JP2005138389A - 透明積層体およびこれを用いた表示素子用プラスチック基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)からなる透明複合体組成物1の少なくとも片面に樹脂組成物2を積層させ、さらに樹脂組成物2の層の外側に透明な無機物から成る無機物質層3を堆積させた積層体であって、該積層体のJIS K 7129 Bに規定する水蒸気透過度が0.1[g/m2/day/40℃、90%RH]以下であり
、かつ30〜150℃の平均線膨張係数が40ppm以下である透明積層体。
Description
クスタイプ)、カラーフィルター基板、太陽電池用基板等としては、ガラス板が広く用い
られている。しかしながらガラス板は、割れ易い、曲げられない、比重が大きく軽量化に不向きなどの理由から、近年、その代替として樹脂素材が検討されている。
(1)透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)からなる透明複合体組成物1の少なくとも片面に樹脂組成物2を積層させ、さらに樹脂組成物2の層の外側に透明な無機物から成る無機物質層3を堆積させた積層体であって、該積層体のJIS K 7129 Bに規定する水蒸気透過度が0.1[g/m2/day/40℃、90%RH]以下であり、か
つ30〜150℃の平均線膨張係数が40ppm以下である透明積層体。
(2)前記透明樹脂(a)が、2つ以上の官能基を有するエポキシ樹脂を主成分とするエポキシ樹脂硬化物を構成成分として含む(1)の透明積層体。
(3)前記エポキシ樹脂硬化物が、酸無水物系硬化剤で硬化した架橋体または、カチオン系硬化触媒で硬化した架橋体を構成成分として含む(2)の透明積層体。
(4)前記透明複合体組成物1中の透明樹脂(a)が、トリグリシジルイソシアヌレート、または脂環式エポキシ樹脂を構成成分として含む(1)の透明積層体。
(5)前記透明複合体組成物1中の透明樹脂(a)が下記化学式(1)で示される水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂を構成成分として含む(1)の透明積層体。
(7) 前記透明複合体組成物1中の透明樹脂(a)の硬化後の屈折率と前記ガラスフィラー(b)の屈折率との差が0.01以下である(1)〜(6)の透明積層体。
(8) 前記透明複合体組成物1中のガラスフィラー(b)の屈折率が1.45〜1.55である(1)〜(7)の透明積層体。
(9) 前記透明複合体組成物1中のガラスフィラー(b)がガラス繊維布である(1)〜(8)の透明積層体。
(10) 前記樹脂組成物2がアクリレートモノマーから成る紫外線硬化性樹脂組成物かもしくはエポキシ系の紫外線硬化性樹脂である(1)〜(9)の透明積層体。
(11) 前記樹脂組成物2が脂環式エポキシを含む(1)〜(10)の透明積層体。
(12) 前記無機物質層3がSi、Ta、Nb、Al、In、W、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce、Ca、Na、B、Pb、Mg、P、Ba、Ge、Li、KおよびZrか
ら選ばれる1種以上を含む酸化物または窒化物または酸化窒化物を主成分とする(1)〜(11)の透明積層体。
(13) (1)〜(12)の透明積層体の無機物質層3のさらに外側に樹脂組成物21を積層させた透明積層体。
(14) (13)の透明積層体の樹脂組成物21のさらに外側に無機物質層31を堆積させた透明積層体。
(15) 前記樹脂組成物21がアクリレートモノマーから成る紫外線硬化性樹脂組成物かもしくはエポキシ系の紫外線硬化性樹脂である(13)、(14)の透明積層体。
(16) 前記樹脂組成物21が脂環式エポキシを含む(13)、(14)の透明積層体。
(17) 前記無機物質層31がSi、Ta、Nb、Al、In、W、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce、Ca、Na、B、Pb、Mg、P、Ba、Ge、Li、KおよびZrから選ばれる1種以上を含む酸化物または窒化物または酸化窒化物を主成分とする(14)の透明積層体。
(18) 波長550nmでの光線透過率が50%以上であることを特徴とする(1)〜(17)の透明積層体。
(19) (1)〜(18)の透明積層体を用いた表示素子用プラスチック基板。
(20) (1)〜(18)の透明積層体を用いたアクティブマトリックス表示素子用基板。
である。
本発明に用いられる透明複合体組成物1は透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)から成ることを特徴とする。透明樹脂(a)について、好ましくは2つ以上の官能基を有するエポキシ樹脂を主成分とする硬化したエポキシ樹脂を用いることにより、優れた耐熱性と良好な透明性を両立することができる。より好ましくは一般式(1)で示される水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂を用いることにより、極めて優れた耐熱性と良好な透明性を両立することができる。具体的には、熱カチオン系硬化触媒で水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂を硬化した場合には、ガラス転移温度が300℃で透明な硬化物を得ることができる。
基を有するシルセスキオキサン(c)を併用することで、優れた耐熱性を維持したまま、ガラスフィラー(b)と屈折率を合わせる事ができる。
る。
45〜1.55であるのが好ましい。特にガラスフィラー(b)の屈折率が1.50〜1.
