JP2005170899A - 1−ハロゲノ−2−アルコキシナフタレン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
1−ハロゲノ−2−アルコキシナフタレン誘導体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005170899A JP2005170899A JP2003416362A JP2003416362A JP2005170899A JP 2005170899 A JP2005170899 A JP 2005170899A JP 2003416362 A JP2003416362 A JP 2003416362A JP 2003416362 A JP2003416362 A JP 2003416362A JP 2005170899 A JP2005170899 A JP 2005170899A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- substituted
- present
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
すなわち本発明は一般式(1)
すなわち、一般式(4)
A1は
(a) トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する1個のCH2基または隣接していない2個のCH2基はOおよび/またはSに置換されてもよい)
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個または2個以上のCH基はNに置換されてもよい)
(c) 1,4-ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン-1,4-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基および1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基
からなる群より選ばれる基であり、上記の基(a)、基(b)、基(c)はCN、FまたはClで置換されていてもよく、
Z1は-CH2CH2-、-CH(CH3)CH2-、-CH2CH(CH3)-、-CH(CH3)CH(CH3)-、-CF2CF2-、-CH2O-、-OCH2-、-OCH(CH3)-、-CH(CH3)O-、-(CH2)4-、-(CH2)3O-、-O(CH2)3-、-CF2O-、-OCF2-または単結合を表し、
aは0、1、2または3を表し、
L1 、L2およびL3はそれぞれ独立的にフッ素原子、塩素原子または水素原子を表す。)
で表されるテトラヒドロナフタレノン誘導体に一般式(2)で表されるアルコール誘導体およびハロゲン化剤を作用させることによる一般式(5)
(実施例1)1-ブロモ-2-メトキシ-5,6,7-トリフルオロナフタレンの合成
MS m/z
290, 292 (M+)
融点
122.5 123℃
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)δ:
4.05 (s, 3 H), 7.30 (d, J = 8.4 Hz, 1 H), 7.75 7.85 (m, 1 H), 8.02(d, J = 9.2 Hz, 1 H)
(比較例1)1-ブロモ-2-メトキシ-5,6,7-トリフルオロナフタレンの合成
6-メトキシ-2-ナフトールのアセトニトリル溶液に室温でF-TEDA-BF4(1-クロロメチル-4-フルオロ-1,4-ジアゾニウムビシクロ[2,2,2]オクタンビス(テトラフルオロボレート)、AIR PRODUCTS製)を3回に分けて15分おきに加えた。室温で5時間撹拌した後、反応混合物を氷水に加え、10%水酸化ナトリウム水溶液で中和しトルエンで抽出した。有機層を水洗した後、溶媒を減圧留去して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、1,1-ジフルオロ-6-メトキシ-1H-ナフタレン-2-オンを得た。
1,1-ジフルオロ-6-メトキシ-1H-ナフタレン-2-オンのTHF(テトラヒドロフラン)溶液にDAST(ジエチルアミノ三フッ化ほう素)を加え、50℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に加え、10%炭酸水素ナトリウム水溶液で中和しヘキサンで抽出した。有機層を水洗した後、溶媒を減圧留去して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、6-メトキシ-1,1,2,2-テトラフルオロ-1,2-ジヒドロナフタレンを得た。
6-メトキシ-1,1,2,2-テトラフルオロ-1,2-ジヒドロナフタレンの酢酸エチル溶液をオートクレーブに加え、5%パラジウム炭素(50%含水品)、トリエチルアミン、シリカゲルを加え水素圧0.4 MPaで3時間撹拌した。反応混合物をセライトろ過し、ろ液から溶媒を減圧留去して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、6-メトキシ-1,1,2,2-テトラフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレンを得た。
6-メトキシ-1,1,2,2-テトラフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレンのTHF溶液に氷冷下、カリウム-t-ブトキシドを加えた後昇温し、室温で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に加え、10%炭酸水素ナトリウム水溶液で中和しヘキサンで抽出した。有機層を水洗した後、溶媒を留去して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、1,2-ジフルオロ-6-メトキシナフタレンを得た。
1,2-ジフルオロ-6-メトキシナフタレンをTHF/トルエン混合溶媒に溶解し、-40℃に冷却してブチルリチウム(1.5 Mヘキサン溶液)をゆっくり滴下した。-40度で1時間撹拌後ACCUFLOR NFSi(N-フルオロベンゼンスルフィンイミド、AlliedSignal製)を加えた後、室温まで徐々に昇温し室温で8時間撹拌した。反応混合物を氷水に加え、ヘキサン抽出した。有機層を水洗した後、溶媒を留去して得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、6-メトキシ-1,2,3-トリフルオロナフタレンを得た。
6-メトキシ-1,2,3-トリフルオロナフタレンを1,2-ジクロロエタンに溶解し、鉄粉を加えて氷冷した。そこへ臭素の1,2-ジクロロエタン溶液を30分かけて滴下し、さらに1時間撹拌した。反応混合物を10%塩酸にあけて30分撹拌した後、亜硫酸水素ナトリウムを加えてさらに30分撹拌した。有機層を分取し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減圧留去した。得られた固体をカラムクロマトグラフィーで精製し、1-ブロモ-2-メトキシ-5,6,7-トリフルオロナフタレンを得た。
実施例1と同様な条件下、5,6,7-トリフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オンの代わりに7,8-ジフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オンを用いて1-ブロモ-2-メトキシ-7,8-ジフルオロナフタレンを得た。
Claims (14)
- ハロゲン化剤が臭素であり、請求項1における一般式(2)および一般式(3)において、R1が炭素数1〜7のアルキル基であり、X1がBrである請求項1記載の方法。
- 一般式(4)
A1は
