子（ｎ＝1,2,3,…）を用いて２ｍ極場（ｍ≦ｎ）を生成するに際して、２ｎ極子の第ｋ番目の極子の強度Ｉ_ｋ（１≦ｋ≦２ｎ）を、
Ｉ_ｋ＝Ａ（cos（ｍｋπ/ｎ）＋Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/ｎ）
＋Ｃ_２cos ２（θ_２＋ｋπ/ｎ）
＋Ｃ_３cos ３（θ_３＋ｋπ/ｎ）
＋ …
＋Ｃ_ｎcos ｎ（θ_ｎ＋ｋπ/ｎ））
なる制御式に基づき、制御パラメータＡ,Ｃ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ、Ｃ_ｍ＝０）で制御する装置において、
Ａ＝Ｂcos（２πｔｆ）
なる実時間ｔに対して周波数ｆでＡを連続的に変化させることを特徴とする。

あるいはまた、本発明に係る電子顕微鏡の球面収差補正装置は、２つの多極子間に２つの軸対称レンズを配置し、前記多極子は磁気または静電６極子であって、６極場を生成する場合、各極の強度Ｉ_ｋ（１≦ｋ≦６）を
Ｉ_ｋ＝Ａ（cos（ｋπ）＋Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/ｎ）
＋Ｃ_２cos ２（θ_２＋ｋπ/ｎ））
なる制御式に基づき、制御パラメータＡ,Ｃ_１,θ_１,Ｃ_２,θ_２で制御するに際して、
Ａ＝Ｂcos（２πｔｆ）
なる実時間ｔに対して周波数ｆでＡを連続的に変化させることを特徴とする。

更に、本発明に係る電子顕微鏡の球面収差補正装置は、２つの多極子間に２つの軸対称レンズを配置し、前記多極子は磁気または静電２ｎ極子（ｎ＝1,2,3,…）であって、６極場を生成する場合、各極の強度Ｉ_ｋ（１≦ｋ≦２ｎ）を
Ｉ_ｋ＝Ａ（cos（３ｋπ/ｎ）＋Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/ｎ）
＋Ｃ_２cos ２（θ_２＋ｋπ/ｎ）
＋Ｃ_４cos ４（θ_４＋ｋπ/ｎ）
＋Ｃ_５cos ５（θ_５＋ｋπ/ｎ）
＋ …
＋Ｃ_ｎcos ｎ（θ_ｎ＋ｋπ/ｎ））
なる制御式に基づき、制御パラメータＡ,Ｃ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ）で制御するに際して、
Ａ＝Ｂcos（２πｔｆ）
なる実時間ｔに対して周波数ｆでＡを連続的に変化させることを特徴とする。

本発明に係る多極場を生成する装置は、２ｎ極子を用いて２ｎ極場を生成するに際して、各極子の強度Ｉ_ｋを制御パラメータＣ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ−１）を調節しながら制御すると共に、制御パラメータＡを実時間ｔに対して周波数ｆで連続的に変化させる機能を持たせたので、２ｎ極場生成に際して付随的に発生する２ｎより低次の不要な場の打ち消し作業を容易に行うことができる。

また、本発明に係る多極場を生成する装置は、２ｎ極子を用いて２ｍ極場を生成するに際して、各極子の強度Ｉ_ｋを制御パラメータＣ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ、Ｃ_ｍ＝０）を調節しながら制御すると共に、制御パラメータＡを実時間ｔに対して周波数ｆで連続的に変化させる機能を持たせたので、２ｍ極場生成に際して付随的に発生する２ｍ場以外の不要な場の打ち消し作業を容易に行うことができる。

あるいはまた、本発明に係る電子顕微鏡の球面収差補正装置は、６極子を用いて６極場を生成する場合、各極の強度Ｉ_ｋを制御パラメータＣ_１,θ_１,Ｃ_２,θ_２を調節しながら制御すると共に、制御パラメータＡを実時間ｔに対して周波数ｆで連続的に変化させる機能を持たせたので、６極場生成に際して付随的に発生する６次より低次の不要な場の打ち消し作業を容易に行うことができる。

更に、本発明に係る電子顕微鏡の球面収差補正装置は、２ｎ極子を用いて６極場を生成する場合、各極の強度Ｉ_ｋを制御パラメータＣ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ）を調節しながら制御すると共に、制御パラメータＡを実時間ｔに対して周波数ｆで連続的に変化させる機能を持たせたので、６極場生成に際して付随的に発生する６極場以外の不要な場の打ち消し作業を容易に行うことができる。

以下、本発明の実施の形態について、図１、図２を参照しながら説明する。

図１は本発明による電子顕微鏡の球面収差補正装置の実施の形態を説明する図であり、図３と同一番号は同一内容を示している。図１においては、更に、周期変動回路１５が、制御装置１４と電源１３との間に追加されている。

上記の図３を用いた説明では、１は光源、４は集束レンズ、６は対物レンズ、７は試料として電子顕微鏡の照射系の球面収差補正装置について説明したが、上記球面収差補正装置は電子顕微鏡の結像系の球面収差補正装置としても有効である。即ち、図３において、１を試料、４を結像系の対物レンズ、６を結像系の最初の中間レンズ、７を最初の中間レンズ６で形成される像面とすれば、結像系の球面収差補正装置として同様に動作することが説明できる。従って、このことは、図１においても同様である。以下に本件発明の球面収差補正装置の電子顕微鏡への適用例を図２を用いて説明する。

図２は電子顕微鏡において、本件発明の球面収差補正装置を用いる場合を説明する図である。２１は電子ビームを発生させ所望のエネルギーを与える電子銃、２２は電子ビームを集束するための複数のレンズから成る集束レンズ、２３は電子ビームを二次元的に偏向・走査する偏向器、２４は電子ビームを試料２５に照射するための対物レンズである。これら２１から２４までで構成された電子光学系を照射系と呼ぶ。

この照射系において、電子ビームを試料２５に照射する形態には幾つかの使われ方がある。第１は電子ビームを細く集束して試料２５上の所望の位置に照射する方法、第２は細く集束したて電子ビームを偏向器２３を用いて試料２５上の所望の領域を二次元的に走査しながら照射する方法、第３は、電子ビームを細く集束したり走査はせずに、試料２５上の所望の領域に一様な電子ビーム（所望の領域と等しい太さの電子ビーム）を照射する方法などである。

また、上記第２の方法において、電子ビーム照射に伴って試料２５から発生する二次電子等を検出する検出器３１からの信号を増幅等の処理した上で、前記偏向器２３の偏向信号に同期したＣＲＴ等の表示装置３２に入力して、走査電子顕微鏡像（ＳＥＭ像）を観察することができる。

更に図２において、２６は、例えば上記第３の方法で電子ビームを試料２５に照射し、試料２５を透過した電子ビームの透過像を拡大するための対物レンズ、２７は対物レンズ２６で拡大された透過像を更に拡大するための複数のレンズから成る中間レンズ、２８は拡大された透過像を蛍光スクリーン２９上に投影するための投影レンズである。これら２６から２９までで構成された電子光学系を結像系と呼ぶ。また、これら電子銃２１以下は全て真空雰囲気中に配置されている。なお、上記は説明の都合で、対物レンズは２４と２６の２個から成るかのように説明したが、通常１個のレンズで対物レンズ２４と対物レンズ２６の２つの働きができるようになっている。

また、図示しないが、透過像（ＴＥＭ像）は、蛍光スクリーン２９に替えてＣＣＤ等の二次元の像検出器を蛍光スクリーン２９の位置に配置して、検出器信号を用いて前記表示装置３２に入力して観察することもできる。同じく図示しないが、蛍光スクリーン２９に替えてその近傍に透過電子を検出する検出器を配置して、前記第２の方法を用いて、電子ビーム照射に伴って試料２５を透過する透過電子を検出し、その信号を増幅等の処理した上で、前記偏向器２３の偏向信号に同期したＣＲＴ等の表示装置３２に入力して、走査透過電子顕微鏡像（ＳＴＥＭ像）を観察することができる。

また更に図２において、３０は本件発明の球面収差補正装置５を照射系に適用した場合の球面収差補正装置であり、４０は本件発明の球面収差補正装置５を結像系に適用した場合の球面収差補正装置である。そして、球面収差補正装置３０は照射系の第１と第２の照射方法において、集束した電子ビームの収差を補正してより微小な電子プローブを得るものであり、球面収差補正装置４０は照射系の第３の照射方法において、結像系の対物レンズ２６の収差を補正してより高分解能な拡大像を得るものである。

以上の如き電子顕微鏡における、周期変動回路１５を追加した球面収差補正装置の動作原理と動作について詳しく説明する。ここでは、説明を単純にするために、本発明を磁気６極子を用いた６極場の生成に適用した場合について説明する。

磁気６極子の各極に与える電流Ｉ_ｋ（1＜ｋ≦6）は次式（３）のように表せる。

Ｉ_ｋ＝Ａ(cos(ｋπ)＋Ｃ_１cos(θ_１＋ｋπ/３)＋Ｃ_２cos２(θ_２＋ｋπ/３)）
（３）
なお、この場合、６極子を用いた６極場の生成であるから、場の強さは制御できるが、上式の場合は、場の位相角は不変である。ここで、係数Ａは、球面収差補正装置が球面収差を補正するために生成する６極場の強であり、Ｃ_１、θ_１、Ｃ_２、θ_２は６極子の機械的な精度等に起因して付随的に発生する偏向場や４極子場を打ち消すための係数である。係数Ｃ_１、Ｃ_２は、装置の偏向場や４極子場を打ち消すに足る値であって正負の範囲で可変でき、係数θ_１、θ_２は３６０度可変であって、表示される像の画面上の方向と係数θ_１、θ_２の方向とが対応できるように、予め表示と係数の基準角を一致するよう設定しておく。

