JP2005103434A - 残液除去装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 特定の処理液を使用する処理ゾーンの出口部に残液除去装置12を設ける。残液除去装置12は、基板40の表面に残る処理液をエアナイフにより除去する第1の液切り手段12aと、第1の液切り手段12aの下流側に配置されて処理液の新液を前記基板40の表面にカーテン状に供給する新液供給手段12bと、新液供給手段12bの更に下流側に配置されて、前記基板40の表面に残る処理液をエアナイフにより除去する第2の液切り手段12cとからなる。基板40の表面に残存する旧液を新液で置換した後に、その新液を除去する。下流側へ持ち出される処理液が新液のために、処理液の持ち出しに伴う異物流出が防止される。
【選択図】 図2
Description
11 シャワーユニット
12 残液除去手段
12a 第1の液切り手段
12b 新液供給手段
12c 第2の液切り手段
20 置換ゾーン
21 シャワーユニット
22 残液除去手段
22a 第1の液切り手段
22b 新液供給手段
22c 第2の液切り手段
30 水洗ゾーン
31 シャワーユニット
32 乾燥装置
Claims (3)
- 搬送される基板の表面に処理液を供給して各種の処理を行う搬送式基板処理設備に使用されて、その基板の表面に残る処理液を除去する残液除去装置であって、前記基板の表面に残る処理液をエアナイフにより除去する第1の液切り手段と、第1の液切り手段の下流側に配置されて処理液の新液を前記基板の表面にカーテン状に供給する新液供給手段と、新液供給手段の更に下流側に配置されて、前記基板の表面に残る処理液をエアナイフにより除去する第2の液切り手段とを具備することを特徴とする残液除去装置。
- 特定の処理液を使用する処理ゾーンの出口部に設けられることを特徴とする請求項1に記載の残液除去装置。
- 前記新液供給手段は、新液を基板の表面上にパドル状態に載せるフラットノズルである請求項1に記載の残液除去装置。
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WO2012169537A1 (ja) * | 2011-06-09 | 2012-12-13 | 住友化学株式会社 | ハニカム構造体封口用マスクの洗浄方法及び洗浄装置、並びに、ハニカムフィルタの製造方法 |
KR101252753B1 (ko) * | 2011-08-09 | 2013-04-09 | 주식회사 엠엠테크 | 기판 표면처리용 블레이드 모듈 |
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