JP2005100656A - 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 表面にテクスチャ加工を施した非金属基板1上に配向調整膜2を形成し、この配向調整膜2の表面を酸化処理または窒化処理し、その上に非磁性下地膜3および磁性膜4を形成する。
【選択図】 図1
Description
テクスチャ加工は、基板表面に所定方向(通常は円周方向)に沿う凹凸を形成する加工であり、テクスチャ加工を施すことによって、基板上に形成される下地膜および磁性膜の結晶配向性を向上させ磁性膜に磁気異方性をもたせ、熱揺らぎ耐性や分解能などの磁気特性を向上させることができる。
ところで、近年では、磁気記録媒体用の基板として、アルミニウム等からなる金属基板に代えて、ガラス、セラミックスなどからなる非金属基板が多く用いられてきている。非金属基板は、硬度が高いためヘッドスラップが生じにくいと言う利点がある。
しかしながら、ガラス基板などの非金属基板では、テクスチャ加工を施した場合でも磁性膜に充分な磁気異方性をもたせるのが難しく、磁気記録媒体の磁気特性が不充分となることがあった。
例えば特開平5−197941号公報には、非金属基板表面に、テクスチャ加工が容易な硬質膜であるNiP膜をスパッタ法により形成したものが提案されている。
また特開平4−29561号公報、および特開平9−167337号公報には、非金属基板表面に硬質膜として無電解メッキ膜などのメッキ膜を形成した磁気記録媒体が開示されている。
非金属基板表面に硬質膜を設けた磁気記録媒体を製造するには、スパッタ装置などの成膜装置内において基板上に硬質膜を形成した後、基板を一旦成膜装置外に搬出し、テクスチャ加工装置を用いてテクスチャ加工を施し、次いで再び成膜装置内に搬入し下地膜や磁性膜の形成を行う方法が採られる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、容易に製造でき、磁気特性に優れた磁気記録媒体および磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
(1)表面にテクスチャ加工が施された非金属基板上に配向調整膜が形成され、その上に非磁性下地膜および磁性膜が形成され、周方向の保磁力Hccと径方向の保磁力Hcrとの比Hcc/Hcrが、1.1以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
(2)配向制御膜の表面が酸化処理されていることを特徴とする(1)記載の磁気記録媒体。
(3)配向制御膜の表面が窒化処理されていることを特徴とする(1)記載の磁気記録媒体。
(4)配向調整膜が、NiP(Pの含有率は10〜40at%)を主成分とするものであることを特徴とする(1)〜(3)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体。
(5)配向調整膜が、NiPX(XはCr、Mo、Si、Mn、W、Nb、Ti、Zrのうち1種以上、Xの含有率は0〜25at%)を主成分とするものであることを特徴とする(1)〜(3)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体。
(6)配向制御膜の膜厚が2〜100nmであることを特徴とする(1)〜(5)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体。
(7)配向調整膜は、表面平均粗さRaが0.5nm未満であることを特徴とする(1)〜(6)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体。
(8)非金属基板が、ガラス基板であることを特徴とする(1)〜(7)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体。
