JP2005105302A - 微細構造化金属酸化物薄膜及びその作製方法 - Google Patents
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- Chemically Coating (AREA)
Abstract
【解決手段】 厚さが、0.5〜500nmの自己組織化単分子膜/絶縁層膜を被覆した無機或いは有機基材を所定のフォトマスクを介して、光パターンニングした後、有機金属前駆体を含む水溶液中に浸漬し、当該基材上全面に金属酸化物薄膜を形成した後、溶液中で、リフトオフを行うことにより、物理吸着している金属酸化物薄膜を除去することを特徴とする微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法、及びその製品。
【効果】 柔軟性のある電子デバイス等を作製し、提供することができる。
【選択図】なし
Description
また、ポリマー基材の多くは耐熱性がないため、当該基板上へ半導体セラミックスガスセンサーを作製するためには、低温で作製する必要性があるため、従来の気相プロセスや高温熱処理が不可欠なゾル−ゲル法は使用できなかった。加えて、特に、酸化スズの有する高化学的安定性は、その後のリソグラフィーをより困難なものにしている。更に、SAMを用いる方法においても、SAMを形成するために予め行うポリマー基材の表面改質により表面に形成される親水性官能基の種類が不均一、かつ、ランダムであることが、高配向・高密度のSAMを形成するには適していないという問題があった。
(1)有機金属前駆体を含む水溶液から、無機或いは有機基材上に微細構造化した金属酸化物薄膜を作製する方法であって、
1)絶縁体膜で被覆された無機或いは有機基材上へ有機シラン系自己組織化単分子膜(SAM)を形成してSAMテンプレートを作製する工程、
2)上記SAMを光パターンニング後、有機金属前駆体を含む水溶液中に浸漬し、SAMテンプレート全面に金属酸化物薄膜を析出させる工程、
3)溶剤中でリフトオフを行うことにより、物理吸着している金属酸化物薄膜を除去する工程、
4)上記1)〜3)により微細構造化した金属酸化薄膜を作製する工程、
を具備することを特徴とする微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(2)基材上に被覆する絶縁体膜として膜厚5nm以下の酸化物超薄膜を使用することを特徴とする前記(1)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(3)SAMテンプレート基材の作製が、光、電子線、レーザ、エックス線の何れか1つの照射、走査型プローブ電子顕微鏡によるスクラッチ、又は陽極酸化により達せられることを特徴とする前記(1)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(4)リフトオフに使用する溶剤が、SAMの終端官能基と類似の水の接触角を有していることを特徴とする前記(1)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(5)水溶液中から析出した金属酸化物薄膜と基材の絶縁体膜との界面間に化学結合を形成することを特徴とする前記(1)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(6)水溶液中から析出した金属酸化物薄膜とSAM表面との間に化学結合を形成しないことを特徴とする前記(1)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(7)SAMの終端官能基が、メチル基あるいはフルオロ基であることを特徴とする前記(4)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(8)リフトオフ溶剤が、無水の芳香族炭化水素或いは炭化水素であることを特徴とする前記(1)又は(4)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(9)金属酸化物薄膜が、ガスセンサーとしての機能を有する微細構造化した酸化スズ薄膜であることを特徴とする前記(1)から(8)のいずれかに記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(10)ガスセンサー機能を有する酸化スズ薄膜のポリマー基材が、ポリイミドであることを特徴とする前記(9)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(11)ガスセンサー機能を有する酸化スズ被覆ポリマー基材が、柔軟性を有していることを特徴とする前記(10)記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
(12)無機或いは有機基材上に微細構造化した金属酸化物薄膜であって、
1)絶縁体膜で被覆された無機或いは有機基材上へ有機シラン系自己組織化単分子膜(SAM)を形成してSAMテンプレートを作製する工程、
2)上記SAMを光パターンニング後、有機金属前駆体を含む水溶液中に浸漬し、SAMテンプレート全面に金属酸化物薄膜を析出させる工程、
3)溶剤中でリフトオフを行うことにより、物理吸着している金属酸化物薄膜を除去する工程、
4)上記1)〜3)により微細構造化した金属酸化薄膜を作製する工程、
によって作製されたことを特徴とする微細構造化金属酸化物薄膜。
(13)前記(12)記載の微細構造化金属酸化物薄膜を構成要素として含むことを特徴とする機能性デバイス素子。
(14)前記(12)記載の微細構造化金属酸化物薄膜を構成要素として含むことを特徴とする機能性センサチップ。
(15)前記(12)記載の微細構造化金属酸化物薄膜を構成要素として含むことを特徴とするフレキシブル電子デバイス。
