CN110571360B - 喷墨打印系统和显示面板的制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种喷墨打印系统和显示面板的制备方法，涉及显示技术领域。该喷墨打印系统包括喷墨量监控模块、位置监控模块、成膜监控模块、喷墨模块和墨水容纳模块，其中，喷墨量监控模块用于监控喷墨模块喷出的墨水的体积，位置监控模块用于监控喷墨模块的喷头的位置，成膜监控模块用于监控墨水是否完全成膜，喷墨模块用于喷出墨水，墨水容纳模块用于调整墨水的浓度。本申请的实施例通过设置喷墨量监控模块、位置监控模块、成膜监控模块、喷墨模块和墨水容纳模块，从而实现了对喷墨打印过程中喷墨的体积、喷墨的位置和墨水成膜情况的控制，进而有效改善了打印不完全、打印过量、打印偏位、未完全成膜等打印不良。

Description

喷墨打印系统和显示面板的制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种喷墨打印系统和显示面板的制备方法。

背景技术

目前，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示器件的膜层制备正朝着喷墨打印进行。但是通过喷墨打印技术制备的有机发光层存在显示效果较差的问题。

因此，如何改善通过喷墨打印技术制备的有机发光层的显示效果成为亟待解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本申请实施例致力于提供一种喷墨打印系统以及显示面板的制备方法，以解决现有技术中通过喷墨打印技术制备的有机发光层的显示效果较差的问题。

本申请一方面提供了一种喷墨打印系统，包括喷墨量监控模块、位置监控模块、成膜监控模块、喷墨模块和墨水容纳模块；其中，所述喷墨量监控模块用于监控所述喷墨模块喷出的墨水的体积，所述位置监控模块用于监控所述喷墨模块的喷头的位置，所述成膜监控模块用于监控所述墨水是否完全成膜，所述喷墨模块用于喷出所述墨水，所述墨水容纳模块用于调整所述墨水的浓度。此系统可有效改善打印不完全、打印过量、打印偏位、未完全成膜等打印不良的问题。

在本申请的一个实施例中，所述喷墨量监控模块包括喷墨量监控坑，所述喷墨量监控坑包括至少三个分别呈环状且同心的限定单元。以便通过不同的环状的限定单元限定出不同的空间，进而通过墨水占据的空间位置来判断墨水的体积。

在本申请的一个实施例中，所述至少三个限定单元包括第一限定单元、第二限定单元和第三限定单元；其中，所述第二限定单元设置在所述第一限定单元的外围，所述第三限定单元设置在所述第二限定单元的外围；其中，所述第三限定单元的高度大于所述第二限定单元的高度，所述第二限定单元的高度大于所述第一限定单元的高度。从而使得每一个限定单元对相应限定的空间的限定作用更突出。

在本申请的一个实施例中，所述墨水容纳模块包括墨水容纳组件，所述墨水容纳组件包括溶质容纳单元、溶剂容纳单元和墨水容纳单元，所述墨水容纳单元中的墨水的浓度通过向所述墨水容纳单元中添加所述溶质容纳单元中的溶质或所述溶剂容纳单元中的溶剂来调整，从而实现了通过墨水的浓度来调整喷墨量。

在本申请的一个实施例中，所述喷墨模块包括第一喷头和多个第二喷头；其中，所述第一喷头和所述多个第二喷头的距离相对固定；其中，所述第一喷头用于向所述位置监控模块的多个位置监控坑和/或所述喷墨量监控模块的喷墨量监控坑喷入所述墨水，所述第二喷头用于向像素坑中喷入所述墨水。可以通过判断第一喷头是否在预设位置来判断第二喷头是否对准像素坑。

在本申请的一个实施例中，成膜监控模块包括入射光线发射单元和入射光线接收单元。入射光线的反射光线的强度值可以用于表征墨水的成膜情况，从而实现了对墨水的成膜情况的监控。

在本申请的一个实施例中，位置监控模块包括多个位置监控坑；其中，所述位置监控模块通过所述墨水占据所述多个位置监控坑的位置监控所述喷墨模块的喷头的位置。可以通过判断第一喷头是否在预设位置来判断第二喷头是否对准像素坑。