更に、周期変動回路１５においては、時間をｔ（sec）、毎秒当たりの変動回数（周波数）をｆ（例えば、ｆ＝５(Hz））としたとき、係数Ａを次式（４）のように、周期的に変動させる。

Ａ＝Ｂcos(２πｔｆ) （４）
球面収差補正装置を組み込んだ前記の如き電子顕微鏡において、上式（４）に基づいて係数Ａを周期的に変動させながら、前記第２の方法でＳＥＭ像あるいはＳＴＥＭ像を、前記第３の方法でＴＥＭ像を装置の操作者が観察する。

このとき、もし観察している像が３回の対称性を保ちながら変化するなら、補正装置を含む光学系において６極場のみが生成していることになる。また、観察している像が３回の対称に加えて平行移動するなら偏向場があり、３回の対称に加えて２回の対称の変化をするなら４極場があることが分かる。この様な動的な画像の変化は、定量的ではないけれども、人間の観察者には容易に識別することができる。

そこで、像の観察者でもある装置の操作者は、上記の式（４）に伴って変動する像を観察しながら、制御装置１４を介して係数Ｃ_１、θ_１、Ｃ_２、θ_２を適宜調整して、像が３回の対称性を保ちながら変化し、平行移動や２回対称の変化をしないようにすればよい。

具体的には、周期変動回路１５を動作させながら、まず、係数Ｃ_１、Ｃ_２をゼロにして像を観察し像が平行移動する方向を見いだし、係数θ_１をその方向に合わせる。その上で係数Ｃ_１を調節して平行移動しないようにする。これで、偏向場が打ち消されたことになる。次に同様に、像が２回対称の変化をする方向を見いだし、係数θ_２をその方向に合わせる。その上で係数Ｃ_２を調節して２回対称の変化をしないようにする。これで、２回対称の場が打ち消されたことになる。実際の操作においては、上記を何度か繰りかえようにして、偏向場と４極場とを十分に打ち消すようにする。また、この操作中に、係数Ｂを調節して平行移動や２回対称の変化が見易くなるようにするとよい。変動回数ｆについても調節すると見易くなる場合がある。

以上の如くして、偏向場と４極場とを十分に打ち消した後に、球面収差補正装置本来の操作である係数Ａの調節を行うことになる。また、上記は、説明の都合で、場の位相角が固定である６極子で説明したが、例えば１２極子を用いた場合であっても、本質的な考え方は同じである。

更に、上記説明は、目的の６極場に対して、それより次数の低い偏向場（２極場）と４極場とを打ち消す場合であったが、一般には、２ｎ極子を用いた２ｍ極場（ｍ≦ｎ）の生成において、目的とする２ｍ極場以外に付随的に発生する任意の多極場の打ち消しに応用できることは容易に理解できる。例えば、１２極子を用いた４極場の生成であって、偏向場（２極場）および６極場の打ち消しなどである。

そこで、式（３）を一般化すれば、２ｎ極子(ｎ=1,2,3,…)を用いた２ｍ極場（ｍ≦ｎ）の生成において、第ｋ極の強度は、
Ｉ_ｋ＝Ａ(cos ｍ(ｋπ/ｎ)
＋Ｃ_１cos(θ_１＋ｋπ/ｎ)
＋Ｃ_２cos２(θ_２＋ｋπ/ｎ)
＋Ｃ_３cos３(θ_３＋ｋπ/ｎ)
…
＋Ｃ_ｎcos ｎ(θ_ｎ＋ｋπ/ｎ)
−Ｃ_ｍcos ｍ(θ_ｍ＋ｋπ/ｎ)） （５）
である。なお、上式中最後のマイナスの項は、式中の第ｍ項の値を打ち消してゼロとするためであって、Ｃ_ｍ＝０とした場合と同意である。

以上、磁気６極子による収差補正装置を組み込んだ電子顕微鏡を例に説明したが、本発明は、ビームを極限まで細く集束したり超高分解能で像を観察するために収差補正装置を組み込んだイオンビームを含む様々な荷電粒子ビーム応用装置に適用することができる。例えば、特許文献２に示す４段の４極子と４段の８極子とを組み合わせた収差補正装置を組み込んだ走査電子顕微鏡等である。