本発明は、無機或いは有機基板表面に疎水性官能基で終端された有機シラン系の自己組織化単分子膜(Self-assembled monolayer: SAM)を形成し、フォトリソグラフィーにより、当該単分子膜をパターンニングすることにより、基板表面に、親水性/疎水性のドメインが交互に配置されたマイクロ構造を構築し、続いて、当該基板を、金属酸化物前駆体を含む水溶液中に浸漬することによって、基板表面全面に金属酸化物薄膜を析出させ、その後、物理吸着した余剰の金属酸化物薄膜を、有機溶媒中でリフトオフすることによって、金属酸化物薄膜の高解像度のパターンを形成することを特徴とするものである。
基材の具体例としては、例えば、フレキシビリティーの高いポリマー基材で、特に耐熱性に優れたポリイミドが好適なものとして例示される。基材の形態は、通常の基板が例示されるが、これに制限されるものではない。
超薄膜に変換する方法が例示されるが、これらに制限されない。
実施例1と同様の手法で、パターン化基材全面にスズ水酸化物を含む粒子状の酸化スズから構成される薄膜を形成した。この基板を、超純水、エタノール、イソプロパノール、あるいはアセトン中で、それぞれ30分間超音波洗浄した。
親水化したポリイミド基材表面に、実施例1、2と同様の手法を用いて、ODS−SAMを形成し、フォトマスク越しに、実施例1、2と同じ条件で、フォトリソグラフィーにより、ODS−SAMをパターニングした。この基材を、0.05mol/Lの塩化スズ(II)二水和物を0.4mol/Lの塩酸に溶解した溶液中に設置し、65℃、50時間攪拌することにより、パターン化基材全面に、スズ水酸化物を含む粒子状の酸化スズから構成される薄膜を形成した。この基板を、ヘキサンあるいは無水トルエン中で、それぞれ30分間超音波洗浄した。
実施例2で作製した基板を熱処理せず、水素ガスに対する応答特性を300℃下で調べた。
Claims (15)
- 有機金属前駆体を含む水溶液から、無機或いは有機基材上に微細構造化した金属酸化物薄膜を作製する方法であって、
(1)絶縁体膜で被覆された無機或いは有機基材上へ有機シラン系自己組織化単分子膜(SAM)を形成してSAMテンプレートを作製する工程、
(2)上記SAMを光パターンニング後、有機金属前駆体を含む水溶液中に浸漬し、SAMテンプレート全面に金属酸化物薄膜を析出させる工程、
(3)溶剤中でリフトオフを行うことにより、物理吸着している金属酸化物薄膜を除去する工程、
(4)上記(1)〜(3)により微細構造化した金属酸化薄膜を作製する工程、
を具備することを特徴とする微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。 - 基材上に被覆する絶縁体膜として膜厚5nm以下の酸化物超薄膜を使用することを特徴とする請求項1記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- SAMテンプレート基材の作製が、光、電子線、レーザ、エックス線の何れか1つの照射、走査型プローブ電子顕微鏡によるスクラッチ、又は陽極酸化により達せられることを特徴とする請求項1記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- リフトオフに使用する溶剤が、SAMの終端官能基と類似の水の接触角を有していることを特徴とする請求項1記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- 水溶液中から析出した金属酸化物薄膜と基材の絶縁体膜との界面間に化学結合を形成することを特徴とする請求項1記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- 水溶液中から析出した金属酸化物薄膜とSAM表面との間に化学結合を形成しないことを特徴とする請求項1記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- SAMの終端官能基が、メチル基あるいはフルオロ基であることを特徴とする請求項4記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- リフトオフ溶剤が、無水の芳香族炭化水素或いは炭化水素であることを特徴とする請求項1又は4記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- 金属酸化物薄膜が、ガスセンサーとしての機能を有する微細構造化した酸化スズ薄膜であることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- ガスセンサー機能を有する酸化スズ薄膜のポリマー基材が、ポリイミドであることを特徴とする請求項9記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- ガスセンサー機能を有する酸化スズ被覆ポリマー基材が、柔軟性を有していることを特徴とする請求項10記載の微細構造化金属酸化物薄膜の作製方法。
- 無機或いは有機基材上に微細構造化した金属酸化物薄膜であって、
(1)絶縁体膜で被覆された無機或いは有機基材上へ有機シラン系自己組織化単分子膜(SAM)を形成してSAMテンプレートを作製する工程、
(2)上記SAMを光パターンニング後、有機金属前駆体を含む水溶液中に浸漬し、SAMテンプレート全面に金属酸化物薄膜を析出させる工程、
(3)溶剤中でリフトオフを行うことにより、物理吸着している金属酸化物薄膜を除去する工程、
(4)上記(1)〜(3)により微細構造化した金属酸化薄膜を作製する工程、
によって作製されたことを特徴とする微細構造化金属酸化物薄膜。 - 請求項12記載の微細構造化金属酸化物薄膜を構成要素として含むことを特徴とする機能性デバイス素子。
- 請求項12記載の微細構造化金属酸化物薄膜を構成要素として含むことを特徴とする機能性センサチップ。
- 請求項12記載の微細構造化金属酸化物薄膜を構成要素として含むことを特徴とするフレキシブル電子デバイス。
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