本申请另一方面提供了一种显示面板的制备方法，应用如上述第一方面任一项所述的喷墨打印系统，包括：基板，所述基板包括待喷墨区和监控区；所述喷墨打印系统的所述喷墨量监控坑、所述位置监控坑和所述成膜监控坑置于所述基板的监控区上；向所述基板的所述喷墨量监控坑中喷入墨水；根据所述墨水在所述喷墨量监控坑中占据的位置判断所述墨水的实际体积是否在预设体积范围内；以及若所述墨水的所述实际体积不在所述预设体积范围内，调整墨水容纳组件中墨水的浓度，实现了对喷墨量的监控。

在本申请的一个实施例中，所述制备方法进一步包括：向所述基板的多个位置监控坑中喷入所述墨水；依据所述墨水在所述多个位置监控坑中占据的区域判断第一喷头是否在预设位置；以及若所述墨水在所述多个位置监控坑中占据的所述区域未与预设区域重合，依据所述墨水在所述多个位置监控坑中占据的所述区域与所述预设区域的相对关系将所述第一喷头相对移动至所述预设位置，实现了对喷头位置的监控。

在本申请的一个实施例中，所述制备方法进一步包括：向所述基板的成膜监控坑和像素坑中同步喷入所述墨水；将所述成膜监控坑和所述像素坑中的所述墨水同步加热；向所述成膜监控坑中的所述墨水发射入射光线；以及若接收到的所述入射光线的反射光线的强度值小于预设强度值，停止所述加热，实现了对像素坑中墨水是否完全成膜的监控。

本申请的实施例通过设置喷墨量监控模块、位置监控模块、成膜监控模块、喷墨模块和墨水容纳模块，从而实现了对喷墨打印过程中喷墨的体积、喷墨的位置和墨水成膜情况的控制，进而有效改善了打印不完全、打印过量、打印偏位、未完全成膜等打印不良。

附图说明

图1是根据本申请一个实施例的喷墨打印系统的示意性框架图。

图2是根据本申请一个实施例的显示面板的制备方法的示意性流程图。

图3是根据本申请一个实施例的喷墨量监控坑的示意图。

图4a和图4b分别是根据本申请一个实施例的喷墨量监控坑的俯视示意图。

图5是根据本申请另一个实施例的位置监控模块的示意图。

图6是根据本申请一个实施例的第二喷头的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在可能的情况下，附图中相同或相似的部分将采用相同的附图标记。

在OLED显示器件的制备过程中，喷墨打印技术可以用于有机发光层的形成。在这里，墨水可以由溶质(即有机发光材料)和溶剂混合形成。之后，墨水经喷头喷涂在基板1301的像素坑2内。接着，像素坑2中的墨水经烘干工艺后形成有机发光层。但是，通过喷墨打印技术制备的像素坑2中的有机发光层存在打印不完全或者打印过量的问题。对于打印不完全来说，可以是指像素坑2中墨水的体积较少，从而导致形成的有机发光层厚度较薄。对于打印过量来说，可以是指墨水溢出像素坑2，从而导致形成的有机发光层厚度较厚。也就是说，像素坑2中的有机发光层存在膜层厚度较薄或者较厚的问题。然而有机发光层的厚度直接影响发光的颜色，从而导致通过喷墨打印技术制备的显示面板存在显示效果较差的问题。

若是能将有机发光层的厚度调整在预设厚度范围内，将有效改善通过喷墨打印技术制备的显示面板存在显示效果较差的问题。

基于此，本申请的实施例提供了一种喷墨打印系统。如图1所示，图1是根据本申请一个实施例的喷墨打印系统的示意性框架图。该喷墨打印系统包括喷墨量监控模块110、位置监控模块120、成膜监控模块130、喷墨模块140和墨水容纳模块150。喷墨量监控模块110用于监控喷墨模块140喷出的墨水的体积，位置监控模块120用于监控喷墨模块140的喷头的位置，成膜监控模块130用于监控墨水是否完全成膜，喷墨模块140用于喷出墨水，墨水容纳模块150用于调整墨水的浓度。