(9)非金属基板と配向性調整膜との間に、配向性調整膜を基板側から剥離しにくくする非磁性密着膜が形成され、この非磁性密着膜が、Cr、Mo、Nb、V、Re、Zr、W、Tiのうち1種以上からなることを特徴とする(1)〜(8)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体。
(10)(1)〜(9)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えていることを特徴とする磁気記録再生装置。
従って、磁気記録媒体の熱揺らぎ耐性などの磁気特性を向上させることができる。
またテクスチャ加工を施した非金属基板上に、成膜装置内で配向調整膜を形成した後、この成膜装置により引き続いて非磁性下地膜、磁性膜を形成することができる。このため、製造工程を簡略化し、製造コスト削減を図ることができる。
本発明の磁気記録媒体は、表面にテクスチャ加工が施された非金属基板上に配向調整膜が形成され、その上に非磁性下地膜および磁性膜が形成され、周方向の保磁力Hccと径方向の保磁力Hcrとの比Hcc/Hcrが、1.1以上であるので、磁気異方性が高く、熱揺らぎ耐性などの磁気特性に優れたものとなる。
配向調整膜2の表面平均粗さRaは、グライドハイト特性の点から1nm以下であることが好ましい。配向調整膜2の表面平均粗さRaは、0.5nm未満(5Å未満)(より好ましくは0.3nm未満)とするのがより望ましい。
配向調整膜2には比較的硬度が低く加工性に富むNiPXなどの金属材料が配向調整膜2に用いられることから、テクスチャ加工時において膜表面にバリやカエリなどの大きな突出部が形成されやすくなり、最大突起高さRpが大きくなりやすい。配向調整膜2の表面平均粗さRaを0.5nm未満(5Å未満)とすることによれば、テクスチャ加工時における研削量を少なくし、表面の最大突起高さRpが大きくなるのを防ぎ、媒体表面の最大突起高さRpを小さく抑え、グライドハイト特性の悪化を防ぐことができる。
非磁性下地膜3の厚さは、1〜100nm(10〜1000Å)、好ましくは2〜50nm(20〜500Å)とするのが望ましい。非磁性下地膜3の結晶配向は(002)とするのが好ましい。
上記材料の好適な具体例としては、CoCrTa系、CoCrPt系、CoCrPtB系、CoCrPtTa系の合金を主成分とするものを挙げることができる。なかでも特に、CoCrPtTa系の合金を用いることが好ましい。磁性膜4の厚さは、5〜30nm(50〜300Å)とすることができる。磁性膜4の結晶配向は(110)とするのが好ましい。
保護膜5の厚さは、2〜10nm(20〜100Å)とするのが好ましい。また、保護膜5上には、必要に応じ、パーフルオロポリエーテル等のフッ素系液体潤滑剤などの潤滑剤からなる潤滑膜を設けることができる。
まず、非金属基板1表面にテクスチャ加工を施す。テクスチャ加工法としては、固定砥粒を用いたラッピングテープや遊離砥粒による機械的テクスチャ加工が好適である。
テクスチャ加工においては、テクスチャラインを周方向に形成するのが好ましい。また機械的テクスチャ加工により膜表面に形成された微小なバリやカエリ等を除去し、より高い表面平滑性を得るために、機械的テクスチャ加工後、化学エッチング処理を行うことも可能である。
図2は、スパッタ装置の一例を示すもので、ここに示すスパッタ装置21は、チャンバ22と、チャンバ22の両側壁内面に設けられたスパッタリングターゲット23と、ターゲット23に電力を供給する電源24と、基板1にバイアスを印加するバイアス電源25と、チャンバ22内にスパッタガスを供給するスパッタガス供給手段26と、チャンバ22内に酸素含有ガスを供給する酸素含有ガス供給手段27とを備えている。
なお、熱揺らぎとは、記録ビットが不安定となり記録したデータの熱消失が起こる現象をいい、磁気記録装置においては、記録したデータの再生出力の経時的な減衰として現れる。熱揺らぎ耐性とは、熱揺らぎの発生しにくさを意味する。
