JP2005098705A - 化学物質モニタ装置及び化学物質モニタ方法 - Google Patents
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- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 120
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 112
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 52
- 239000013076 target substance Substances 0.000 claims description 45
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 33
- CEOCDNVZRAIOQZ-UHFFFAOYSA-N pentachlorobenzene Chemical group ClC1=CC(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl CEOCDNVZRAIOQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 15
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 claims description 8
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 claims description 3
- GBDZXPJXOMHESU-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrachlorobenzene Chemical group ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl GBDZXPJXOMHESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trichlorophenol Chemical group OC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 abstract description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 abstract 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 85
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 70
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 21
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 12
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 3
- 238000000065 atmospheric pressure chemical ionisation Methods 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 3
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 3
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 3
- JHBKHLUZVFWLAG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachlorobenzene Chemical compound ClC1=CC(Cl)=C(Cl)C=C1Cl JHBKHLUZVFWLAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 2
- 239000013056 hazardous product Substances 0.000 description 2
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 2
- 238000004056 waste incineration Methods 0.000 description 2
- HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 2,3,7,8-tetrachloro-dibenzo-p-dioxin Chemical compound O1C2=CC(Cl)=C(Cl)C=C2OC2=C1C=C(Cl)C(Cl)=C2 HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000000451 chemical ionisation Methods 0.000 description 1
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000165 glow discharge ionisation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000005040 ion trap Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004045 organic chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical group 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
【解決手段】 試料ガス中の測定対象物質のイオンを生成するイオン源部3と、イオン源部に試料ガスを導入する導入配管2と、イオンの質量分析を行う質量分析部4と、試料ガスを希釈する乾燥空気を導入配管に導入する配管とを有し、イオン源部に導入される試料ガス中の水分濃度がほぼ1%以下となるように導入配管に乾燥空気を導入して、測定対象物質の検出を行う。
【効果】 水分濃度の管理により水分による感度低下を防ぎ、定量精度を向上できる。
【選択図】 図1
Description
図6の横軸は、水分濃度Wを示す。図6の縦軸は、検出された信号強度I(W)/検出された信号強度I(W=0)で定義される、信号強度比である。図6から明らかなように、各塩化物のPCB、TeCB、PeCBに関する信号強度比は、相互に異なる挙動を示している。
図1、図3、図4、図9に示す構成で、PCB処理施設60を化学薬剤処理施設70に置き換えることも可能である。
Claims (16)
- 試料ガス中の測定対象物質のイオンを生成するイオン源部と、該イオン源部に前記試料ガスを導入する導入配管と、前記イオンの質量分析を行う質量分析部と、前記試料ガスを希釈する乾燥空気を前記導入配管に導入する第1の配管とを有し、前記イオン源部に導入される前記試料ガス中の水分濃度がほぼ1%以下となるように前記導入配管に前記乾燥空気を導入して、前記測定対象物質の検出を行うことを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項1に記載の化学物質モニタ装置において、前記第1の配管に配置され前記乾燥空気の流量を制御する手段と、前記導入配管の内部又は前記イオン源部を排気する排気用配管の内部に配置され、前記導入配管又は前記排気用配管の内部の気体中の水分濃度を検出する検出手段と有し、該検出手段の出力に基づいて前記乾燥空気の流量を制御することを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項1に記載の化学物質モニタ装置において、水分濃度がほぼ1%以下である前記乾燥空気を生成する装置を有し、該装置は前記第1の配管に接続されることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項1に記載の化学物質モニタ装置において、前記測定対象物質の濃度の計測を行うための標準物質を前記導入配管に導入する第2の配管と、該第2の配管に流す前記標準物質の流量を制御する手段とを有し、前記標準物質のイオン化効率が、前記測定対象物質のイオン化効率にほぼ等しいことを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項4に記載の化学物質モニタ装置において、前記イオン源部は、前記測定対象物質を大気圧下でコロナ放電によりイオン化する大気圧化学イオン源であることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項4に記載の化学物質モニタ装置において、前記測定対象物質がPCBであり、前記イオン源部で前記測定対象物質の正イオンを生成する場合、前記標準物質はテトラクロロベンゼンまたはペンタクロロベンゼンであり、前記イオン源部で前記測定対象物質の負イオンを生成する場合、前記標準物質はトリクロロフェノールであることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項4に記載の化学物質モニタ装置において、前記標準物質の前記イオンの強度と前記測定対象物質の前記イオンの強度に基づいて、前記測定対象物質の濃度が決定されることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 