JP2005093943A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体構成体2の側面は傾斜面4となっている。これにより、半導体構成体2とその側面を覆っている絶縁層15との間に生じる応力を緩和することができる。
【選択図】 図1
Description
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記半導体構成体は、前記外部接続用電極としての柱状電極を有し、且つ、前記柱状電極の周囲に封止膜が設けられたものであることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記半導体構成体の側面全体が傾斜面となっていることを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記半導体構成体の封止膜の側面が傾斜面となっていることを特徴とするものである。
請求項5に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記半導体構成体の半導体基板の側面が傾斜面となっていることを特徴とするものである。
請求項6に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記上層再配線のうちの最上層の上層再配線の接続パッド部を除く部分を覆う最上層絶縁膜を有することを特徴とするものである。
請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の発明において、前記最上層の上層再配線の接続パッド部上に半田ボールが設けられていることを特徴とするものである。
図1はこの発明の第1実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置は平面矩形形状のベース板1を備えている。ベース板1は、ガラス繊維、アラミド繊維、液晶繊維等にエポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、BT(ビスマレイミド・トリアジン)樹脂、PPE(ポリフェニレンエーテル)等を含浸させたもの、あるいは、シリコン、ガラス、セラミックス、樹脂単体等の絶縁材料からなっている。
図16はこの発明の第2実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図1に示す場合と異なる点は、半導体構成体2の側面からなる傾斜面4の傾斜方向を逆方向とした点である。すなわち、図1に示す半導体装置では、半導体構成体2の側面からなる傾斜面4は、半導体構成体2の横方向の長さが下面側から上面側に向かうに従って漸次小さくなるような傾斜面となっているのに対し、図16に示す半導体装置では、半導体構成体2の側面からなる傾斜面4は、半導体構成体2の横方向の長さが下面側から上面側に向かうに従って漸次大きくなるような傾斜面となっている。図16に示す半導体構成体2を製造する場合には、図9に示す工程において、先端がほぼV字形状のダイシングブレード35を用いてシリコン基板5の下面側から切断すればよい。
図17はこの発明の第3実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図1に示す場合と異なる点は、半導体構成体2の封止膜14の側面のみを傾斜面4とした点である。この半導体装置の半導体構成体2を製造する場合には、図9に示す工程において、先端がほぼV字形状のダイシングブレードを用いて封止膜14およびその下側の部分にほぼV字形状の溝を形成し、次いで先端がストレートな通常のダイシングブレードを用いてシリコン基板5等を切断すればよい。
図18はこの発明の第4実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図16に示す場合と異なる点は、半導体構成体2の半導体基板5(接着層3を含む)の側面のみを傾斜面4とした点である。この半導体装置の半導体構成体2を製造する場合には、図9に示す工程において、先端がほぼV字形状のダイシングブレードを用いて接着層3を含むシリコン基板5およびその上側の部分にほぼV字形状の溝を形成し、次いで先端がストレートな通常のダイシングブレードを用いて封止膜14等を切断すればよい。
上記第1実施形態では、図1に示すように、第1の上層絶縁膜17上に上層再配線18を1層だけ形成した場合について説明したが、これに限らず、2層以上としてもよく、例えば、図19に示すこの発明の第5実施形態のように、2層としてもよい。すなわち、半導体構成体2および絶縁層15の上面にはビルドアップ材等からなる第1の上層絶縁膜51が設けられている。
2 半導体構成体
3 接着層
4 傾斜面
5 シリコン基板
6 接続パッド
12 再配線
13 柱状電極
14 封止膜
15 絶縁層
16 第1の上層絶縁膜
18 上層再配線
20 第2の上層絶縁膜
22 半田ボール
Claims (7)
- ベース板と、前記ベース板上に設けられ、且つ、半導体基板および該半導体基板上に設けられた複数の外部接続用電極を有する半導体構成体と、前記半導体構成体上およびその周囲における前記ベース板上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に前記半導体構成体の外部接続用電極に接続されて設けられ、且つ、少なくとも一部が前記半導体構成体の周囲における前記絶縁層上に設けられた接続パッド部を有する少なくとも1層の上層再配線とを備え、前記半導体構成体の少なくとも相対向する一対の側面が少なくともその一部が傾斜面となっていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記半導体構成体は、前記外部接続用電極としての柱状電極を有し、且つ、前記柱状電極の周囲に封止膜が設けられたものであることを特徴とする半導体装置。
- 請求項2に記載の発明において、前記半導体構成体の側面全体が傾斜面となっていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項2に記載の発明において、前記半導体構成体の封止膜の側面が傾斜面となっていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項2に記載の発明において、前記半導体構成体の半導体基板の側面が傾斜面となっていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1に記載の発明において、前記上層再配線のうちの最上層の上層再配線の接続パッド部を除く部分を覆う最上層絶縁膜を有することを特徴とする半導体装置。
- 請求項6に記載の発明において、前記最上層の上層再配線の接続パッド部上に半田ボールが設けられていることを特徴とする半導体装置。
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