JP2005150527A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005353988A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Canon Inc 板状体搬送方法、搬送装置及び露光装置
US7611322B2 (en) * 2004-11-18 2009-11-03 Intevac, Inc. Processing thin wafers
KR100963726B1 (ko) 2005-10-06 2010-06-14 다이이치 덴시 고교 가부시키가이샤 커넥터
US7554107B2 (en) * 2005-11-04 2009-06-30 Nuflare Technology, Inc. Writing method and writing apparatus of charged particle beam, positional deviation measuring method, and position measuring apparatus
US7643130B2 (en) 2005-11-04 2010-01-05 Nuflare Technology, Inc. Position measuring apparatus and positional deviation measuring method
US7759024B2 (en) * 2007-02-28 2010-07-20 Intel Corporation Controlling shape of a reticle with low friction film coating at backside
JP2008226887A (ja) * 2007-03-08 2008-09-25 Nikon Corp 保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP4372178B2 (ja) * 2007-04-27 2009-11-25 株式会社東芝 光反射型マスクと光反射型マスクの作製方法及び半導体装置の製造方法
JP2009016679A (ja) * 2007-07-06 2009-01-22 Yaskawa Electric Corp ステージ装置およびその浮上制御方法と、ステージ装置を用いた露光装置
JP4962779B2 (ja) * 2007-07-06 2012-06-27 株式会社安川電機 ステージ装置およびその浮上制御方法と、ステージ装置を用いた露光装置
JP4962780B2 (ja) * 2007-07-06 2012-06-27 株式会社安川電機 ステージ装置およびその浮上制御方法と、ステージ装置を用いた露光装置
JP2009164284A (ja) * 2007-12-28 2009-07-23 Nikon Corp パターン形成基板、露光方法およびデバイスの製造方法
JP2009194204A (ja) * 2008-02-15 2009-08-27 Nikon Corp 露光装置、露光システムおよびデバイス製造方法
NL1036544A1 (nl) * 2008-02-21 2009-08-24 Asml Netherlands Bv A lithographic apparatus having a chuck with a visco-elastic damping layer.
NL2003673A (en) * 2008-11-21 2010-05-25 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and methods for compensating substrate unflatness, determining the effect of patterning device unflatness, and determing the effect of thermal loads on a patterning device.
NL2003678A (en) * 2008-12-17 2010-06-21 Asml Holding Nv Euv mask inspection system.
NL2003658A (en) * 2008-12-31 2010-07-01 Asml Holding Nv Euv mask inspection.
JP5190034B2 (ja) * 2009-07-03 2013-04-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ 露光装置
KR101640766B1 (ko) * 2009-12-01 2016-07-20 삼성전자주식회사 반사형 레티클 척, 그것을 포함하는 반사형 조명 시스템, 그것을 이용한 반사형 레티클의 평탄성을 개선하는 방법 및 반도체 소자를 제조하는 방법
JP2012015206A (ja) * 2010-06-29 2012-01-19 Toshiba Corp 露光制御システム及び露光制御方法
KR20140023927A (ko) * 2011-03-11 2014-02-27 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 정전기 클램프 장치 및 리소그래피 장치
JP5724657B2 (ja) 2011-06-14 2015-05-27 旭硝子株式会社 ガラス基板保持手段、およびそれを用いたｅｕｖマスクブランクスの製造方法
DE102011086513A1 (de) 2011-11-16 2013-05-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
JP6035670B2 (ja) * 2012-08-07 2016-11-30 株式会社ニコン 露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに露光装置
JP2014167963A (ja) * 2013-02-28 2014-09-11 Toshiba Corp 静電チャック、レチクル、および静電チャック方法
US9103704B2 (en) * 2013-07-25 2015-08-11 General Electric Company Holding device to hold a reflector and an electromagnetic guiding device
TWI527085B (zh) 2013-08-27 2016-03-21 Toshiba Kk Inspection device and inspection method
WO2015095808A1 (en) * 2013-12-22 2015-06-25 Applied Materials, Inc. Extreme ultraviolet lithography system having chuck assembly and method of manufacturing thereof
CN104749902B (zh) 2013-12-31 2017-02-15 上海微电子装备有限公司 掩模板面型整形装置
CN104950413B (zh) * 2015-06-24 2017-12-29 苏州佳世达光电有限公司 固定结构
TWI630071B (zh) 2017-10-20 2018-07-21 財團法人工業技術研究院 薄型工件夾具
EP3514821B1 (en) * 2018-01-18 2020-05-27 Laser Systems & Solutions of Europe Method of laser irradiation of a patterned semiconductor device
KR102787867B1 (ko) * 2020-07-03 2025-04-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0463853B1 (en) 1990-06-29 1998-11-04 Canon Kabushiki Kaisha Vacuum chuck
JP3173928B2 (ja) 1992-09-25 2001-06-04 キヤノン株式会社 基板保持装置、基板保持方法および露光装置
US5854819A (en) 1996-02-07 1998-12-29 Canon Kabushiki Kaisha Mask supporting device and correction method therefor, and exposure apparatus and device producing method utilizing the same
JP3524295B2 (ja) 1996-09-24 2004-05-10 キヤノン株式会社 走査型露光装置およびデバイス製造方法
US6172738B1 (en) 1996-09-24 2001-01-09 Canon Kabushiki Kaisha Scanning exposure apparatus and device manufacturing method using the same
JP3450648B2 (ja) 1997-05-09 2003-09-29 キヤノン株式会社 倍率補正装置および倍率補正装置を搭載したｘ線露光装置ならびにデバイス製造方法
JPH11295031A (ja) 1998-04-08 1999-10-29 Canon Inc 位置決めステージ装置とその位置計測方法および位置決めステージ装置を備えた露光装置ならびにデバイス製造方法
JP4700819B2 (ja) 2000-03-10 2011-06-15 キヤノン株式会社 基板保持装置、半導体製造装置および半導体デバイス製造方法
JP2005045164A (ja) * 2003-07-25 2005-02-17 Toshiba Corp 自動焦点合わせ装置

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