JP2005099605A - マスク形成方法、マスク形成用機能層、ドライエッチング方法および情報記録媒体製造方法 - Google Patents
マスク形成方法、マスク形成用機能層、ドライエッチング方法および情報記録媒体製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】磁性層13を覆うようにしてアモルファス構造を有するマスク形成用機能層14を形成し、マスク形成用機能層14を覆うようにしてマスク形成用機能層15を形成した後に所定の処理によってマスク形成用機能層15に凹凸パターンを形成することによってマスク形成用機能層14の上にマスクM1を形成し、マスクM1を用いてマスク形成用機能層14をドライエッチングしてマスク形成用機能層14に凹凸パターンP3を形成することによって磁性層13の上にマスクM2を形成する。
【選択図】図9
Description
2 スパッタ装置
3 塗布装置
4 描画装置
5 現像装置
6 エッチング装置
10 記録媒体製造用中間体
11 ガラス基材
12 軟磁性層
13 磁性層
14,15 マスク形成用機能層
16 非磁性体
20,20A 磁気記録媒体
EB 電子ビーム
M1,M2 マスク
P1 露光パターン
P2〜P4 凹凸パターン
W 幅
Claims (6)
- エッチング対象体を覆うようにしてアモルファス構造を有するAマスク形成用機能層を形成し、当該Aマスク形成用機能層を覆うようにしてBマスク形成用機能層を形成した後に所定の処理によって当該Bマスク形成用機能層に凹凸パターンを形成することによって当該Aマスク形成用機能層の上にBマスクを形成し、当該Bマスクを用いて前記Aマスク形成用機能層をドライエッチングして当該Aマスク形成用機能層に凹凸パターンを形成することによって前記エッチング対象体の上にAマスクを形成するマスク形成方法。
- 前記Aマスク形成用機能層を反応性イオンエッチング法でドライエッチングする請求項1記載のマスク形成方法。
- ケイ素、炭素、ゲルマニウムおよびホウ素のうちの少なくとも1つを含む材料を用いて前記Aマスク形成用機能層を形成する請求項1または2記載のマスク形成方法。
- エッチング対象体を覆うようにして形成されているアモルファス構造を有するマスク形成用機能層。
- 請求項1から3のいずれかに記載のマスク形成方法によって前記エッチング対象体の上に形成した前記Aマスクを用いて当該エッチング対象体をドライエッチングするドライエッチング方法。
- 請求項5記載のドライエッチング方法によって前記エッチング対象体としての情報記録媒体用磁性層をドライエッチングして情報記録媒体を製造する情報記録媒体製造方法。
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