(a) トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する1個のCH2基または隣接していない2個のCH2基はOおよび/またはSに置換されてもよい)
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個または2個以上のCH基はNに置換されてもよい)
(c) 1,4-ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン-1,4-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基および1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基
からなる群より選ばれる基であり、上記の基(a)、基(b)、基(c)はCN、FまたはClで置換されていてもよく、
Z1は-CH2CH2-、-CH(CH3)CH2-、-CH2CH(CH3)-、-CH(CH3)CH(CH3)-、-CF2CF2-、-CH2O-、-OCH2-、-OCH(CH3)-、-CH(CH3)O-、-(CH2)4-、-(CH2)3O-、-O(CH2)3-、-CF2O-、-OCF2-または単結合を表し、
aは0、1、2または3を表し、
L1 、L2およびL3はそれぞれ独立的にフッ素原子、塩素原子または水素原子を表す。)
で表されるテトラヒドロナフタレノン誘導体に一般式(2)
- 一般式(2)、一般式(4)および一般式(5)において、R1が炭素数1〜7のアルキル基であり、R2がフッ素原子、塩素原子、水素原子または炭素数1〜7のアルキル基(この基中に存在する1個のCH2基はOに置換されてもよく、またこの基中に存在する1個または2個以上の水素原子はFまたはClに置換されてもよい。)であり、A1がトランス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-ビシクロ[2.2.2]オクチレン基または1,4-フェニレン基(FまたはClで置換されていてもよい。)であり、aが0、1または2であり、Z1が-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-または単結合であり、X1がBrである請求項3記載の製造方法。
- 一般式(2)、一般式(4)および一般式(5)において、R1が炭素数1〜7のアルキル基であり、R2がフッ素原子、塩素原子または水素原子であり、aが0であり、X1がBrである請求項3記載の製造方法。
- ハロゲン化剤として、臭素を用いる請求項3から5の何れかに記載の製造方法。
- 溶媒の使用量が一般式(4)で表される化合物の質量の1〜50倍である請求項3から5の何れかに記載の製造方法。
- 反応溶媒として、ジクロロメタンまたは1,2-ジクロロエタンを用いる請求項3から5の何れかに記載の製造方法。
- 反応温度が-20℃〜50℃である請求項3〜5記載の製造方法。
- 使用するハロゲン化剤の量が、一般式(4)で表される化合物の0.5〜5モル等量である請求項3から5の何れかに記載の製造方法。
- 使用する一般式(2)で表される化合物の量が、一般式(4)で表される化合物の0.5〜10モル等量である請求項3から5の何れかに記載の製造方法。
- 一般式(5)
A1は
(a) トランス-1,4-シクロへキシレン基(この基中に存在する1個のCH2基または隣接していない2個のCH2基はOおよび/またはSに置換されてもよい)
(b) 1,4-フェニレン基(この基中に存在する1個または2個以上のCH基はNに置換されてもよい)
(c) 1,4-ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン-1,4-ジイル基、ナフタレン-2,6-ジイル基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基および1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基
からなる群より選ばれる基であり、上記の基(a)、基(b)、基(c)はCN、FまたはClで置換されていてもよく、
Z1は-CH2CH2-、-CH(CH3)CH2-、-CH2CH(CH3)-、-CH(CH3)CH(CH3)-、-CF2CF2-、-CH2O-、-OCH2-、-OCH(CH3)-、-CH(CH3)O-、-(CH2)4-、-(CH2)3O-、-O(CH2)3-、-CF2O-、-OCF2-または単結合を表し、
aは0、1、2または3を表し、
L1 、L2およびL3はそれぞれ独立的にフッ素原子、塩素原子または水素原子を表す。)で表される1-ハロゲノ-2-アルコキシナフタレン誘導体。 - 一般式(5)において、R1が炭素数1〜7のアルキル基であり、R2がフッ素原子、塩素原子、水素原子または炭素数1〜7のアルキル基(この基中に存在する1個のCH2基はOに置換されてもよく、またこの基中に存在する1個または2個以上の水素原子はFまたはClに置換されてもよい。)であり、A1がトランス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-ビシクロ[2.2.2]オクチレン基または1,4-フェニレン基(FまたはClで置換されていてもよい。)であり、aが0、1または2であり、Z1が-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-または単結合であり、X1がBrである請求項12記載の化合物。
- 一般式(5)において、R1が炭素数1〜7のアルキル基であり、R2がフッ素原子、塩素原子または水素原子であり、aが0であり、X1がBrである請求項12記載の化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003416362A JP4496770B2 (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 1−ハロゲノ−2−アルコキシナフタレン誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003416362A JP4496770B2 (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 1−ハロゲノ−2−アルコキシナフタレン誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005170899A true JP2005170899A (ja) | 2005-06-30 |
JP4496770B2 JP4496770B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=34735574
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003416362A Expired - Fee Related JP4496770B2 (ja) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | 1−ハロゲノ−2−アルコキシナフタレン誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4496770B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010083782A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Dic Corp | 2−ナフトール誘導体の製造方法 |
JP2010248144A (ja) * | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Sagami Chemical Research Institute | 2−(2,3−ジフルオロ−6−ビニルフェニル)酢酸誘導体及びその製造方法 |