54の場合には、ガラスのアッベ数に近い透明樹脂が選択できるので特に好ましい。透明樹脂とガラスとのアッベ数が近いと広い波長領域で屈折率が一致し、広範囲で高い光線透過率が得られる。
んでいても良い。
1μm以下であると十分な表面平滑性が得られずかつ無機物質層との十分な接着性も得られない。このような樹脂組成物2または樹脂組成物21の上に堆積させる無機物質層3は十分な膜質が得られず、透明積層体のバリア性能が劣化する。また逆に50μm以上になると樹脂組成物2の層の曲げに対する耐性が劣るため好ましくない。より好ましくは0.
5〜30μmの範囲であり、この範囲にすることで表面性と曲げ耐久性がすぐれた透明積層体となる。
K、およびZrから選ばれる1種以上を含むターゲットを用いてプロセス中に反応性ガスとしてO2やN2を導入するDCスパッタリング方式もあるがこの場合はRFスパッタリング方式も選択できる。
(実施例1)
Sガラス系ガラスクロス(厚さ100μm、屈折率1.528、ユニチカクロス製、#2117タイプ)を焼きだしし、有機物を除去した後、グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン(エポキシシラン)で処理した。このガラスクロスに、水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業製E−BP)94重量部、オキセタニル基を有するシルキセスキオキサン(東亞合成製OX−SQ)4重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒(三新化学製SI−100L)1重量部を溶融混合した樹脂(硬化後の樹脂の屈折率1.530)を含浸し、脱泡した。このガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、オーブン中、80℃にて2時間加熱後、さらに200℃にて2時間加熱して、厚さ0.1m
mのシート状の透明複合体組成物1を得た。つぎに水添ビフェニル型脂環式エポキシを80重量部、オキセタニル基を有するシルセスキオキサンを17重量部、光カチオン開始剤3重量部を均一に混合させ、透明複合体組成物1の片面にワイヤーバーで塗布した後、高圧水銀灯にて1100mJ/cm2の紫外線を照射しさらに250℃で2時間加熱することで厚さ5μmの樹脂組成物2を積層した。つぎに、樹脂組成物2を積層した面を堆積面としてRFスパッタリング装置の真空チャンバー内へセットした。5×10−4Paの真空に達したところでArガスを0.1Pa導入し、透明積層体と原材料のSiO2ターゲットの間に0.3kWのRF電力を投入し放電を開始した。放電が安定したところで透明積層体と原材料の間に具備されたシャッターを開き透明積層体の樹脂組成物2上へのSiOxから成る無機物質層3の堆積を開始した。無機物質層3が100nm堆積したところでシャッターを閉じて堆積を終了し、真空チャンバーを大気開放して透明積層体を得た。
NEガラス系ガラスクロス(厚さ100μm、屈折率1.510、日東紡製)を焼きだし
して有機物を除去した後、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシラン)で処理した。このガラスクロスに水添ビフェニル型脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業製E−BP)75重量部、オキセタニル基を有するシルキセスキオキサン(東亞合成製O
X−SQ)25重量部、芳香族スルホニウム系熱カチオン触媒(三新化学製SI−100
L)1重量部を溶融混合した樹脂(硬化後の樹脂の屈折率1.510)を含浸し、脱泡した。溶融混合した樹脂を含浸し、脱泡した。樹脂を含浸したこのガラスクロスを離型処理したガラス板に挟み込んで、オーブン中、実施例1と同条件にて加熱処理を行い、厚さ0.1mmのシート状の透明複合体組成物1を得た。つぎに、イソシアヌール酸トリアクリレート40重量部、光開始剤(チバガイギー社製 IRG−907)2.5重量部、メチルセロソルブアセテート(沸点=145℃)8.5重量部、乳酸エチル(沸点=155℃)30重量部,ブチルセロソルブ(沸点=170℃)6.0重量部にて撹拌、溶解してRC=48.8wt%の均一な溶液としたものを、透明複合体組成物1の片面にワイヤーバーにて塗布し、加熱乾燥機中90℃で5分間続いて120℃で2分間加熱して溶媒を除去後、高圧水銀灯にて350mJ/cm2の紫外線を照射させ厚さ5μmの樹脂組成物2を積層した。つぎに、樹脂組成物2を積層した面を堆積面としてRFスパッタリング装置の真空チャンバー内へセットした。5×10−4Paの真空に達したところでArガスを0.5Pa、O2ガスを0.005Pa導入し、透明積層体と原材料のSi3N4ターゲットの間に0.3kWのRF電力を投入し放電を開始した。放電が安定したところで透明積層体と原材料の間に具備されたシャッターを開き透明積層体の樹脂組成物2上へのSiOxNyから成る無機物質層3の堆積を開始した。無機物質層3が100nm堆積したところでシャッターを閉じて堆積を終了し、真空チャンバーを大気開放して透明積層体を得た。
平均粒径3.2μmのNEガラスパウダー(日東紡製、屈折率1.510)を焼きだしして有機物を除去した後、アクリロイロキシプロピルトリエトキシシラン(アクリルシラン)で処理した。このガラスパウダー100重量部を、ノルボルナンジメチロールジアクリレート(東亞合成製 TO−2111、架橋後の屈折率1.520)90重量部とヒドロキシピバルアルデシヒドとトリメチロールプロパンのアセタール化合物のジアクリレート(日本化薬(株)製KAYARAD R−604、架橋後の屈折率1.496)10重量部、光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティケミカル製のイルガキュア184)を0.5重量部とからなる樹脂(架橋後の屈折率1.512)に分散し、脱泡した。これを厚さ80μmのアルミ箔をスペーサーとしてガラス板に挟み込んで、両面から約10J/cm2のUV光を照射して硬化させた
。さらに真空オーブン中、250℃で3時間加熱し、0.1mmのシート状の透明複合体組成物1を得た。つぎに実施例2と同様にして樹脂組成物2および無機物質層3を積層して透明積層体を得た。
実施例2と同様にして得られた透明積層体の無機物質層3上に、実施例2の樹脂組成物2と同様にして樹脂組成物21を積層した。つぎに、樹脂組成物21を積層した面を堆積面として実施例2の無機物質層3と同様にして樹脂組成物21上へのSiOxNyから成る無機物質層31の堆積を行った。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂樹脂(商品名エピコート828、JER(株)製)100重量部、メチルヘキサヒドロフタル酸(商品名MH−700)78重量部、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学工業製TPP−PB)1重量部を溶融混合し100℃/2h、200℃/2h硬化し厚さ300μmのシートを得た。
(比較例2)脂環式エポキシ樹脂(商品名CFL‐2021P)100重量部、メチルヘキサヒドロフタル酸(商品名MH−700)114重量部、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学工業製TPP−PB)1重量部を溶融混合し100℃/2h、200℃/2h硬化し厚さ300μmのシートを得た。つぎに実施例1と同様にして樹脂組成物2を前記シートの片面に積層した。つぎに、樹脂組成物を積層した面を堆積面として実施例1と同様にして樹脂組成物2上へのSiOxから成る無機物質層の堆積を行いシート状の積層体を得た。
a)ガスバリア性
JIS K 7126B法による酸素透過性およびJIS K 7129B法40℃90%による水蒸気透過性の測定を行った。
b)平均線膨張係数
セイコー電子(株)製TMA/SS120C型熱応力歪測定装置を用いて、窒素雰囲気下、1分間に5℃の割合で温度を30℃から150℃まで上昇させた後、一旦0℃まで冷却し、再び1分間に5℃の割合で温度を上昇させて30℃〜150℃の時の値を測定して求めた。荷重を5gにし、引張モードで測定を行った。