本申请的实施例通过设置喷墨量监控模块110、位置监控模块120、成膜监控模块130、喷墨模块140和墨水容纳模块150，从而实现了对喷墨打印过程中喷墨的体积、喷墨的位置和墨水成膜情况的控制，进而有效改善了打印不完全、打印过量、打印偏位、未完全成膜等打印不良。

下面将以通过喷墨打印方式制备OLED显示器件为例，具体阐述本申请的实施例提供的喷墨打印系统。

图3是根据本申请一个实施例的喷墨量监控坑的示意图。图4a和图4b分别是根据本申请一个实施例的喷墨量监控坑的俯视示意图。

在本申请的一个实施例中，喷墨量监控模块110可以包括喷墨量监控坑1。喷墨量监控坑1可以包括分别呈环状且同心的至少三个限定单元，以便通过不同的环状的限定单元限定出不同的空间，进而通过墨水占据的空间位置来判断墨水的体积。

例如，如图3所示，喷墨量监控坑1可以包括分别呈环状的第一限定单元11、第二限定单元12和第三限定单元13。在这里，第一限定单元11呈环状表示第一限定单元11构成了封闭的结构。该封闭的结构可以呈圆形，如图4a所示。该封闭的结构也可以呈矩形，如图4b所示。当然，该封闭的结构也可以呈其它形状，本申请的实施例对于该封闭结构的形状不做具体限定。类似地，第二限定单元12和第三限定单元13也是如此。

第二限定单元12可以设置在第一限定单元11的外围，第三限定单元13可以设置在第二限定单元12的外围。

具体地，第一限定单元11所限定的空间可以为喷墨量偏少区14。第一限定单元11和第二限定单元12之间的区域可以为喷墨量正常区15。第二限定单元12和第三限定单元13之间的区域可以为喷墨量偏多区16。例如，在本申请的一个实施例中，若墨水占据第一限定单元11和第二限定单元12之间的空间且墨水未超出第二限定单元12所限定的空间，墨水的实际体积在预设体积范围内。也就说是，当墨水的实际体积在预设体积范围内时，墨水溢出喷墨量偏少区14并流动至喷墨量正常区15，但未溢出至喷墨量偏多区16。

本申请的实施例通过在喷墨量监控坑1内设置第一限定单元11、第二限定单元12和第三限定单元13，从而实现了喷墨量监控坑1内区域的分割，进而使得喷墨量监控坑1可以用于对第一喷头的喷墨量进行量化。

在本申请的一个实施例中，第一限定单元11所限定的区域内可以进一步包括至少一个限定单元。在这里，该至少一个限定单元中的每一个均有对应的限定的空间，从而使得喷墨量偏少区14可以进一步细化。类似地，第二限定单元12和第三限定单元13之间，以及第三限定单元13的外围也可以进一步包括多个限定单元。相应地，喷墨量偏多区16也可以得到进一步细化。

在这样的情况下，一个限定的空间可以对应一种墨水浓度，且多个限定的空间可以对应多种墨水浓度。也就是说，根据喷墨量监控坑1内墨水占据的限定的空间的位置可以直接得到墨水的浓度。在墨水的浓度需要调整时，根据这个得到的墨水浓度和上述预设浓度范围可以直接计算出需要加入的溶质(有机发光材料)的量或者溶剂的量，从而使得墨水浓度的调整更加精准且快速。

在本申请的一个实施例中，如图3所示，第三限定单元13的高度h3可以大于第二限定单元12的高度h2，第二限定单元12的高度h2可以大于第一限定单元11的高度h1。

具体地，第二限定单元12的高度h2和像素坑2的像素限定单元21的高度h可以相等。在这样的情况下，可以更容易对喷墨量监控坑1内的第二限定单元12进行识别。再有，当h3＞h2＞h1时，可以使得每一个限定单元对相应限定的空间的限定作用更突出。例如，当墨水越过第一限定单元11进入到第一限定单元11与第二限定单元12之间的区域时，若第二限定单元12的高度h2大于第一限定单元11的高度h1，则墨水不容易越过第二限定单元12进入第二限定单元12和第三限定单元13之间的区域，从而不容易影响墨水在喷墨量监控坑1中占据的位置的判断。

在本申请的一个实施例中，墨水容纳模块150包括墨水容纳组件，墨水容纳组件可以包括溶质容纳单元、溶剂容纳单元和墨水容纳单元，且墨水容纳单元中的墨水的浓度可以通过向墨水容纳单元中添加溶质容纳单元中的溶质或溶剂容纳单元中的溶剂来调整，从而实现了通过墨水的浓度来调整喷墨量。在这里，该溶质可以是有机发光材料，相应地，该墨水用于形成有机发光层。

具体地，墨水容纳模块150还可以包括浓度传感器。在这里，浓度传感器可以对墨水容纳单元中墨水的浓度实时进行监控。也就是说，除了可以根据墨水在喷墨量监控坑1中占据的位置来判断墨水的浓度外，还可以根据浓度传感器对墨水的浓度进行监控，从而使得墨水浓度的监测结果更加精准。此外，在墨水的浓度需要调整时，浓度传感器的测试数据和上述预设浓度范围可以用于计算出需要加入的溶质(即有机发光材料)的量或者溶剂的量。再有，浓度传感器也可以监测调整后的墨水浓度是否满足调整的要求。

墨水容纳单元可以包括搅拌部件，在溶质(有机发光材料)或溶剂加入后，搅拌部件可以开始搅拌，进而确保墨水浓度的均匀。

在本申请的一个实施例中，喷墨模块140包括第一喷头和多个第二喷头。第一喷头和多个第二喷头的距离可以相对固定。第一喷头可以用于向喷墨量监控模块110的喷墨量监控坑1喷入墨水。此外，第一喷头也可以用于向位置监控模块120的多个位置监控坑3喷入墨水。第二喷头可以用于向像素坑2中喷入墨水。

图5是根据本申请另一个实施例的位置监控模块的示意图。

在本申请的一个实施例中，位置监控模块120可以包括多个位置监控坑3，且位置监控模块120通过墨水占据多个位置监控坑3的位置监控喷墨模块140的喷头的位置。

位置监控坑3可以用于判断第一喷头是否在预设位置处。若第一喷头在预设位置处，第一喷头喷出的墨水在多个位置监控坑3中占据的区域5将与预设区域4重合。若第一喷头不在预设位置处，即存在偏移，第一喷头喷出的墨水在多个位置监控坑3中占据的区域5将不能与预设区域4重合。

在本申请的一个实施例中，在依据墨水在多个位置监控坑3中占据的区域5与预设区域4的相对关系将第一喷头相对移动至预设位置时，多个第二喷头6和第一喷头相对静止，其中，第二喷头6用于为基板1301的像素坑2喷入墨水。在这里，可以通过判断第一喷头是否在预设位置来判断第二喷头6是否对准像素坑2。

具体地，第一喷头和第二喷头6的相对位置可以是固定不变的。也就是说，当第一喷头不在预设位置时，第二喷头6也将不能对准相应的像素坑2，从而使得墨水也不可能被喷涂在像素坑2的像素限定单元21上。为了避免这种情况的发生，可以依据墨水在多个位置监控坑3中占据的区域5与预设区域4的相对关系将第一喷头相对移动至预设位置。在这里，可以是第一喷头进行了移动，也可以是基板1301进行了移动，本申请的实施例对于移动对象不做限定。例如，如图5所示，当第一喷头进行移动时，第一喷头可以先沿水平方向移动第一预设距离，然后再沿竖直方向移动第二预设距离。在这里，第一预设距离可以是水平方向上相邻的两个位置监控坑3之间的间距。第二预设距离可以是竖直方向上相邻的两个位置监控坑3之间的间距。当然，第一喷头也可以先沿竖直方向移动，再沿水平方向移动。

在本申请的一个实施例中，喷墨量监控模块110的喷墨量监控坑1可以和位置监控模块120的位置监控坑3同为一个坑，两者进行复用。具体的，可以包括如图5中的多个位置监控坑3，而每个位置监控坑3的具体结构为图4a或图4b中所示，包括第一限定单元11、第二限定单元12和第三限定单元13，其中，第三限定单元13的高度h3可以大于第二限定单元12的高度h2，第二限定单元12的高度h2可以大于第一限定单元11的高度h1，以构成喷墨量偏少区14、喷墨量正常区15和喷墨量偏多区16。通过监控墨水在每个位置监控坑3的占据的具体空间位置来判定墨水的体积，以及墨水在多个位置监控坑3中占据的区域判断第一喷头是否在预设位置，以对第一喷头的位置进行监控，同时完成了对喷墨量和位置的监控，一举两得，简化了制造工艺。

图6是根据本申请一个实施例的第二喷头6的结构示意图。

在本申请的一个实施例中，如图6所示，第二喷头6的喷嘴的外围可以相对设置有两个距离传感器7，这两个距离传感器7可以与控制器连接，以便距离传感器7可以为控制器反馈距离信息，可知的，第一喷头的外围也可以相对设置有两个距离传感器7，这两个距离传感器7可以与控制器连接，以便距离传感器7可以为控制器反馈距离信息。

具体地，在第一喷头相对移动至预设位置后，在第二喷头6向像素坑2中喷入墨水之前，两个距离传感器7会测试与基板1301的距离。当两个距离传感器7测出的距离相等，且分别为至像素限定单元21的距离时，第二喷头6才向像素坑2中喷入墨水，以便第二喷头6喷出的墨水可以落入在像素坑2内。当两个距离传感器7测出的距离不相等时，第二喷头6将相对基板1301进行微小位置调整直至两个距离传感器7测出的距离相等时停止该微调。

在本申请的一个实施例中，成膜监控模块130可以包括入射光线发射单元和入射光线接收单元。入射光线发射单元可以发出入射光线，入射光线接收单元可以接收入射光线。成膜监控模块130可以包括漫反射传感器。成膜监控模块130还包括成膜监控坑，漫反射传感器可以与成膜监控坑相对，漫反射传感器将实时向成膜监控坑中的墨水发射入射光线。当漫反射传感器不能接收到入射光线的反射光线时，说明像素坑2中的墨水已经成膜，入射光线在成膜后的表面上发生漫反射，因此，漫反射传感器将不能接收到入射光线的反射光线，或者漫反射传感器接收到的入射光线的反射光线的强度已降低，且低于预设强度值。在这样的情况下，就可以停止对像素坑2中墨水的加热了。

图2是根据本申请一个实施例的显示面板的制备方法的示意性流程图。

本申请的实施例还提供了一种显示面板的制备方法。应用上述任一实施例所述的喷墨打印系统，该方法步骤如图2所示，该显示面板的制备方法可以包括如下步骤。

步骤210，向基板1301的喷墨量监控坑1中喷入墨水。

具体地，基板1301除了包括像素坑2外，还可以设置喷墨量监控坑1。例如，基板1301可以包括待喷墨区和监控区。喷墨打印系统的喷墨量监控坑1、位置监控坑3和成膜监控坑可以置于基板1301的监控区上。像素坑2可以设置在待喷墨区。应当理解，当成膜监控坑为像素坑2时，成膜监控坑可以设置在待喷墨区。或者说，待喷墨区和监控区可以包括重叠区域，成膜监控坑可以设置在该重叠区域。

在向基板1301的像素坑2进行喷墨之前，可以先对喷头的喷墨量进行监控。在这里，喷墨打印系统可以包括多个喷头，且每个喷头可以有对应的像素坑2、喷墨量监控坑1或成膜监控坑。第一喷头可以优先于第二喷头6进行喷墨。在这里，可以仅是第一喷头进行了喷墨，而第二喷头6没有进行喷墨。也可以是第一喷头和第二喷头6均进行了喷墨，只是第一喷头喷出的墨水落入在喷墨量监控坑1，而第二喷头6喷出的墨水并没有落入像素坑2中，而是被遮挡物阻拦。

步骤220，根据墨水在喷墨量监控坑1中占据的位置判断墨水的实际体积是否在预设体积范围内。

具体地，喷墨量监控坑1可以被分割为不同的区域。这些不同的区域包括喷墨量偏少区14、喷墨量正常区15和喷墨量偏多区16。当墨水位于喷墨量偏少区14时，说明墨水的实际体积小于预设体积范围，也就是说，第一喷头的喷墨量较少。当墨水溢出喷墨量偏少区14并流动至喷墨量正常区15时，说明墨水的实际体积在预设体积范围内，也就是说，第一喷头的喷墨量在正常范围内。当墨水溢出喷墨量正常区15并流动至喷墨量偏多区16时，说明墨水的实际体积大于预设体积范围，也就是说，第一喷头的喷墨量较多。

步骤230，若墨水的实际体积不在预设体积范围内，调整墨水容纳组件中墨水的浓度。

具体地，墨水的实际体积小于预设体积范围可以是由墨水的浓度较高导致的，而墨水的实际体积大于预设体积范围可以是由墨水的浓度较低导致的。墨水的实际体积在预设体积范围内时，说明墨水的浓度在预设浓度范围内。

喷墨打印系统包括墨水容纳组件，用于墨水的容纳。第一喷头和第二喷头6喷出的墨水可以均来源于墨水容纳组件。当墨水容纳组件中墨水的浓度被调整时，第一喷头和第二喷头6喷出的墨水的浓度也将随之改变。墨水的浓度的调整可以通过向墨水中加入溶质(有机发光材料)或者溶剂来实现。例如，当墨水的浓度较高时，可以向墨水中加入溶剂，以便降低墨水的浓度。当墨水的浓度较低时，可以向墨水中加入有机发光材料，以便增大墨水的浓度。

应当理解，若墨水的实际体积在预设体积范围内，则无需对墨水容纳组件中墨水的浓度进行调整。

在本申请的一个实施例中，该制备方法可以进一步包括：向基板1301的多个位置监控坑3中喷入墨水；依据墨水在多个位置监控坑3中占据的区域5判断第一喷头是否在预设位置；以及若墨水在多个位置监控坑3中占据的区域5未与预设区域4重合，依据墨水在多个位置监控坑3中占据的区域5与预设区域4的相对关系将第一喷头相对移动至预设位置。

具体地，向基板1301的多个位置监控坑3中喷入墨水的步骤可以在步骤210之前进行，也可以在步骤220之后进行，本申请的实施例对于向基板1301的多个位置监控坑3中喷入墨水的步骤的执行时机不做限定。

在本申请的一个实施例中，该制备方法可以进一步包括：向基板1301的成膜监控坑和像素坑2中同步喷入墨水；将成膜监控坑和像素坑2中的墨水同步加热；向成膜监控坑中的墨水发射入射光线；以及若接收到的入射光线的反射光线小于预设强度值，则都停止加热。在这里，入射光线的反射光线的强度值可以用于表征墨水的成膜情况，从而实现了对墨水的成膜情况的监控。

具体地，在第二喷头6向像素坑2中喷入墨水之后，第一喷头和第二喷头6可以相对基板1301移动。可以选取距离成膜监控模块130的漫反射传感器最近的像素坑2为成膜监控坑，并在需要相对移动时，使漫反射传感器和基板1301相对移动，以便漫反射传感器可以与成膜监控坑相对。也可以是基板1301的监控区设置有成膜监控坑。接着，可以对像素坑2中的墨水进行加热。应当理解，成膜监控坑中的墨水也会被加热。具体过程已在上文描述，在此不做赘述。

在这里，在入射光线的光斑可调的情况下，入射光线的光斑可以设置为最小值，以避免墨水在像素坑2中呈凸起状且未成膜时，由于反射光线的过度分散而导致漫反射传感器无法接收到反射光线。

在本申请的一个实施例中，向基板1301的成膜监控坑中喷入墨水，包括向基板1301的成膜监控坑和像素坑2中喷入墨水，从而实现了通过对成膜监控坑中墨水的成膜情况的监控来完成对像素坑2中墨水的成膜情况的监控。也就是说，每个第二喷头6均向对应的成膜监控坑或像素坑2中喷入墨水。

通过向基板1301的喷墨量监控坑1中喷入墨水，根据墨水在喷墨量监控坑1中占据的位置判断墨水的实际体积是否在预设体积范围内，以及若墨水的实际体积不在预设体积范围内，调整墨水容纳组件中墨水的浓度，从而使得墨水在喷入基板1301的像素坑2中之前进行了墨水浓度的调整，进而避免了由于墨水浓度较高而导致的像素坑2中有机发光层的厚度较薄，或者由于墨水浓度较低而导致的像素坑2中有机发光层的厚度较厚，有效改善了通过喷墨打印技术制备的显示面板存在显示效果较差的问题。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种喷墨打印系统，其特征在于，包括喷墨量监控模块、位置监控模块、成膜监控模块、喷墨模块和墨水容纳模块；

其中，所述喷墨量监控模块用于监控所述喷墨模块喷出的墨水的体积，所述位置监控模块用于监控所述喷墨模块的喷头的位置，所述成膜监控模块用于监控所述墨水是否完全成膜，所述喷墨模块用于喷出所述墨水，所述墨水容纳模块用于调整所述墨水的浓度；

其中，所述喷墨量监控模块包括喷墨量监控坑，所述喷墨量监控坑包括至少三个分别呈环状且同心的限定单元；所述至少三个限定单元包括第一限定单元、第二限定单元和第三限定单元；

其中，所述第二限定单元设置在所述第一限定单元的外围，所述第三限定单元设置在所述第二限定单元的外围；

其中，所述第三限定单元的高度大于所述第二限定单元的高度，所述第二限定单元的高度大于所述第一限定单元的高度。

2.根据权利要求1所述的喷墨打印系统，其特征在于，所述墨水容纳模块包括墨水容纳组件，所述墨水容纳组件包括溶质容纳单元、溶剂容纳单元和墨水容纳单元，所述墨水容纳单元中的墨水的浓度通过向所述墨水容纳单元中添加所述溶质容纳单元中的溶质或所述溶剂容纳单元中的溶剂来调整。

3.根据权利要求1所述的喷墨打印系统，其特征在于，所述喷墨模块包括第一喷头和多个第二喷头；

其中，所述第一喷头和所述多个第二喷头的距离相对固定；

其中，所述第一喷头用于向所述位置监控模块的多个位置监控坑和/或所述喷墨量监控模块的喷墨量监控坑喷入所述墨水，所述第二喷头用于向像素坑中喷入所述墨水。

4.根据权利要求1所述的喷墨打印系统，其特征在于，所述成膜监控模块包括入射光线发射单元和入射光线接收单元。

5.根据权利要求1或3所述的喷墨打印系统，其特征在于，位置监控模块包括多个位置监控坑；

其中，所述位置监控模块通过所述墨水占据所述多个位置监控坑的位置监控所述喷墨模块的喷头的位置。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，应用如权利要求1-5任一项所述的喷墨打印系统，包括：

基板，所述基板包括待喷墨区和监控区；

所述喷墨打印系统包括位于所述基板的监控区上的喷墨量监控坑、位置监控坑和成膜监控坑；

向所述基板的所述喷墨量监控坑中喷入墨水；

根据所述墨水在所述喷墨量监控坑中占据的位置判断所述墨水的实际体积是否在预设体积范围内；以及

若所述墨水的所述实际体积不在所述预设体积范围内，调整墨水容纳组件中墨水的浓度。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，进一步包括：

向所述基板的多个位置监控坑中喷入所述墨水；

依据所述墨水在所述多个位置监控坑中占据的区域判断第一喷头是否在预设位置；以及

若所述墨水在所述多个位置监控坑中占据的所述区域未与预设区域重合，依据所述墨水在所述多个位置监控坑中占据的所述区域与所述预设区域的相对关系将所述第一喷头相对移动至所述预设位置。

8.根据权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于，进一步包括：

向所述基板的成膜监控坑和像素坑中同步喷入所述墨水；

将所述成膜监控坑和所述像素坑中的所述墨水同步加热；

向所述成膜监控坑中的所述墨水发射入射光线；以及

若接收到的所述入射光线的反射光线的强度值小于预设强度值，停止所述加热。

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