さらには、非磁性下地膜3内の結晶粒を微細化し、これにより下地膜3の影響下で成長する磁性膜4内の磁性粒を微細化、均一化することができるため、ノイズ(N)の低減を図ることができる。このため、単位膜厚あたりの再生出力を向上させることができ、磁性膜4の薄膜化により磁性粒の過度の成長を抑制し微細化することができ、さらなるノイズ低減が可能となる。従って、いっそうのS/Nの向上が可能となる。
これに対し、従来の製造方法では、成膜工程(基板上にNiPなどからなる硬質膜を形成)後、一旦成膜装置から基板を搬出してテクスチャ加工工程(硬質膜表面にテクスチャ加工)を行い、次いで再び成膜工程(非磁性下地膜、磁性膜の形成)を行う必要があるため、製造工程が煩雑となる。
配向調整膜2にテクスチャ加工を施す場合には、非磁性下地膜3、磁性膜4の結晶配向性をさらに向上させ、磁性膜4の磁気異方性をいっそう高めることができる。
記録再生信号処理系11は、外部からの記録信号を処理して磁気ヘッド9に送ったり、磁気ヘッド9からの再生信号を処理して外部に送ることができるようになっている。
本実施形態の製造方法は、配向調整膜2表面を酸化処理することに代えて、配向調整膜2表面を窒化処理する点で上記第1の実施形態の方法と異なる。窒化処理を行うには、配向調整膜2表面を窒素含有ガスに接触させる方法を採ることができる。例えば媒体基板6が収容されたチャンバ内に窒素含有ガスを導入する方法が採用できる。窒素含有ガスとしては、空気、純窒素を用いることができる。また空気中の窒素含有量を増加させた窒素富化ガスを用いることもできる。この際、配向調整膜2が曝されるガス中の窒素濃度は、1〜100vol%(好ましくは1〜70vol%、さらに好ましくは1〜50vol%)とすることができる。窒素含有ガスの使用によって、窒化処理を容易な操作で行うことができるようになる。
この処理を行う際の処理時間(窒素含有ガスへの暴露時間)は、窒素含有ガスの窒素含有量などに応じて適宜設定することができる。この処理によって、配向調整膜2は少なくとも表面付近が窒化される。
本実施形態の製造方法は、基板1上に配向調整膜2を形成する方法としてスパッタ法を採用し、配向調整膜2を形成するに際し、スパッタ装置のチャンバ内に導入するスパッタガスとして、酸素を含むものを用いる点に特徴がある。
具体的には、例えば図2に示すスパッタ装置21を用い、非金属基板1をチャンバ22内に搬入し、スパッタガス供給手段26を用いて酸素含有スパッタガスをチャンバ22内に導入した後、上記ターゲット23に給電する方法を採用することができる。
この酸素含有スパッタガスとしては、従来スパッタガスとして用いられているアルゴンガスなどに、酸素含有ガス(空気、純酸素、水蒸気、酸素富化ガスなど)を添加し酸素を含有させたものを用いることができる。スパッタガス中の酸素含有率は、高すぎれば成膜効率が低下し、低すぎれば磁気異方性を高める効果が低下するため、1〜80vol%(好ましくは2〜50vol%、さらに好ましくは5〜30vol%)とするのが好適である。酸素を含むスパッタガスを用いることによって、配向調整膜2は酸素を含むものとなる。
本実施形態の製造方法は、基板1上に配向調整膜2を形成する方法としてスパッタ法を採用し、配向調整膜2を形成するに際し、スパッタ装置のチャンバ内に導入するスパッタガスとして、窒素を含むものを用いる点に特徴がある。この窒素含有スパッタガスとしては、従来スパッタガスとして用いられているアルゴンガスなどに、窒素含有ガス(空気、純窒素、窒素富化ガスなど)を添加し窒素を含有させたものを用いることができる。
スパッタガス中の窒素含有率は、高すぎれば成膜効率が低下し、低すぎれば磁気異方性を高める効果が低下するため、1〜80vol%(好ましくは2〜50vol%、さらに好ましくは5〜30vol%)とするのが好適である。窒素を含むスパッタガスを用いることによって、配向調整膜2は窒素を含むものとなる。
また本実施形態の製造方法では、配向調整膜2形成後の表面処理が不要となるため、製造工程をさらに簡略化し、いっそうの製造コスト削減を図ることができる。
非磁性密着膜12に好適な材料としては、CrMo系、CrTi系、CrV系、CrW系などの合金や、Crを挙げることができる。非磁性密着膜12の膜厚は、200nm以下、例えば5〜200nmとするのが好ましい。200nmを越えると磁性膜4の磁気異方性を高める効果が低下する。非磁性密着膜12を形成するには、スパッタ法などを用いることができる。
図5は、非磁性中間膜を設けた磁気記録媒体の例を示すもので、ここに示す磁気記録媒体では、非磁性下地膜3と磁性膜4との間に、非磁性中間膜13が設けられている。この非磁性中間膜13の厚さは、5〜200nmとすることができる。
以下、具体例を挙げて本発明を詳細に説明する。アモルファス構造のガラス基板1(直径65mm、厚さ0.635mm)の表面に、円周方向に機械的テクスチャ加工を行い、表面平均粗さRaを表1に示す値とした。表面平均粗さRaの測定にはデジタルインストゥルメント(digital Instrument)社製のAFMを用いた。
この非金属基板1を、充分洗浄し乾燥させた後にDCマグネトロンスパッタ装置(アネルバ社製3010)のチャンバ内にセットし、チャンバ内を真空到達度2×10-7Paとなるまで排気した後、チャンバ内にスパッタガスとしてアルゴンガスを導入し、スパッタ法により基板1上に配向調整膜2を形成した。
配向調整膜2形成後、チャンバ内に空気を導入し酸化処理を行うことに代えて、チャンバ内に純窒素を導入し窒化処理を行うこと以外は試験例1に準じて磁気記録媒体を作製した。窒化処理時におけるチャンバ内の窒素濃度は、20vol%に設定した。
配向調整膜2を形成するにあたり、スパッタガスとして、アルゴンと窒素との混合ガス(アルゴン含有率80vol%、窒素含有率20vol%)を用いること、および酸化処理を行わないこと以外は試験例1に準じて磁気記録媒体を作製した。
非金属基板1と配向調整膜2との間にスパッタ法によりCrからなる非磁性密着膜12(厚さ100Å)を設けること以外は試験例1に準じて磁気記録媒体を作製した。
非金属基板1表面にテクスチャ加工を行わないこと以外は試験例1の方法に準じて磁気記録媒体を作製した。
配向調整膜2表面の酸化処理(配向調整膜2を空気に接触させる処理)を行わないこと以外は試験例1の方法に準じて磁気記録媒体を作製した。各試験例の方法によって作製された磁気記録媒体についての試験結果を表1に併せて示す。
酸化処理に代えて窒化処理を行う方法によって作製された試験例5の磁気記録媒体、および含窒素スパッタガスを使用する方法によって得られた試験例6の磁気記録媒体についても優れた磁気異方性が得られたことがわかる。
また、試験例1〜7の磁気記録媒体は、優れた熱揺らぎ耐性を示したことがわかる。さらには、保磁力が高く、また出力ピークの半値幅PW50が小さくなり再生出力の分解能に優れていることがわかる。
結晶化ガラス基板1(直径65mm、厚さ0.635mm、オハラ社製TS−10SX)の表面に、円周方向に機械的テクスチャ加工を行い、表面平均粗さRaを5Å(0.5nm)とした。この非金属基板1を、充分洗浄し乾燥させた後にDCマグネトロンスパッタ装置(アネルバ社製3010)のチャンバ内にセットし、チャンバ内を真空到達度2×10-7Paとなるまで排気した後、チャンバ内にスパッタガスとしてアルゴンガスを導入し、スパッタ法により基板1上にCr10Moからなる非磁性密着膜12(膜厚100Å(10nm))を形成し、その上に表2に示す配向調整膜2を形成した。
得られた磁気記録媒体の試験結果を表2に示す。表中、使用ガスとは上記酸素含有ガスを指す。20%O2−Arは、酸素含有ガス(チャンバ内ガス)が、20vol%の酸素を含み、残部がArである酸素・アルゴン混合ガスを意味する。またガス圧力はチャンバ内の酸素含有ガスの圧力を意味する。
酸素含有ガスとして、表3に示すものを用い、その圧力を表3に示すとおりとすること以外は、試験例10と同様にして磁気記録媒体を作製した。試験結果を表3に示す。
基板の表面平均粗さRa、配向調整膜、酸素含有ガス、その圧力を、表4に示すとおりとすること以外は試験例11と同様にして磁気記録媒体を作製した。試験例41、42では、非金属基板1として、それぞれ強化ガラス基板(日本板硝子社製)、アルミナ焼結基板(酸化アルミニウム製)を用いた。試験結果を表4に示す。表中、Airは空気を意味する。