JP2010248145A (ja) * | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Sagami Chemical Research Institute | 2−アシロキシ−1,7,8−トリフルオロナフタレン誘導体及びその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4820545B1 (ja) * | 1968-07-30 | 1973-06-21 | ||
WO1993013046A1 (en) * | 1991-12-27 | 1993-07-08 | Kunichem, Inc. | Stereo-selective synthesis of 2-aryl-propionic acids of high optical purity by using chiral oxazolines |
JP2001010995A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-16 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液晶中間体及び製造方法 |
WO2001007386A2 (en) * | 1999-07-21 | 2001-02-01 | 1428388 Ontario Limited | Asymmetric ligands having use as catalysts |
-
2003
- 2003-12-15 JP JP2003416362A patent/JP4496770B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4820545B1 (ja) * | 1968-07-30 | 1973-06-21 | ||
WO1993013046A1 (en) * | 1991-12-27 | 1993-07-08 | Kunichem, Inc. | Stereo-selective synthesis of 2-aryl-propionic acids of high optical purity by using chiral oxazolines |
JP2001010995A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-16 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液晶中間体及び製造方法 |
WO2001007386A2 (en) * | 1999-07-21 | 2001-02-01 | 1428388 Ontario Limited | Asymmetric ligands having use as catalysts |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010083782A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Dic Corp | 2−ナフトール誘導体の製造方法 |
JP2010248144A (ja) * | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Sagami Chemical Research Institute | 2−(2,3−ジフルオロ−6−ビニルフェニル)酢酸誘導体及びその製造方法 |
JP2010248145A (ja) * | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Sagami Chemical Research Institute | 2−アシロキシ−1,7,8−トリフルオロナフタレン誘導体及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4496770B2 (ja) | 2010-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20150122079A (ko) | 4,6-다이플루오로다이벤조티오펜 유도체 | |
JP2008303214A (ja) | Cf2oブリッジを有する化合物の製造方法 | |
JP2004538244A (ja) | 環状フッ素化カルボン酸オルトエステルおよび相応する化合物を合成するための方法 | |
WO2004029015A1 (ja) | 1,7,8−トリフルオロ−2−ナフトール及びこれを用いた液晶化合物の製造方法 | |
JP2007176818A (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
JP4496770B2 (ja) | 1−ハロゲノ−2−アルコキシナフタレン誘導体およびその製造方法 | |
JP2007119423A (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体の製造方法 | |
JP2011046648A (ja) | ジフルオロベンゼン誘導体及びこれを含有する液晶組成物。 | |
JP4461791B2 (ja) | 1−フルオロ−2−ナフトール誘導体の製造方法 | |
JP5093829B2 (ja) | 液晶中間体及び製造方法 | |
JP3632702B2 (ja) | 1,7,8−トリフルオロ−2−ナフトール及びこれを用いた液晶化合物の製造方法 | |
JP4894226B2 (ja) | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 | |
JP4941801B2 (ja) | トリフルオロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物と表示素子及び液晶性化合物、その製造法と製造中間体 | |
JP2002284768A (ja) | フェニルピリミジン誘導体の製造方法 | |
JP5584444B2 (ja) | 1,2−ジシクロヘキシルテトラフルオロエチレン骨格を有する化合物およびその製造方法 | |
JP2010248138A (ja) | オクタフルオロブチレン構造を有する化合物およびその製造方法 | |
JP5458787B2 (ja) | フェノールの製造方法 | |
JP4655197B2 (ja) | ジフルオロクロマン誘導体 | |
JP5061466B2 (ja) | ハイドロキノン骨格を有する含フッ素液晶化合物の製造方法 | |
JPH1025261A (ja) | フェノール誘導体の製造方法 | |
TWI332494B (en) | Process for the preparation of naphthalene derivatives | |
JP2006063049A (ja) | フェニルシクロヘキセン誘導体またはスチレン誘導体の製造方法 | |
JP4329306B2 (ja) | ベンゾニトリル誘導体及びその製造方法 | |
JP4524556B2 (ja) | 2−ナフトール誘導体の製造方法 | |
JP4300450B2 (ja) | ベンゾニトリル誘導体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050907 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090806 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091002 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100323 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100405 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |