JP2005121401A - 体積測定方法、体積測定装置、およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 - Google Patents
体積測定方法、体積測定装置、およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 本発明の体積測定方法は、画像認識手段81により、水平面上に滴下した液滴の水平面視中心点123を原点座標131として取得する原点座標取得工程と、電磁波的手段91により、取得した水平面視中心点123と液滴の外周124の任意の1の点Aとを結ぶ線分125を液滴の径方向に走査しながら、原点座標131に対する液滴表面の輪郭座標126を複数箇所で計測する座標計測工程と、輪郭座標126の計測結果に基づいて液滴の体積を算出する体積算出工程と、を備えている。
【選択図】 図3
Description
この体積算出方法は、飛行中の液滴が飛行軸に対して回転対象形であると仮定して、飛行画像について中心軸に対する積分を行って体積を測定する構成をとっている。
上記の構成によれば、原点座標取得工程において画像認識手段が水平面視中心点を原点座標として取得した後、座標計測工程において電磁波的手段が基準となる原点座標(水平面視中心点)に対する液滴表面の輪郭座標を複数の箇所で計測する。これにより、各円柱の体積の測定に必要な半径と高さを求めることができ、液滴の水平面視半径に相当する部分を走査しながら輪郭座標を取得するだけで液滴の体積を算出することができる。したがって、短時間で走査を完了でき、体積の算出にかかる時間を短縮することができる。
V=ΣπRn^2Hn
ただし、Rn:円柱122の半径
Hn:円柱122の高さ
で示される。算出結果は表示装置84に表示される(図4S6)。
まず、ブラックマトリクス形成工程(S11)では、図7(a)に示すように、基板(W)501上にブラックマトリクス502を形成する。ブラックマトリクス502は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス502を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス502を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
さらに、図7(c)に示すように、レジスト層504の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層504をパターニングして、バンク503を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク503とその下のブラックマトリクス502は、各画素領域507aを区画する区画壁部507bとなり、後の着色層形成工程において液滴吐出ヘッド11により着色層(成膜部)508R、508G、508Bを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
なお、本実施形態においては、バンク503の材料として、塗膜表面が疎液(疎水)性となる樹脂材料を用いている。そして、基板(ガラス基板)501の表面が親液(親水)性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク503(区画壁部507b)に囲まれた各画素領域507a内への液滴の着弾位置精度が向上する。
即ち、基板501の着色層508R、508G、508Bが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜509が形成される。
そして、保護膜509を形成した後、カラーフィルタ500は、次工程の透明電極となるITO(Indium Tin Oxide)などの膜付け工程に移行する。
なお、図示していないが、対向基板521およびカラーフィルタ500の外面(液晶層522側とは反対側の面)には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板521側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
一方、対向基板521におけるカラーフィルタ500と対向する面には、カラーフィルタ500の第1電極523と直交する方向に長尺な短冊状の第2電極526が所定の間隔で複数形成され、この第2電極526の液晶層522側の面を覆うように第2配向膜527が形成されている。これらの第1電極523および第2電極526は、ITOなどの透明導電材料により形成されている。
そして、第1電極523と第2電極526とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ500の着色層508R、508G、508Bが位置するように構成されている。
この液晶装置530が上記液晶装置520と大きく異なる点は、カラーフィルタ500を図中下側(観測者側とは反対側)に配置した点である。
この液晶装置530は、カラーフィルタ500とガラス基板等からなる対向基板531との間にSTN液晶からなる液晶層532が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板531およびカラーフィルタ500の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
対向基板531のカラーフィルタ500と対向する面上には、カラーフィルタ500側の第1電極533と直交する方向に延在する複数の短冊状の第2電極536が所定の間隔で形成され、この第2電極536の液晶層532側の面を覆うように第2配向膜537が形成されている。
そして、上記した液晶装置520と同様に、第1電極533と第2電極536との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ500の着色層508R、508G、508Bが位置するように構成されている。
この液晶装置550は、カラーフィルタ500を図中上側(観測者側)に配置したものである。
カラーフィルタ500の保護膜509の表面(対向基板551側の面)には液晶駆動用の電極556が形成されている。この電極556は、ITO等の透明導電材料からなり、後述の画素電極560が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極556の画素電極560とは反対側の面を覆った状態で配向膜557が設けられている。
この表示装置600においては、発光素子部603から基板601側に発した光が、回路素子部602及び基板601を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部603から基板601の反対側に発した光が陰極604により反射された後、回路素子部602及び基板601を透過して観測者側に出射されるようになっている。
また、第1層間絶縁膜611a上には電源線614が配設されており、この電源線614は、コンタクトホール612bを通じてドレイン領域607bに接続されている。
これら画素電極613、機能層617、及び、機能層617上に配設された陰極604によって発光素子が構成されている。なお、画素電極613は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極613の間にバンク部618が形成されている。
そして、各バンク部618の間には、画素電極613に対して上方に向けて次第に拡開した開口部619が形成されている。
正孔注入/輸送層617aは、画素電極613側から正孔を輸送して発光層617bに注入する機能を有する。この正孔注入/輸送層617aは、正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物(機能液)を吐出することで形成される。正孔注入/輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
この表示装置600は、図12に示すように、バンク部形成工程(S21)、表面処理工程(S22)、正孔注入/輸送層形成工程(S23)、発光層形成工程(S24)、及び対向電極形成工程(S25)を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
無機物バンク層618aを形成したならば、図14に示すように、無機物バンク層618a上に有機物バンク層618bを形成する。この有機物バンク層618bも無機物バンク層618aと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部618が形成される。また、これに伴い、各バンク部618間には、画素電極613に対して上方に開口した開口部619が形成される。この開口部619は、画素領域を規定する。
また、撥液化処理は、有機物バンク層618bの壁面618s及び有機物バンク層618bの上面618tに施され、例えば4フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理(撥液性に処理)される。
この表面処理工程を行うことにより、液滴吐出ヘッド11を用いて機能層617を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部619から溢れ出るのを防止することが可能となる。
しかしその一方で、正孔注入/輸送層617aは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第2組成物を正孔注入/輸送層617a上に吐出しても、正孔注入/輸送層617aと発光層617bとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層617bを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入/輸送層617aの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理(表面改質処理)を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第2組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入/輸送層617a上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入/輸送層617aの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第2組成物を正孔注入/輸送層617aに均一に塗布することができる。
この陰極604の上部には、電極としてのAl膜、Ag膜や、その酸化防止のためのSiO2、SiN等の保護層が適宜設けられる。
この表示装置700は、互いに対向して配置された第1基板701、第2基板702、及びこれらの間に形成される放電表示部703を含んで概略構成される。放電表示部703は、複数の放電室705により構成されている。これらの複数の放電室705のうち、赤色放電室705R、緑色放電室705G、青色放電室705Bの3つの放電室705が組になって1つの画素を構成するように配置されている。
そして、この隔壁708によって仕切られた領域が放電室705となっている。
第1基板701と第2基板702とは、アドレス電極706と表示電極711が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極706と表示電極711は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極706,711に通電することにより、放電表示部703において蛍光体709が励起発光し、カラー表示が可能となる。
この場合、第1基板701を液滴吐出装置1のセットテーブル66に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、液滴吐出ヘッド10により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
表示電極711の形成の場合、アドレス電極706の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体709の形成の場合には、各色(R,G,B)に対応する蛍光材料を含んだ液体材料(機能液)を液滴吐出ヘッド11から液滴として吐出し、対応する色の放電室705内に着弾させる。
この表示装置800は、互いに対向して配置された第1基板801、第2基板802、及びこれらの間に形成される電界放出表示部803を含んで概略構成される。電界放出表示部803は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部805により構成されている。
13 ノズル 61 X・Y移動機構
75 メインキャリッジ 81 画像認識手段
91 座標計測手段(電磁波的手段) 92 計測手段
93 走査手段 94 レーザ式距離計測器
101 体積算出手段 113 ヘッド制御手段
123 水平面視中心点 124 外周
126 輪郭座標 131 原点座標
W ワーク S 水平部(非描画領域)
A 外周の任意の1の点
Claims (17)
- 画像認識手段により、水平面上に滴下した液滴の水平面視中心点を原点座標として取得する原点座標取得工程と、
電磁波的測定手段により、前記取得した水平面視中心点と前記液滴の外周の任意の1の点とを結ぶ線分を前記液滴の径方向に走査しながら、前記原点座標に対する液滴表面の輪郭座標を複数箇所で計測する座標計測工程と、
前記輪郭座標の計測結果に基づいて前記液滴の体積を算出する体積算出工程と、を備えたことを特徴とする体積測定方法。 - 前記原点座標取得工程において、前記画像認識手段が画像認識した認識画像を液滴画像とその周辺画像とに2値化することにより前記液滴の輪郭を決定して、前記水平面視中心点を原点座標として取得すると共に、
前記輪郭が真円形状から極端に乖離した形状である場合に、エラーとしてこれを報知することを特徴とする請求項1に記載の体積測定方法。 - 前記座標計測工程において、前記水平面視中心点から前記外周に向かって走査が行われ、前記電磁波的測定手段は、前記輪郭座標の高さの値がゼロになったときに前記外周の任意の1の点に至ったものと判断することを特徴とする請求項1または2に記載の体積測定方法。
- 前記座標計測工程において、前記電磁波的測定手段の走査は、前記輪郭座標の複数箇所の計測に対応して間欠的な移動により行われることを特徴とする請求項1、2または3に記載の体積測定方法。
- 前記輪郭座標の複数箇所の計測における前記間欠的な移動の間隔は、前記水平面視中心点から前記外周に向かうに従って徐々に小さくなることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の体積測定方法。
- 前記座標計測工程において、前記電磁波的測定手段による計測を走査方向を異にして複数回繰り返し、
前記体積算出工程において、前記繰り返して得られた複数の輪郭座標の平均値に基づいて体積を算出することを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の体積測定方法。 - 前記電磁波的測定手段は、レーザ光を計測光として用いるレーザ式距離計測器であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の体積測定方法。
- 水平面上に滴下した液滴を撮像し、当該液滴の水平面視中心点を原点座標として取得する画像認識手段と、
前記水平面視中心点と前記液滴の外周の任意の1の点とを結ぶ線分を、前記液滴の径方向に走査しながら前記原点座標に対する液滴表面の輪郭座標を複数箇所で計測する座標計測手段と、
前記輪郭座標の計測結果に基づいて前記液滴の体積を算出する体積算出手段と、を備えたことを特徴とする体積測定装置。 - 前記座標計測手段は前記輪郭座標の複数箇所の計測に対応して間欠的に移動し、その計測は移動の停止時に行われることを特徴とする請求項8に記載の体積測定装置。
- 前記座標計測手段は、走査方向を異にして複数回の計測を繰り返し、
前記体積算出手段は、前記繰り返して得られた複数の輪郭座標の平均値に基づいて体積を算出することを特徴とする請求項8または9に記載の体積測定装置。 - 前記座標計測手段は、レーザ光を計測光として用いるレーザ式距離計測器であることを特徴とする請求項8、9または10に記載の体積測定装置。
- ワークに対して、複数のノズルから機能液滴を吐出して成膜部を形成する液滴吐出ヘッドと、
前記ワークを前記液滴吐出ヘッドに対してX軸方向およびY軸方向に相対移動させるX・Y移動機構と、
前記各ノズルから吐出された液滴である前記機能液滴の体積を算出する請求項8ないし11のいずれかに記載の体積測定装置と、
前記体積測定装置で算出した前記複数のノズル毎の前記機能液滴の体積から、前記各ノズルが均一になるように駆動波形を補正するヘッド制御手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。 - 前記座標計測手段は、前記線分について前記原点座標に対する液滴表面の輪郭座標を複数箇所で計測する計測手段と、前記計測に伴って前記計測手段を前記線分について前記機能液滴の径方向に走査する走査手段とから成り、
前記液滴吐出ヘッドはキャリッジを介して前記X・Y移動機構に搭載され、
前記X・Y移動機構は前記走査手段を兼ね、
かつ前記計測手段は、前記キャリッジに取り付けられていることを特徴とする請求項12に記載の液滴吐出装置。 - 前記画像認識手段は、前記キャリッジに取り付けられていることを特徴とする請求項13に記載の液滴吐出装置。
- 請求項12、13または14に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による前記成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
- 請求項12、13または14に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による前記成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
- 請求項15に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項16に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006123491A1 (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2010032993A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Samsung Electronics Co Ltd | インクジェットプリンティングシステム及びこれを利用した表示装置の製造方法 |
JP2010240503A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出量測定方法および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
KR100997451B1 (ko) | 2008-10-02 | 2010-12-07 | (주)유니젯 | 잉크 드롭 체적 측정장치 및 방법 |
US8366232B2 (en) | 2007-02-26 | 2013-02-05 | Seiko Epson Corporation | Method of measuring landed dot, measuring apparatus for landed dot, liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electro-optic apparatus, electro-optic apparatus, and electronic apparatus |
JP2015125125A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-06 | パナソニック株式会社 | 液滴測定方法、及び液滴測定システム |
CN105459601A (zh) * | 2016-01-15 | 2016-04-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 墨滴体积的校准方法及其校准系统、打印设备 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100357712C (zh) * | 2005-08-04 | 2007-12-26 | 上海大学 | 液滴的超声计量方法及装置 |
US7342670B2 (en) * | 2005-10-19 | 2008-03-11 | Labcoat, Ltd. | In-flight drop location verification system |
JP4356740B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2009-11-04 | セイコーエプソン株式会社 | 配線パターン形成方法、デバイスおよび電子機器 |
JP2008136926A (ja) | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出ヘッドの駆動方法、液滴吐出装置、及び電気光学装置 |
US8765212B2 (en) * | 2007-09-21 | 2014-07-01 | Nordson Corporation | Methods for continuously moving a fluid dispenser while dispensing amounts of a fluid material |
CN101952049B (zh) * | 2008-02-22 | 2015-01-07 | 武藏工业株式会社 | 排出量修正方法以及涂布装置 |
US20130210621A1 (en) | 2012-02-10 | 2013-08-15 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Breathable Film Formed from a Renewable Polyester |
US11673155B2 (en) | 2012-12-27 | 2023-06-13 | Kateeva, Inc. | Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy |
CN108099426B (zh) * | 2012-12-27 | 2020-05-12 | 科迪华公司 | 用于打印油墨体积控制以在精确公差内沉积流体的技术 |
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US9832428B2 (en) | 2012-12-27 | 2017-11-28 | Kateeva, Inc. | Fast measurement of droplet parameters in industrial printing system |
US9352561B2 (en) | 2012-12-27 | 2016-05-31 | Kateeva, Inc. | Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances |
KR101733904B1 (ko) | 2012-12-27 | 2017-05-08 | 카티바, 인크. | 정밀 공차 내로 유체를 증착하기 위한 인쇄 잉크 부피 제어를 위한 기법 |
KR102680609B1 (ko) | 2013-12-12 | 2024-07-01 | 카티바, 인크. | 두께를 제어하기 위해 하프토닝을 이용하는 잉크-기반 층 제조 |
CN104154955B (zh) * | 2014-05-19 | 2016-05-11 | 北京理工大学 | 贮箱液体推进剂液面形貌与剂量动态测量方法和系统 |
KR20180064582A (ko) * | 2016-12-05 | 2018-06-15 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 디스펜서 및 디스펜서의 토출량 검사 방법 |
CN108340679B (zh) | 2017-01-24 | 2019-08-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 液滴体积的调节装置和调节方法 |
CN109307638A (zh) * | 2018-08-07 | 2019-02-05 | 江苏大学 | 一种馒头比容的测定方法及装置 |
KR102238130B1 (ko) * | 2019-07-08 | 2021-04-09 | 세메스 주식회사 | 약액 검사 장치 |
KR20210021160A (ko) * | 2019-08-14 | 2021-02-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액적 측정 방법, 액적 측정 장치, 및 표시 장치의 제조 방법 |
CN110571360B (zh) * | 2019-09-11 | 2022-01-25 | 昆山国显光电有限公司 | 喷墨打印系统和显示面板的制备方法 |
KR20210089291A (ko) * | 2020-01-07 | 2021-07-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
CN111398092B (zh) * | 2020-02-24 | 2021-06-18 | 东华大学 | 一种筒子纱卷绕密度测量方法和装置 |
KR20210117386A (ko) * | 2020-03-18 | 2021-09-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
KR20210130901A (ko) * | 2020-04-22 | 2021-11-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조 장치 |
CN113218827B (zh) * | 2021-06-07 | 2022-08-09 | 上海大学 | 一种基于电场偏转的液体微滴尺寸检测装置 |
CN114523772A (zh) * | 2022-02-11 | 2022-05-24 | Tcl华星光电技术有限公司 | 喷墨打印方法、打印基板及喷墨打印装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6321844A (ja) | 1986-07-15 | 1988-01-29 | Jeol Ltd | コンタクトホ−ルの測定方法 |
JPH05149769A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-06-15 | Canon Inc | インクジエツト記録ヘツドのインク噴射体積測定方法および測定装置 |
JP3223380B2 (ja) * | 1992-01-08 | 2001-10-29 | 株式会社日立製作所 | 微量サンプルの計量・希釈、粒子計測装置、及び計量方法 |
CN1140790C (zh) * | 2001-06-19 | 2004-03-03 | 天津大学 | 基于液滴体积的光谱液滴分析系统 |
CN1140789C (zh) * | 2001-06-19 | 2004-03-03 | 天津大学 | 基于液滴体积的光学图像液滴分析装置 |
JP3697228B2 (ja) * | 2002-07-08 | 2005-09-21 | キヤノン株式会社 | 記録装置 |
US7121642B2 (en) * | 2002-08-07 | 2006-10-17 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Drop volume measurement and control for ink jet printing |
-
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- 2004-10-09 CN CNB2004100835483A patent/CN100354611C/zh not_active Expired - Fee Related
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006123491A1 (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
US8366232B2 (en) | 2007-02-26 | 2013-02-05 | Seiko Epson Corporation | Method of measuring landed dot, measuring apparatus for landed dot, liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electro-optic apparatus, electro-optic apparatus, and electronic apparatus |
JP2010032993A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Samsung Electronics Co Ltd | インクジェットプリンティングシステム及びこれを利用した表示装置の製造方法 |
KR100997451B1 (ko) | 2008-10-02 | 2010-12-07 | (주)유니젯 | 잉크 드롭 체적 측정장치 및 방법 |
JP2010240503A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出量測定方法および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
US8440253B2 (en) | 2009-04-01 | 2013-05-14 | Seiko Epson Corporation | Droplet discharge amount measuring method and organic electroluminescence apparatus manufacturing method |
JP2015125125A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-06 | パナソニック株式会社 | 液滴測定方法、及び液滴測定システム |
CN105459601A (zh) * | 2016-01-15 | 2016-04-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 墨滴体积的校准方法及其校准系统、打印设备 |
US10576738B2 (en) | 2016-01-15 | 2020-03-03 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Calibration method and calibration device for volume of ink droplet, printing apparatus |
Also Published As
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