JP2005108917A - 半導体レーザ素子および半導体レーザ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この半導体レーザ素子は、n型クラッド層3と、n型クラッド層3上に形成されたMQW活性層5と、MQW活性層5上に形成され、平坦部と平坦部から突出するように形成されたリッジ部を構成する凸部とを有するp型クラッド層7とを備えている。そして、p型クラッド層7の凸部近傍に位置する部分には、第1電流ブロック層9のみが形成されており、凸部近傍以外に位置する部分の平坦部上には、第1電流ブロック層9および第2電流ブロック層10からなる積層膜が形成されている。
【選択図】図1
Description
しかし、上記した容量値を低減する方法のうち、電流ブロック層106の誘電率εを小さくする方法については、電流ブロック層106が光閉じ込め層としての機能を有しているため、誘電率εを小さくしすぎると、半導体からなるリッジ部との屈折率差が大きくなって光閉じ込めが強くなりすぎる。これにより、半導体レーザ素子の発振特性が劣化してしまうという不都合が生じる。また、電流ブロック層106の形成面積Sを小さくする方法では、放熱特性を向上させるために、電流ブロック層106の上部に熱伝導率の高い金属層やヒートシンク(放熱部材)を装着する場合に、電流ブロック層106の形成面積Sが小さいと、ヒートシンクなどとの接着面積が小さくなる。この場合には、放熱が十分に行えなくなるとともに、接着強度が弱くなるという不都合が生じる。また、電流ブロック層の形成面積Sを小さくすると、チップのハンドリングが困難になるという不都合も生じる。
図1は、本発明の第1実施形態によるリッジ導波型の半導体レーザ装置(赤色LD)の構造を示した断面図であり、図2は、図1に示した第1実施形態による半導体レーザ装置の活性層部分の詳細構造を示した断面図である。この第1実施形態では、燐化物系半導体を用いた660nm帯の半導体レーザ素子および半導体レーザ装置(赤色LD)に本発明を適用した場合について説明する。まず、図1および図2を参照して、第1実施形態による半導体レーザ装置(赤色LD)の構造について説明する。
(第2実施形態)
図8は、本発明の第2実施形態による半導体レーザ装置(青紫色LD)を示した断面図であり、図9は、図8に示した第2実施形態による半導体レーザ装置の活性層部分の詳細を示した断面図である。図8および図9を参照して、この第2実施形態では、窒化物系半導体を用いた400nm帯の半導体レーザ素子および半導体レーザ装置(青紫色LD)に本発明を適用した場合について説明する。
5、25 MQW活性層(活性層)
7、28 p型クラッド層(第2クラッド層)
9、31 第1電流ブロック層(電流ブロック層)
10、32 第2電流ブロック層(電流ブロック層)
11 p側電極
12、34 融着層
13、35 ヒートシンク(放熱部材)
30 p側電極
33 p側パッド電極
Claims (5)
- 第1導電型の第1クラッド層と、
前記第1クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成され、平坦部と、前記平坦部から突出するように形成されたリッジ部を構成する凸部とを有する第2導電型の第2クラッド層と、
前記第2クラッド層の凸部の側面上および平坦部上に形成され、前記凸部近傍に位置する第1部分の厚みが前記第1部分以外の第2部分の厚みよりも小さい絶縁物からなる電流ブロック層とを備えた、半導体レーザ素子。 - 前記電流ブロック層の第2部分の厚みは、前記凸部を含むリッジ部の高さと実質的に等しい、請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 前記電流ブロック層の前記凸部近傍に位置する第1部分のうち、前記凸部の両側の前記平坦部上に形成される部分の各々の幅は、前記凸部の底部の幅よりも大きい、請求項1または2に記載の半導体レーザ素子。
- 前記電流ブロック層の前記凸部近傍に位置する第1部分のうち、前記凸部の両側の前記平坦部上に形成される部分の各々の幅の合計幅は、前記第2の部分の合計幅よりも小さい、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体レーザ素子。
- 第1導電型の第1クラッド層と、
前記第1クラッド層上に形成された活性層と、
前記活性層上に形成され、平坦部と、前記平坦部から突出するように形成されたリッジ部を構成する凸部とを有する第2導電型の第2クラッド層と、
前記第2クラッド層の凸部の側面上および平坦部上に形成され、前記凸部近傍に位置する第1部分の厚みが前記第1部分以外の第2部分の厚みよりも小さい絶縁膜からなる電流ブロック層と、
前記電流ブロック層を覆うとともに、前記第2クラッド層の凸部に電気的に接続するように形成された金属層と、
前記金属層に接触するように形成された放熱部材とを備えた、半導体レーザ装置。
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