本発明による電子顕微鏡の球面収差補正装置を説明する図である。 本発明による球面収差補正装置を電子顕微鏡に適用する例を説明する図である。 従来の球面収差補正方法を説明する電子顕微鏡の照射系の概略構成を示す図である。

符号の説明

１…光源、２…電子線、３…絞り、４…集束レンズ、
５…球面収差補正光学系、６…対物レンズ、７…試料、
８，９…多極子、１０，１１…軸対称レンズ、
１３…電源、１４…制御装置、１５…周期変動回路、
２１…電子銃、２２…集束レンズ、２３…偏向器、２４…対物レンズ、
２５…試料、２６…対物レンズ、２７…中間レンズ、２８…投影レンズ、
２９…蛍光スクリーン、３１…検出器、３２…表示装置、
３０、４０…球面収差補正

Claims (4)

1. 磁気または静電２ｎ極子（ｎ＝1,2,3,…）を用いて２ｎ極場を生成する装置において、２ｎ極子の第ｋ番目の極子の強度Ｉ_ｋ（１≦ｋ≦２ｎ）を、
   Ｉ_ｋ＝Ａ（cos（ｋπ）＋Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/ｎ）
   ＋Ｃ_２cos ２（θ_２＋ｋπ/ｎ）
   ＋Ｃ_３cos ３（θ_３＋ｋπ/ｎ）
   ＋ …
   ＋Ｃ_ｎ−１cos（ｎ−１）（θ_ｎ−１＋ｋπ/ｎ））
   なる制御式に基づき、制御パラメータＡ,Ｃ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ−１）で制御し、更に、
   Ａ＝Ｂcos（２πｔｆ）
   なる実時間ｔに対して周波数ｆでＡを連続的に変化させることを特徴とする２ｎ極場を生成する装置。
2. 磁気または静電２ｎ極子（ｎ＝1,2,3,…）を用いて２ｍ極場（ｍ≦ｎ）を生成する装置において、２ｎ極子の第ｋ番目の極子の強度Ｉ_ｋ（１≦ｋ≦２ｎ）を、
   Ｉ_ｋ＝Ａ（cos（ｍｋπ/ｎ）＋Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/ｎ）
   ＋Ｃ_２cos ２（θ_２＋ｋπ/ｎ）
   ＋Ｃ_３cos ３（θ_３＋ｋπ/ｎ）
   ＋ …
   ＋Ｃ_ｎcos ｎ（θ_ｎ＋ｋπ/ｎ））
   なる制御式に基づき、制御パラメータＡ,Ｃ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ、Ｃ_ｍ＝０）で制御する装置において、
   Ａ＝Ｂcos（２πｔｆ）
   なる実時間ｔに対して周波数ｆでＡを連続的に変化させることを特徴とする２ｍ極場を生成する装置。
3. ２つの多極子間に２つの軸対称レンズを配置した電子顕微鏡の球面収差補正装置において、
   前記多極子は磁気または静電６極子であって、６極場を生成する場合、各極の強度Ｉ_ｋ（１≦ｋ≦６）を
   Ｉ_ｋ＝Ａ（cos（ｋπ）＋Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/ｎ）
   ＋Ｃ_２cos ２（θ_２＋ｋπ/ｎ））
   なる制御式に基づき、制御パラメータＡ,Ｃ_１,θ_１,Ｃ_２,θ_２で制御するに際して、
   Ａ＝Ｂcos（２πｔｆ）
   なる実時間ｔに対して周波数ｆでＡを連続的に変化させることを特徴とする電子顕微鏡の球面収差補正装置。
4. ２つの多極子間に２つの軸対称レンズを配置した電子顕微鏡の球面収差補正装置において、
   前記多極子は磁気または静電２ｎ極子（ｎ＝1,2,3,…）であって、６極場を生成する場合、各極の強度Ｉ_ｋ（１≦ｋ≦２ｎ）を
   Ｉ_ｋ＝Ａ（cos（３ｋπ/ｎ）＋Ｃ_１cos（θ_１＋ｋπ/ｎ）
   ＋Ｃ_２cos ２（θ_２＋ｋπ/ｎ）
   ＋Ｃ_４cos ４（θ_４＋ｋπ/ｎ）
   ＋Ｃ_５cos ５（θ_５＋ｋπ/ｎ）
   ＋ …
   ＋Ｃ_ｎcos ｎ（θ_ｎ＋ｋπ/ｎ））
   なる制御式に基づき、制御パラメータＡ,Ｃ_ｊ,θ_ｊ（１≦ｊ≦ｎ）で制御するに際して、
   Ａ＝Ｂcos（２πｔｆ）
   なる実時間ｔに対して周波数ｆでＡを連続的に変化させることを特徴とする電子顕微鏡の球面収差補正装置。
   
   

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