c)耐熱性(Tg)
セイコー電子(株)製DMS―210型粘弾性測定装置で測定し、1Hzでのtanδの最大値をガラス転移温度(Tg)とした。
d)光線透過率
分光光度計U3200(島津製作所製)で550nmの光線透過率を測定した。
2 樹脂組成物
3 無機物質層
21 樹脂組成物
31 無機物質層
Claims (20)
- 透明樹脂(a)とガラスフィラー(b)からなる透明複合体組成物1の少なくとも片面に樹脂組成物2を積層させ、さらに樹脂組成物2の層の外側に透明な無機物から成る無機物質層3を堆積させた積層体であって、該積層体のJIS K 7129 Bに規定する水蒸気透過度が0.1[g/m2/day/40℃、90%RH]以下であり、かつ30〜1
50℃の平均線膨張係数が40ppm以下である透明積層体。 - 前記透明樹脂(a)が、2つ以上の官能基を有するエポキシ樹脂を主成分とするエポキシ樹脂硬化物を構成成分として含む請求項1の透明積層体。
- 前記エポキシ樹脂硬化物が、酸無水物系硬化剤で硬化した架橋体または、カチオン系硬化触媒で硬化した架橋体を構成成分として含む請求項2の透明積層体。
- 前記透明複合体組成物1中の透明樹脂(a)が、トリグリシジルイソシアヌレート、または脂環式エポキシ樹脂を構成成分として含む請求項1の透明積層体。
- 前記透明複合体組成物1中の透明樹脂(a)がオキセタニル基をもつシルセスキオキサン(c)を構成成分として含む請求項1の透明積層体。
- 前記透明複合体組成物1中の透明樹脂(a)の硬化後の屈折率と前記ガラスフィラー(b)の屈折率との差が0.01以下である請求項1〜6の何れかに記載の透明積層体。
- 前記透明複合体組成物1中のガラスフィラー(b)の屈折率が1.45〜1.55である請求項1〜7の何れかに記載の透明積層体。
- 前記透明複合体組成物1中のガラスフィラー(b)がガラス繊維布である請求項1〜8の何れかに記載の透明積層体。
- 前記樹脂組成物2がアクリレートモノマーから成る紫外線硬化性樹脂組成物かもしくはエポキシ系の紫外線硬化性樹脂である請求項1〜9の何れかに記載の透明積層体。
- 前記樹脂組成物2が脂環式エポキシを含む請求項1〜10の何れかに記載の透明積層体。
- 前記無機物質層3がSi、Ta、Nb、Al、In、W、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce、Ca、Na、B、Pb、Mg、P、Ba、Ge、Li、KおよびZrから選ばれる1種以上を含む酸化物または窒化物または酸化窒化物を主成分とする請求項1〜11の何れかに記載の透明積層体。
- 請求項1〜12何れかに記載の透明積層体の無機物質層3のさらに外側に樹脂組成物21を積層させた透明積層体。
- 請求項13に記載の透明積層体の樹脂組成物21のさらに外側に無機物質層31を堆積させた透明積層体。
- 前記樹脂組成物21がアクリレートモノマーから成る紫外線硬化性樹脂組成物かもしくはエポキシ系の紫外線硬化性樹脂である請求項13又は14記載の透明積層体。
- 前記樹脂組成物21が脂環式エポキシを含む請求項13又は14記載の透明積層体。
- 前記無機物質層31がSi、Ta、Nb、Al、In、W、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce、Ca、Na、B、Pb、Mg、P、Ba、Ge、Li、KおよびZrから選ばれる1種以上を含む酸化物または窒化物または酸化窒化物を主成分とする請求項14記載の透明積層体。
- 波長550nmでの光線透過率が50%以上であることを特徴とする請求項1〜17の何れかに記載の透明積層体。
- 請求項1〜18何れかに記載の透明積層体を用いた表示素子用プラスチック基板。
- 請求項1〜18何れかに記載の透明積層体を用いたアクティブマトリックス表示素子用基板。
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