JP2005162787A - 樹脂組成物およびそれを用いた基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シアネート樹脂と、たとえばシリカ等の球状の第一の充填材と、たとえば焼成タルク等の板状または繊維状の第二の充填材と、を含む樹脂組成物が提供される。ここで、充填材の含有量は、樹脂組成物全体の40重量%以下とする。第一および第二の充填材の少なくともいずれか一方の線膨張係数が1ppm/℃以下である。また前記第1および第二の充填材として、線膨張係数が5ppm/℃以下の材料を用いた組成物が好ましい。該樹脂組成物は硬化させて、厚さ方向の線膨張係数が35ppm/℃以下の基板となる。
【選択図】なし
Description
本発明の樹脂組成物は、シアネート樹脂および充填材を含む。本発明の基板は、たとえば、樹脂組成物を基材に含浸させて形成されたプリプレグに金属箔を積層して形成される。
本実施の形態において、樹脂組成物は、シアネート樹脂および/またはそのプレポリマーを含む。このような樹脂組成物を用いてプリント配線板等の基板を作製した場合に、基板を高耐熱かつ低熱膨張とすることができる。
本実施の形態のプリプレグは、上記樹脂組成物を基材に含浸して構成される。これにより、成形性に優れたプリプレグを得ることができる。
本実施の形態のプリント配線板は、上記のプリプレグの片面または両面に金属箔を積層して加熱加圧成形してなるものである。これにより、耐熱性、低膨張性および難燃性に優れた積層板を得ることができる。プリプレグ1枚のときは、その上下両面もしくは片面に金属箔を重ねる。また、プリプレグを2枚以上積層することもできる。プリプレグを2枚以上積層するときは、積層したプリプレグの最も外側の上下両面もしくは片面に金属箔あるいはフィルムを重ねる。次に、プリプレグと金属箔とを重ねたものを加熱加圧成形することで積層板を得ることができる。前記加熱する温度は、とくに限定されないが、120〜220℃が好ましく、とくに150〜200℃が好ましい。前記加圧する圧力は、とくに限定されないが、1.5〜5MPaが好ましく、とくに2〜4MPaが好ましい。 また、必要に応じて高温槽等で150〜300℃の温度で後硬化を行ってもかまわない。前記金属箔を構成する金属としては、たとえば銅または銅系合金、アルミまたはアルミ系合金等を挙げることができる。金属箔の厚さは、3〜70μmとすることができる。
(1)樹脂ワニスの調製
シアネート樹脂として、ノボラック型シアネート樹脂(ロンザジャパン株式会社製、プリマセットPT−30、重量平均分子量1,300)32.5重量部;
吸湿性の低い樹脂として、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製、NC−3000SH)18.4重量部;
硬化触媒として、ビフェニルジメチレン型フェノール樹脂(明和化成株式会社製、MEH−7851−3H)14.1重量部;
エポキシシラン型カップリング剤(日本ユニカー株式会社製、A−187)0.2重量部;
第一の充填材として、平均粒径0.5μmの球状溶融シリカ(株式会社アドマテックス社製、SO−25H)10重量部;および、
第二の充填材として、焼成タルク(富士タルク工業株式会社製、ST−100)25重量部;
を添加し、メチルエチルケトンに常温で溶解し、高速攪拌機で10分間攪拌して樹脂ワニスを得た。
上述の樹脂ワニスをガラス繊維基材(厚さ90μm、日東紡績製、WEA−2116)に含浸し、120℃の加熱炉で2分乾燥してワニス固形分(プリプレグ中の樹脂とシリカの占める成分)が約50%のプリプレグを得た。
(3)積層板の作製
上述のプリプレグを所定枚数重ね、両面に銅箔(古河サーキットホイル社製、GTS−MP、厚さ18μm)を重ねて、圧力4MPa、温度200℃で2時間加熱加圧成形することによって、厚さ0.4mmの両面銅張り積層板を得た。
(a)ドリル加工性
得られた銅張り積層板を2枚重ね、0.3mmピッチでドリル加工を行った。ドリル径は、150μmφ(九州住電精密株式会社製、PQF015)を用いた。ドリルの磨耗性については、2,000ヒット後のドリル先端の磨耗量を相対比(実施例1を1とした)として求めた。ドリルの加工状態については、ドリル孔の断面サンプルを蛍光浸透液(マークテック社製、OD−2800N)に浸漬後、蛍光顕微鏡で観察し、蛍光浸透液の染み込み量が15μm未満のものを○、15μm以上30μm未満のものを△、30μm以上のものを×とした。
得られた銅張り積層板の銅箔をエッチングし、5×5mmのテストピースを切り出し、TMA(TAインスツルメント社製 TMA2940)を用いて厚さ方向の熱膨張係数を昇温速度10℃/分で測定した。
得られた銅張り積層板の銅箔をエッチングし、10×60mmのテストピースを切り出し、DMA(TAインスツルメント社製 DMA983)を用いて5℃/分で昇温したときのtanδのピーク位置をガラス転移点とした。
得られた銅張り積層板の銅箔をエッチングし、25.4×50mmのテストピースを切り出し、テンシロン(オリエンテック製 テンシロンUTA-25KN)を用いて曲げ弾性率を測定した。試験速度は、0.5mm/分で行った。
得られた銅張り積層板の銅箔をエッチングし、その表面硬度をバーコール硬度計(コールマン社製、GYZJ934.1)を用いて測定した。
充填材として焼成タルクにかえて、タルク(富士タルク工業株式会社製、LMP)25重量部を用いた以外は、実施例1と同様に行った。
充填材として、平均粒径0.5μmの球状溶融シリカ35重量部を用いた以外は、実施例1と同様に行った。
充填材として、焼成タルク35重量部を用いた以外は、実施例1と同様に行った。
シアネート樹脂として、ノボラック型シアネート樹脂25重量部;
吸湿性の低い樹脂として、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂14.2重量部;
硬化触媒として、ビフェニルジメチレン型フェノール樹脂10.8重量部;
エポキシシラン型カップリング剤0.3重量部;
第一の充填材として、平均粒径0.5μmの球状溶融シリカ25重量部;および、
第二の充填材として、焼成タルク25重量部を用いた以外は、実施例1と同様に行った。
シアネート樹脂として、ノボラック型シアネート樹脂20重量部;
吸湿性の低い樹脂として、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂11.3重量部;
硬化触媒として、ビフェニルジメチレン型フェノール樹脂8.7重量部;
エポキシシラン型カップリング剤0.3重量部;
第一の充填材として、平均粒径0.5μmの球状溶融シリカ10重量部;および、
第二の充填材として、焼成タルク50重量部を用いた以外は、実施例1と同様に行った。
シアネート樹脂として、ノボラック型シアネート樹脂20重量部;
吸湿性の低い樹脂として、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂11.3重量部;
硬化触媒として、ビフェニルジメチレン型フェノール樹脂8.7重量部;
エポキシシラン型カップリング剤0.3重量部;および、
充填材として、平均粒径0.5μmの球状溶融シリカ60重量部を用いた以外は、実施例1と同様に行った。
シアネート樹脂として、ノボラック型シアネート樹脂20重量部;
吸湿性の低い樹脂として、ビフェニルジメチレン型エポキシ樹脂11.3重量部;
硬化触媒として、ビフェニルジメチレン型フェノール樹脂8.7重量部;
エポキシシラン型カップリング剤0.3重量部;および、
充填材として、タルク60重量部を用いた以外は、実施例1と同様に行った。
実施例1および実施例2で作製した積層板においては、ドリルの摩耗も低減でき、蛍光蛍光浸透液の染み込みも少なく、ドリル加工性が良好であった。また、厚さ方向の線膨張係数が35ppm/℃以下と良好であった。これらの例において得られた積層板の弾性率は23GPa以下、バーコール硬度が75以下であり、このように弾性率またはバーコール硬度を所定の範囲としたことにより、ドリル加工性を良好にすることができたと考えられる。
Claims (11)
- シアネート樹脂と、充填材とを含む樹脂組成物であって、
前記充填材は、球状の第一の充填材と、板状または繊維状の第二の充填材と、を含む樹脂組成物。 - 請求項1に記載の樹脂組成物において、
前記充填材の含有量が、樹脂組成物全体の40重量%以下である樹脂組成物。 - 請求項1または2に記載の樹脂組成物において、
前記第一の充填材および前記第二の充填材の少なくともいずれか一方の線膨張係数が1ppm/℃以下である樹脂組成物。 - 請求項1乃至3いずれかに記載の樹脂組成物において、
前記第一の充填材および前記第二の充填材として、線膨張係数が5ppm/℃以下の材料を用いた樹脂組成物。 - 請求項1乃至4いずれかに記載の樹脂組成物において、
前記第一の充填材および前記第二の充填材のうち、線膨張係数の大きい方の充填材の含有量が、樹脂組成物全体の35重量%未満である樹脂組成物。 - 請求項1乃至5いずれかに記載の樹脂組成物において、
前記第二の充填材が焼成タルクである樹脂組成物。 - 請求項1乃至6いずれかに記載の樹脂組成物において、
前記第一の充填材がシリカである樹脂組成物。 - 請求項1乃至7いずれかに記載の樹脂組成物を硬化させた基板。
- 請求項8に記載の基板において、
厚さ方向の線膨張係数が35ppm/℃以下である基板。 - 請求項8または9に記載の基板において、
バーコール硬度が80未満である基板。 - 請求項8乃至10いずれかに記載の基板において、
弾性率が25GPa未満である基板。
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