結晶化ガラス基板1(オハラ社製TS−10SX)上に、Crからなる非磁性密着膜12(膜厚50Å(5nm))を形成し、その上に表5に示す配向調整膜2を形成した。次いで、スパッタ装置のチャンバ内に表5に示す窒素含有ガスを導入し、200℃の温度条件下で5秒間の窒化処理を行った。配向調整膜2上に、非磁性下地膜3(膜厚150Å(15nm))を形成した。非磁性下地膜3は、Crからなる第1層上に、CrWからなる第2層を形成した2層構造膜とした。非磁性下地膜3上には、CoCrからなる非磁性中間膜(膜厚30Å(3nm))、および磁性膜4を形成した。
磁性膜4は、CoCrPtBCuからなる第1層(層厚180Å(18nm))上に、CoCrPtTaからなる第2層(層厚20Å(2nm))を形成した2層構造膜(膜厚200Å(20nm))とした。磁性膜4上にはスパッタ法によりカーボンからなる保護膜5を形成し、その上にパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜を形成した。得られた磁気記録媒体の試験結果を表5に示す。
結晶化ガラス基板1(オハラ社製TS−10SX)上に、CrWからなる非磁性密着膜12(膜厚100Å(10nm))を形成し、その上に表6に示す配向調整膜2を形成した。この際用いたスパッタガス(成膜ガス)としては、表6に示したものを用いた。配向調整膜2上に、非磁性下地膜3(Crからなる第1層上に、CrWからなる第2層を形成した2層構造。膜厚150Å(15nm))をスパッタ法により形成した。非磁性下地膜3上には、CoCrからなる非磁性中間膜(膜厚30Å(3nm))と、CoCrPtTaZrからなる磁性膜4(膜厚180Å(18nm))を形成した。得られた磁気記録媒体の試験結果を表5に示す。
Claims (10)
- 表面にテクスチャ加工が施された非金属基板上に配向調整膜が形成され、その上に非磁性下地膜および磁性膜が形成され、周方向の保磁力Hccと径方向の保磁力Hcrとの比Hcc/Hcrが、1.1以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
- 配向制御膜の表面が酸化処理されていることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
- 配向制御膜の表面が窒化処理されていることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
- 配向調整膜が、NiP(Pの含有率は10〜40at%)を主成分とするものであることを特徴とする請求項1〜3のうちいずれか1項記載の磁気記録媒体。
- 配向調整膜が、NiPX(XはCr、Mo、Si、Mn、W、Nb、Ti、Zrのうち1種以上、Xの含有率は0〜25at%)を主成分とするものであることを特徴とする請求項1〜3のうちいずれか1項記載の磁気記録媒体。
- 配向制御膜の膜厚が2〜100nmであることを特徴とする請求項1〜5のうちいずれか1項記載の磁気記録媒体。
- 配向調整膜は、表面平均粗さRaが0.5nm未満であることを特徴とする請求項1〜6のうちいずれか1項記載の磁気記録媒体。
- 非金属基板が、ガラス基板であることを特徴とする請求項1〜7のうちいずれか1項記載の磁気記録媒体。
- 非金属基板と配向性調整膜との間に、配向性調整膜を基板側から剥離しにくくする非磁性密着膜が形成され、この非磁性密着膜が、Cr、Mo、Nb、V、Re、Zr、W、Tiのうち1種以上からなることを特徴とする請求項1〜8のうちいずれか1項記載の磁気記録媒体。
- 請求項1〜9のうちいずれか1項記載の磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えていることを特徴とする磁気記録再生装置。
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