試料ガス中の測定対象物質のイオンを生成するイオン源部と、該イオン源部に前記試料ガスを導入する導入配管と、前記イオンの質量分析を行う質量分析部と、前記導入配管の内部又は前記イオン源部を排気する排気用配管の内部に配置され、前記導入配管又は前記排気用配管の内部の気体中の水分濃度を検出する検出手段と有し、該検出手段により検出された前記水分濃度の値により前記イオンの感度を補正することを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 試料ガス中の測定対象物質のイオンを生成するイオン源部と、該イオン源部に前記試料ガスを導入する導入配管と、前記イオンの質量分析を行う質量分析部と、前記試料ガスを希釈する乾燥空気を前記導入配管に導入する第1の配管と、該第1の配管に配置され前記乾燥空気の流量を制御する制御手段とを有し、該流量制御手段により、前記イオン源部に導入される前記試料ガス中の水分濃度がほぼ5%以下となるように前記導入配管に導入する前記乾燥空気の流量を制御して、前記測定対象物質の検出を行うことを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 試料ガス中の測定対象物質のイオンを生成するイオン源部と、該イオン源部に前記試料ガスを導入する導入配管と、前記イオン源部を排気する排気用配管と、前記イオンの質量分析を行う質量分析部と、前記試料ガスを希釈する乾燥空気を前記導入配管に導入する第1の配管と、該第1の配管に配置され前記乾燥空気の流量を制御する第1の流量制御手段と、前記測定対象物質の濃度の計測を行うための標準物質を前記導入配管に導入する第2の配管と、該第2の配管に配置され前記標準物質の流量を制御する第2の流量制御手段と、前記排気用配管の内部に配置され前記排気用配管の内部の気体中の水分濃度を検出する検出手段と、前記検出手段の出力に基づいて、前記イオン源部に導入される前記試料ガス中の水分濃度がほぼ1%以下となるように前記第1の流量制御手段を制御する手段とを有し、前記標準物質の前記イオンの強度と前記測定対象物質の前記イオン強度に基づいて、前記測定対象物質の濃度が決定されることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項10に記載の化学物質モニタ装置において、前記導入配管に導入される前記乾燥空気の水分濃度がほぼ1%以下であることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項10に記載の化学物質モニタ装置において、前記導入配管の一端がPCB分解処理装置の排気管に接続され、該排気管から前記試料ガスが前記一端から前記導入配管に導入され、前記導入配管の他端が前記イオン源部に接続されることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項10に記載の化学物質モニタ装置において、屋外の大気中から前記試料ガスを採取する手段を有することを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 請求項10に記載の化学物質モニタ装置において、化学薬剤の検出又は化学薬剤の分解処理を行う化学薬剤処理室の内部に前記導入配管の一端が配置され、前記試料ガスが前記一端から前記導入配管に導入され、前記導入配管の他端が前記イオン源部に接続されることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- 一端がPCB分解処理装置の排気管に接続され該排気管から試料ガスが導入される導入配管と、該導入配管の他端に接続され前記試料ガスに含まれる測定対象物質のイオンを生成するイオン源部と、前記イオン源部を排気する排気用配管と、前記イオンの質量分析を行う質量分析部と、前記試料ガスを希釈する乾燥空気を前記導入配管に導入する第1の配管と、該第1の配管に配置され前記乾燥空気の流量を制御する第1の流量制御手段と、前記排気管と前記導入配管の接続部と前記第1の配管と前記導入配管の接続部との間で前記導入配管に接続され、前記測定対象物質の濃度の計測を行うための標準物質を前記導入配管に導入する第2の配管と、該第2の配管に配置され前記標準物質の流量を制御する第2の流量制御手段と、前記排気用配管の内部に配置され前記排気用配管の内部の気体中の水分濃度を検出する検出手段とを有し、前記検出手段の出力に基づいて、前記イオン源部に導入される前記試料ガス中の水分濃度がほぼ1%以下となるように前記第1の流量制御手段を制御する手段とを有し、前記標準物質の前記イオンの強度と前記測定対象物質の前記イオンの強度とから、前記測定対象物質の濃度が決定され、前記測定対象物質がPCBであることを特徴とする化学物質モニタ装置。
- イオン源部に接続される導入配管に試料ガスが流され、該試料ガスが前記イオン源部に導入される工程と、前記導入配管に接続される第1の配管に配置される第1の流量制御手段により、水分濃度がほぼ1%以下である乾燥空気の流量が制御され、前記試料ガスを希釈する前記乾燥空気が前記導入配管に導入される工程と、前記導入配管に接続される第2の配管に配置される第2の流量制御手段により、前記試料ガスに含まれる測定対象物質の濃度の計測を行うための標準物質の流量が制御され、該標準物質が前記導入配管に導入される工程と、前記測定対象物質のイオンが前記イオン源部で生成される工程と、前記イオンの質量分析を行う工程と、前記イオン源部を排気する排気用配管の内部の気体中の水分濃度を検出する工程と、前記気体中で検出された水分濃度に基づいて、前記イオン源部に導入される前記試料ガス中の水分濃度がほぼ1%以下となるように前記第1の流量制御手段が制御される工程と、前記標準物質の前記イオンの強度と前記測定対象物質の前記イオンの強度に基づいて、前記測定対象物質の濃度を決定する工程とを有することを特徴とする化学物質モニタ方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003329293A JP4603786B2 (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 化学物質モニタ装置及び化学物質モニタ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003329293A JP4603786B2 (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 化学物質モニタ装置及び化学物質モニタ方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009218411A Division JP4920067B2 (ja) | 2009-09-24 | 2009-09-24 | 化学物質モニタ装置及び化学物質モニタ方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005098705A true JP2005098705A (ja) | 2005-04-14 |
JP4603786B2 JP4603786B2 (ja) | 2010-12-22 |
Family
ID=34458571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003329293A Expired - Lifetime JP4603786B2 (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 化学物質モニタ装置及び化学物質モニタ方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4603786B2 (ja) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4603786B2 (ja) | 2010-12-22 |
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Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060511 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080901 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A521 | Request for written amendment filed |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20091204 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101004 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131008 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |